JPH0471897A - グラビアシリンダーおよびその製造方法 - Google Patents
グラビアシリンダーおよびその製造方法Info
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- JPH0471897A JPH0471897A JP18448490A JP18448490A JPH0471897A JP H0471897 A JPH0471897 A JP H0471897A JP 18448490 A JP18448490 A JP 18448490A JP 18448490 A JP18448490 A JP 18448490A JP H0471897 A JPH0471897 A JP H0471897A
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- Japan
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- gravure cylinder
- film
- plating
- cylinder
- gravure
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野１
本発明は、耐刷力にすぐれたグラビアシリンダーおよび
その製造方法に関する。 ［従来の技術１ グラビア印刷に用いるグラビアシリンダーは、金属ロー
ルの表面を銅メッキし鏡面仕上げしたシリンダーに、電
子彫刻グラビア、コンベンショナルグラビアなとの方式
で製版して製造している。 ところで、グラビア印刷に使用するインキは多種多様で
あり、酸化チタンのような硬い顔料を含有するものも多
い。 このようなインキで印刷を行なっていると、グラ
ビアシリンダーが摩耗し、次第にインキの転移量が変化
するため刷りあがる絵柄も変ってくる。 このような摩耗への対策としては、版面をクロムメッキ
して耐刷力を高めたグラビアシリンダーが使用されてい
るが、それでも同一の絵柄を印刷できるシートの長さは
約５万ｍであり、ざらに高い耐刷力をもつグラビアシリ
ンダーが求められている。 それに加えて、グラビアシリンダー製造におけるクロム
の電解メッキは、メッキ廃液の処理を正しくしないと公
害問題をひきおこすから、なるべく避けたい。
その製造方法に関する。 ［従来の技術１ グラビア印刷に用いるグラビアシリンダーは、金属ロー
ルの表面を銅メッキし鏡面仕上げしたシリンダーに、電
子彫刻グラビア、コンベンショナルグラビアなとの方式
で製版して製造している。 ところで、グラビア印刷に使用するインキは多種多様で
あり、酸化チタンのような硬い顔料を含有するものも多
い。 このようなインキで印刷を行なっていると、グラ
ビアシリンダーが摩耗し、次第にインキの転移量が変化
するため刷りあがる絵柄も変ってくる。 このような摩耗への対策としては、版面をクロムメッキ
して耐刷力を高めたグラビアシリンダーが使用されてい
るが、それでも同一の絵柄を印刷できるシートの長さは
約５万ｍであり、ざらに高い耐刷力をもつグラビアシリ
ンダーが求められている。 それに加えて、グラビアシリンダー製造におけるクロム
の電解メッキは、メッキ廃液の処理を正しくしないと公
害問題をひきおこすから、なるべく避けたい。
本発明の目的は、上記のような事情にかんがみ、従来の
ものより耐刷力がいっそう高められたグラビアシリンダ
ーと、その製造方法を提供することにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明のグラビアシリンダーは、第１図および第２図に
示すように、製版したグラビアシリンダー（１）の版面
に、ビッカース硬度が１０００以上のＳｉＣ複合Ｎｒ
−ｐメッキ皮膜（２）を設けてなる。 メッキを施すグラビアシリンダーは、これまでと同様、
鏡面仕上げした銅シリンダーに通常の方法で版を彫った
ものを使用すればよい。 たとえば第２図に示したよう
な、アルミニウム製のロール（１１）の表面に第一の銅
メッキ層（１２）、銀メッキ層（１３）、１よび第二の
銅メッキ層（１４）を設け、製版したものである。 製
版法としては、エツチング、ミル押し、ダイヤ針彫刻、
レーザービーム彫刻などが知られており、それらのいず
れかを用いて深さ０．５〜５００μｍの穴を多数設ける
ことによって行なう。 皮膜の厚さは、３μｍ以上あれば十分である。 この皮膜は、ある程度以上に厚くしても耐刷力の向上に
寄与しないので、経済的見地から２０μｍを上限とする
ことが好ましい。 好適な範囲は、５〜１５μｍである
。 上記のグラビアシリンダーの製造方法は、上記のように
して製版したグラビアシリンダーを、ＳＣ粉末を分散さ
せたニツク−ル塩／次亜すン酸型無電解メッキ液に浸漬
して、シリンダー表面に、ＳｉＣ粉末を取り込みなから
Ｎ１およびＰを析出させてメッキ皮膜を形成し、皮膜の
表面を研摩したのち熱処理し、表面の硬さをビッカース
硬度１０００以上に高めることからなる。 使用するメッキ液は、ニッケルの塩化物または硫酸塩と
、還元剤である次亜リン酸ナトリウムを主成分とし、そ
のほかに適宜のｐｌ（調整剤、緩衝剤、錯化剤などの補
助成分を含むニッケル塩／次亜リン酸型無電解メッキ液
に、ＳｉＣ粉末を添加して分散させたものである。 添加するＳｉＣ粉末は、粒径がなるべく均一で、平均粒
径が０．１〜５μｍの範囲のものが好ましい。 メッキ液は、ｐＨを酸性に調整したものが、緻密でＰ含
有量が７〜１１％と高い皮膜が得られ、高い耐摩耗性を
達成しやすいため好ましい。 皮膜に複合されるＳｉＣ
量も低ｐＨｖｊ、でメッキした方が多く、耐摩耗性向上
に有利である。 ただし、ｐＨが低いとメッキ速度が小
さくなるので、工業的実施にはｐＨ４〜６の範囲が有利
である。 メッキ速度は、メッキ液の温度にも関係する。 酸性のメッキ液では、６０ ’Ｃ以下の温度でのＮｉ
−Ｐメッキ皮膜形成はあまり期待できず、般にそれより
高温にする。 一方で、高温でのメッキは皮膜に取り込
まれるＳｉＣ粉末の量を低下させるので、メッキ液の温
度はあまり高くしない方かよい。 皮膜表面の研摩は、サンドペーパーによる研摩やパフ研
摩など、既知の研摩手段によればよい。 熱処理の温度は、２００〜５００’Ｃ１とくに３００〜
４００ ’Ｃの範囲か、皮膜の硬度を高める上で好適で
ある。 ［作 用］ 本発明のグラビアシリンダーは、表面にＮＰ無電解メッ
キによる、ＳｉＣを複合した耐摩耗性の高い皮膜を形成
したことにより、従来のＣｒメッキ版をしのぐ高い耐刷
力を実現した。 本発明の方法において、次亜リン酸ナトリウムの還元力
を利用してＮ１とＰとを無電解メッキするとき、表面に
付着したＳｉＣ粉末がメッキ層に取り込まされる。 こ
のようにして形成されたメッキ皮膜のビッカース硬度は
約７００〜８００であるが、適切な熱処理をすることに
よって１０００以上に高まる。 これは、メッキ直後の
Ｎ１は非晶質でＰとともに層状構造をなしているが、加
熱すると非晶質が結晶質のＮｉ固溶体（Ｎｉ３ＰがＮｉ
に固溶したもの）となり、時間の経過につれてＮｉ −
Ｎ ｉ３Ｐ共晶体がＮｉマトリクス中に析出し、皮膜の
層状構造か消失するという機構による。 ［実施例］ アルミニウム製シリンダー（外径２００ｍ、肉厚１０＃
）の外周面に、厚さ７０μｍの銅メッキ、厚さ０．２μ
ｍの銀メッキおよび厚さ１２０μｍの銅メッキを順に施
した′グラビアシリンダーを用意した。 このグラビア
シリンダーを、ヘリオクリジョグラフで製版した。 製版したグラビアシリンダーを下記の無電解メッキ液に
浸漬して、版面に厚さ８μ■の皮膜を形成した。 塩化ニッケル ３０９／、Ｑ次亜リン酸ナ
トリウム １０９／、Ｑビトロキシ酢酸ナトリウム
５０９／Ｊｌ！炭化ケイ素粉末（平均粒径：１μＴｒ
Ｌ）５ｇ／ｌ 温度 ９０℃ １）Ｈ５ メッキ層の断面を観察したところ、このメッキ層中には
約１５体積％のＳｉＣが複合されていることがわかった
。 皮膜の表面をサンドペーパー（＃２０００＞で研摩した
後に、３００’Ｃの温度に加熱したオーブンに３時間入
れて熱処理した。 得られた本発明のグラビア版を使用して、酸化チタンを
含有するインキで、プラスチックシートに木目模様を印
刷した。 総延長２０万ｍを印刷したのちも、刷り上か
った模様は最初から最後まで同じであり、印刷後のグラ
ビアシリンダーもほとんど摩耗してなかった。 従来の
クロムメッキグラビアシリンダーで同一の模様が印刷で
きるプラスチックフィルムの総延長は、前記のように約
５万ｍである。 【発明の効果］ 本発明のグラビアシリンダーは、上述の実施例からも明
らかなように、従来品にない高い耐刷力を実現したもの
である。 このグラビアシリンダーを使用すれば、１版
で印刷できる量が増えてコストを下げられるだけでなく
、版の交換回数が少なくなって印刷の生産性を向上させ
ることができる。 無電解メッキを利用したグラビアシリンダーの製造方法
は、従来法のようにクロムを使用しないので、公害問題
がない。
ものより耐刷力がいっそう高められたグラビアシリンダ
ーと、その製造方法を提供することにある。 ［課題を解決するための手段］ 本発明のグラビアシリンダーは、第１図および第２図に
示すように、製版したグラビアシリンダー（１）の版面
に、ビッカース硬度が１０００以上のＳｉＣ複合Ｎｒ
−ｐメッキ皮膜（２）を設けてなる。 メッキを施すグラビアシリンダーは、これまでと同様、
鏡面仕上げした銅シリンダーに通常の方法で版を彫った
ものを使用すればよい。 たとえば第２図に示したよう
な、アルミニウム製のロール（１１）の表面に第一の銅
メッキ層（１２）、銀メッキ層（１３）、１よび第二の
銅メッキ層（１４）を設け、製版したものである。 製
版法としては、エツチング、ミル押し、ダイヤ針彫刻、
レーザービーム彫刻などが知られており、それらのいず
れかを用いて深さ０．５〜５００μｍの穴を多数設ける
ことによって行なう。 皮膜の厚さは、３μｍ以上あれば十分である。 この皮膜は、ある程度以上に厚くしても耐刷力の向上に
寄与しないので、経済的見地から２０μｍを上限とする
ことが好ましい。 好適な範囲は、５〜１５μｍである
。 上記のグラビアシリンダーの製造方法は、上記のように
して製版したグラビアシリンダーを、ＳＣ粉末を分散さ
せたニツク−ル塩／次亜すン酸型無電解メッキ液に浸漬
して、シリンダー表面に、ＳｉＣ粉末を取り込みなから
Ｎ１およびＰを析出させてメッキ皮膜を形成し、皮膜の
表面を研摩したのち熱処理し、表面の硬さをビッカース
硬度１０００以上に高めることからなる。 使用するメッキ液は、ニッケルの塩化物または硫酸塩と
、還元剤である次亜リン酸ナトリウムを主成分とし、そ
のほかに適宜のｐｌ（調整剤、緩衝剤、錯化剤などの補
助成分を含むニッケル塩／次亜リン酸型無電解メッキ液
に、ＳｉＣ粉末を添加して分散させたものである。 添加するＳｉＣ粉末は、粒径がなるべく均一で、平均粒
径が０．１〜５μｍの範囲のものが好ましい。 メッキ液は、ｐＨを酸性に調整したものが、緻密でＰ含
有量が７〜１１％と高い皮膜が得られ、高い耐摩耗性を
達成しやすいため好ましい。 皮膜に複合されるＳｉＣ
量も低ｐＨｖｊ、でメッキした方が多く、耐摩耗性向上
に有利である。 ただし、ｐＨが低いとメッキ速度が小
さくなるので、工業的実施にはｐＨ４〜６の範囲が有利
である。 メッキ速度は、メッキ液の温度にも関係する。 酸性のメッキ液では、６０ ’Ｃ以下の温度でのＮｉ
−Ｐメッキ皮膜形成はあまり期待できず、般にそれより
高温にする。 一方で、高温でのメッキは皮膜に取り込
まれるＳｉＣ粉末の量を低下させるので、メッキ液の温
度はあまり高くしない方かよい。 皮膜表面の研摩は、サンドペーパーによる研摩やパフ研
摩など、既知の研摩手段によればよい。 熱処理の温度は、２００〜５００’Ｃ１とくに３００〜
４００ ’Ｃの範囲か、皮膜の硬度を高める上で好適で
ある。 ［作 用］ 本発明のグラビアシリンダーは、表面にＮＰ無電解メッ
キによる、ＳｉＣを複合した耐摩耗性の高い皮膜を形成
したことにより、従来のＣｒメッキ版をしのぐ高い耐刷
力を実現した。 本発明の方法において、次亜リン酸ナトリウムの還元力
を利用してＮ１とＰとを無電解メッキするとき、表面に
付着したＳｉＣ粉末がメッキ層に取り込まされる。 こ
のようにして形成されたメッキ皮膜のビッカース硬度は
約７００〜８００であるが、適切な熱処理をすることに
よって１０００以上に高まる。 これは、メッキ直後の
Ｎ１は非晶質でＰとともに層状構造をなしているが、加
熱すると非晶質が結晶質のＮｉ固溶体（Ｎｉ３ＰがＮｉ
に固溶したもの）となり、時間の経過につれてＮｉ −
Ｎ ｉ３Ｐ共晶体がＮｉマトリクス中に析出し、皮膜の
層状構造か消失するという機構による。 ［実施例］ アルミニウム製シリンダー（外径２００ｍ、肉厚１０＃
）の外周面に、厚さ７０μｍの銅メッキ、厚さ０．２μ
ｍの銀メッキおよび厚さ１２０μｍの銅メッキを順に施
した′グラビアシリンダーを用意した。 このグラビア
シリンダーを、ヘリオクリジョグラフで製版した。 製版したグラビアシリンダーを下記の無電解メッキ液に
浸漬して、版面に厚さ８μ■の皮膜を形成した。 塩化ニッケル ３０９／、Ｑ次亜リン酸ナ
トリウム １０９／、Ｑビトロキシ酢酸ナトリウム
５０９／Ｊｌ！炭化ケイ素粉末（平均粒径：１μＴｒ
Ｌ）５ｇ／ｌ 温度 ９０℃ １）Ｈ５ メッキ層の断面を観察したところ、このメッキ層中には
約１５体積％のＳｉＣが複合されていることがわかった
。 皮膜の表面をサンドペーパー（＃２０００＞で研摩した
後に、３００’Ｃの温度に加熱したオーブンに３時間入
れて熱処理した。 得られた本発明のグラビア版を使用して、酸化チタンを
含有するインキで、プラスチックシートに木目模様を印
刷した。 総延長２０万ｍを印刷したのちも、刷り上か
った模様は最初から最後まで同じであり、印刷後のグラ
ビアシリンダーもほとんど摩耗してなかった。 従来の
クロムメッキグラビアシリンダーで同一の模様が印刷で
きるプラスチックフィルムの総延長は、前記のように約
５万ｍである。 【発明の効果］ 本発明のグラビアシリンダーは、上述の実施例からも明
らかなように、従来品にない高い耐刷力を実現したもの
である。 このグラビアシリンダーを使用すれば、１版
で印刷できる量が増えてコストを下げられるだけでなく
、版の交換回数が少なくなって印刷の生産性を向上させ
ることができる。 無電解メッキを利用したグラビアシリンダーの製造方法
は、従来法のようにクロムを使用しないので、公害問題
がない。
第１図および第２図は、いずれも本発明のグラビアシリ
ンダーを説明するための図であって、第１図はグラビア
シリンダーの縦断面図、第２図はグラビアシリンダーの
一部を拡大した断面図である。 １・・・グラビアシリンダー ２・・・皮 膜 第１図 第２図
ンダーを説明するための図であって、第１図はグラビア
シリンダーの縦断面図、第２図はグラビアシリンダーの
一部を拡大した断面図である。 １・・・グラビアシリンダー ２・・・皮 膜 第１図 第２図
Claims (2)
- （１）製版したグラビアシリンダーの版面に、ビッカー
ス硬度が１０００以上のＳｉＣ複合Ｎｉ−Ｐメッキ皮膜
を設けてなるグラビアシリンダー。 - （２）製版したグラビアシリンダーを、ＳｉＣ粉末を分
散させたニッケル塩／次亜リン酸型無電解メッキ液に浸
漬して、シリンダー表面に、ＳｉＣ粉末を取り込みなが
らＮｉおよびＰを析出させてメッキ皮膜を形成し、皮膜
の表面を研摩したのち熱処理し、表面の硬さをビッカー
ス硬度１０００以上に高めることからなるグラビアシリ
ンダーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18448490A JP2937426B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | グラビアシリンダーおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18448490A JP2937426B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | グラビアシリンダーおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0471897A true JPH0471897A (ja) | 1992-03-06 |
| JP2937426B2 JP2937426B2 (ja) | 1999-08-23 |
Family
ID=16153986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18448490A Expired - Lifetime JP2937426B2 (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | グラビアシリンダーおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2937426B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5744225A (en) * | 1993-09-03 | 1998-04-28 | Kabushiki Kaisha Sekuto Kagaku | Heat insulating board and method for heat insulation by using the same |
| WO1999012722A1 (en) * | 1997-09-11 | 1999-03-18 | Eastman Kodak Company | Apparatus for forming a lenticular sheet and associated methods |
| JP2007535417A (ja) * | 2003-07-03 | 2007-12-06 | エーステライヒシェ バンクノーテン− ウント ズィヒャーハイツドルック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | インタグリオ凹版印刷のための版板を製造するための方法及びインタグリオ凹版印刷のための版板 |
| WO2008047581A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-24 | Fuji Tokushu Shigyo Co., Ltd. | Matériau de conditionnement flexible et stratifié et son procédé de fabrication |
-
1990
- 1990-07-12 JP JP18448490A patent/JP2937426B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5744225A (en) * | 1993-09-03 | 1998-04-28 | Kabushiki Kaisha Sekuto Kagaku | Heat insulating board and method for heat insulation by using the same |
| WO1999012722A1 (en) * | 1997-09-11 | 1999-03-18 | Eastman Kodak Company | Apparatus for forming a lenticular sheet and associated methods |
| JP2007535417A (ja) * | 2003-07-03 | 2007-12-06 | エーステライヒシェ バンクノーテン− ウント ズィヒャーハイツドルック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | インタグリオ凹版印刷のための版板を製造するための方法及びインタグリオ凹版印刷のための版板 |
| WO2008047581A1 (fr) * | 2006-10-02 | 2008-04-24 | Fuji Tokushu Shigyo Co., Ltd. | Matériau de conditionnement flexible et stratifié et son procédé de fabrication |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2937426B2 (ja) | 1999-08-23 |
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