JPH0472055A - 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 - Google Patents

真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法

Info

Publication number
JPH0472055A
JPH0472055A JP18122990A JP18122990A JPH0472055A JP H0472055 A JPH0472055 A JP H0472055A JP 18122990 A JP18122990 A JP 18122990A JP 18122990 A JP18122990 A JP 18122990A JP H0472055 A JPH0472055 A JP H0472055A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
organic
vacuum
substance
evaporation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP18122990A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2858440B2 (ja
Inventor
Michisaburo Taira
平 至三郎
Yasusaburo Takano
高野 泰三郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOKYO SEIHIN KAIHATSU KENKYUSHO KK
Original Assignee
TOKYO SEIHIN KAIHATSU KENKYUSHO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TOKYO SEIHIN KAIHATSU KENKYUSHO KK filed Critical TOKYO SEIHIN KAIHATSU KENKYUSHO KK
Priority to JP18122990A priority Critical patent/JP2858440B2/ja
Publication of JPH0472055A publication Critical patent/JPH0472055A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2858440B2 publication Critical patent/JP2858440B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は真空蒸着方法に関するもので、特に無機物系蒸
着被膜形成手段と有機物系蒸着被膜形成手段とを有する
真空蒸着装置内で、光学部品等を無機物系蒸着物質で真
空蒸着処理した上に、さらに有機保護被膜を形成するこ
とを特徴とする真空蒸着方法に関するものである。
従来技術 一般に化学物質は融点・沸点を有するものであるが、特
に沸点に於いては圧力依存性があり高圧では高く減圧側
で低くなる。この事から通常の圧力では沸騰しにくい物
質も減圧をする事で容易に蒸発が起きる様になる。この
時蒸発物質の通り道に固形物を存在させることによって
、その表面が蒸発物の析出物で覆われるが、これが真空
蒸着の原理である。光学部品等を真空蒸着で処理をする
と、その処理の性格上被処理物表面は無機性蒸着物質の
結晶の付着によって生じる非常に小さい激しい凹凸が生
じる。この凹凸の隙間を充填して滑らかにし、光学的な
性質を損ねることなく保護膜を形成し、手指などが触れ
たりして生じる汚染から保護するために保護被膜が使用
されるが、用いる被膜は従来はその物質を溶剤によって
溶液とし、塗布処理の後蒸発乾固して保護膜としていた
被膜形成物質を溶液として塗布することにより、一定の
効果があることが知られているが、非常に薄い膜を底膜
しなければならないため大量の溶剤で希薄な溶液として
いる。従来技術で使用する溶剤はいわゆるフロン系のオ
ゾン層破壊物質であり、近年開発された非フロン系の溶
剤も将来規制物質検討の対象として考えられる有機弗素
系ないしは有機塩素系化合物である。
また、従来技術では蒸着装置から取り出した後、別に用
意した工程で被膜を形成するが、その工程は溶液の濃度
調整、塗布、乾燥とに分かれ、従来技術で通常に操作す
ると真空蒸着装置内部は蒸着終了後直ちに大気圧に解放
され品物が取り出され、この時被処理物の表面は蒸着さ
れた結晶性の物質が表面に粒子状に付着しているので外
部からの汚染に非常に弱い状態となっているばかりでな
く、大気解放の際空気または窒素ガスなどを導入して生
じた気流によって装置内部に堆積していた蒸着物質が舞
い上がり、被処理物に再付着するため、次工程で湿式の
洗浄工程が欠かせない等の問題点があることは周知の通
りである。
発明が解決しようとする問題点 このよう′に従来の保護被膜の形成には使用溶剤による
環境汚染の問題と、工程上からもたらされる表面洗浄の
問題があったことは周知の通りであり、従って本発明は
これら従来不可欠とされてきた溶剤の使用と、湿式洗浄
工程の使用の欠点を解消することを目的とするものであ
り、特に有機物系の被膜形成物質を溶媒を全く使用する
ことなく蒸発させて付着固化させることを目的とするも
のである。
問題点を解決するための手段 本発明は無機物系蒸着被膜形成手段と有機物系蒸着被膜
形成手段とを有する真空蒸着装置内で、光学部品等を無
機物系蒸着物質で真空蒸着処理した上に、さらに有機保
護被膜を形成することを特徴とする真空蒸着方法に関す
るもので、特に、有機系保護被膜の形成が、真空中で気
化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セ
ラミックスを加熱することによって行なわれる真空蒸着
方法及び真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸
固化させたことを特徴とする多孔性セラミックス材料に
関するものである。
すなわち、本発明はこれまで不可欠とされてきた溶剤の
使用を完全に不要とする無溶剤化の原理によって有機物
系の被膜形成物質を蒸発し付着固化させるものであるが
、この場合被膜形成物の溶融液や溶液を容易に吸収する
ことができ、しかも真空中で蒸発しない媒介物が必要で
あり、この目的のため一般に多孔性セラミックスの使用
が望ましいものである。その際被膜形成物質は多孔質性
セラミックスに吸収されているが、有機物系化合物が無
溶剤の物であっても全(差しつかえがない。
実施例 以下に本発明の実施例を示すが、これらの実施例が単に
本発明の具体例を示すためのものに過ぎず、本発明を限
定するためのものでないことは自明である。
実施例1゜ 有機物系の被膜形成物質である蒸着物質としてポリ−エ
チレンワックスを溶融し、予め充分乾燥しである15X
15X1ミリメートルの多孔性セラミックスに吸収させ
た。このセラミックスの増量は1個あたり0.20グラ
ムである。
ここで得たセラミックス1個を直径グ600ミリメート
ルの真空蒸着装置に挿入し通常の蒸着操作の後85度に
加熱して゛蒸発させた。
干渉法によって膜厚を測定すると0.03マイクロメー
トルであった。これは保護膜として充分機能する厚みで
ある。
実施例2 有機物系の被膜形成物質である蒸着物質としてシリコー
ン樹脂化合物の溶液を用いた。
この物の蒸発残留物は3チであった。直径グ15ミリメ
ートル球状の多孔性セラミックスを用意し、あらかじめ
充分に乾燥した後シリコーン樹脂溶液を吸収させて溶剤
回収装置の付いた乾燥装置で10’トールまで減圧乾燥
し蒸発性物質を除去した。この操作によるセラミックス
の増量は1個あたり0.50グラムであるようKした。
このセラミックス2個を直径96600ミリメートル真
空蒸着装置に挿入し通常の蒸着操作の後、150度に加
熱して蒸発させた。干渉法によって膜厚を測定すると0
.08マイクロメートルであったこれは保護膜として充
分機能する厚みである。
実施例36 有機物系被膜形成物質である蒸着物質として脱アンモニ
ア型ウレタンモノマーを用いた。
この物の蒸発残留物は25%であった。この物を不定型
に破砕して充分に乾燥した多孔性セラミックスに吸収さ
せて実施例2で用いた乾燥装置で乾燥した。この操作に
よるセラミックス1.0グラムあたシの増量は0.2グ
ラムすなわち20%であった。このセラミックスを2グ
ラム分は取シ直径60(H!Jメートル真空蒸着装置に
挿入し通常の蒸着操作の後、50度に加熱して蒸発させ
た。また被処理物は別の加熱装置によJ 150度に保
った。干渉法によって膜厚を測定すると0.05マイク
ロメートルであった。これは保護膜として充分機能する
厚みである。
本発明では洗浄塗布工程を蒸着まで含めて1つの工程と
し、更に被膜形成のための細〃・な調整を不要としてし
まうものである。また、多孔質セラミックスに含浸させ
る場合、セラミックスの大きさ、溶液の粘度などを調整
することで被膜形成物質の量が調節でき、その作用を及
ぼす必要のある被処理物の量が一定している真空蒸着装
置に対していつも決まった量を供給できる。特にその必
要量が微量で良い場合は純粋な被膜形成物質のみでは計
量に困難を伴ない熟練を要するがいつも一定量をセラミ
ックスに吸収させてあれば特別な計器を必要とせず計数
が容易である。従ってこれが完全に無くなるように調整
した蒸発装置で処理すると自ずと必要量だけ蒸発するこ
とになる。また、この方法によれば被処理物を加熱する
ことが容易なので被処理物上で重合させて膜を形成する
ようにすることも可能である。
寸だ、本発明では蒸着後引き続き同じ真空装置内で保護
被膜の形成処理をするため洗浄工程が不要となり、溶剤
は製造工程でのみ使用され、回収が可能であり、このた
め工場から搬出される製品は全く無溶剤となる利点があ
る。
出  願  人

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.無機物系蒸着被膜形成手段と有機物系蒸着被膜形成
    手段とを有する真空蒸着装置内で、光学部品等を無機物
    系蒸着物質で真空蒸着処理した上に、さらに有機保護被
    膜を形成することを特徴とする真空蒸着方法。
  2. 2.有機系保護被膜の形成が、真空中で気化し得る有機
    系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックスを
    加熱することによって行なわれる特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
  3. 3.真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化
    させたことを特徴とする多孔性セラミックス材料。
JP18122990A 1990-07-09 1990-07-09 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 Expired - Fee Related JP2858440B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18122990A JP2858440B2 (ja) 1990-07-09 1990-07-09 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18122990A JP2858440B2 (ja) 1990-07-09 1990-07-09 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8199871A Division JP2892619B2 (ja) 1996-06-17 1996-06-17 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体
JP8199872A Division JP2892620B2 (ja) 1996-06-17 1996-06-17 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体を用いる光学部品の真空蒸着方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0472055A true JPH0472055A (ja) 1992-03-06
JP2858440B2 JP2858440B2 (ja) 1999-02-17

Family

ID=16097068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18122990A Expired - Fee Related JP2858440B2 (ja) 1990-07-09 1990-07-09 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2858440B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5622784A (en) * 1986-01-21 1997-04-22 Seiko Epson Corporation Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating
EP0842711A1 (en) * 1996-11-14 1998-05-20 Canon Kabushiki Kaisha Thin-film forming material and method for forming thin-film
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
US6942924B2 (en) 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5622784A (en) * 1986-01-21 1997-04-22 Seiko Epson Corporation Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
EP0842711A1 (en) * 1996-11-14 1998-05-20 Canon Kabushiki Kaisha Thin-film forming material and method for forming thin-film
US6119626A (en) * 1996-11-14 2000-09-19 Canon Kabushiki Kaisha Vacuum apparatus for forming a thin-film and method for forming thin-film
US6942924B2 (en) 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system

Also Published As

Publication number Publication date
JP2858440B2 (ja) 1999-02-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3197563B2 (ja) 真空フラッシュ蒸発されたポリマー複合材料
JP3602277B2 (ja) 光学基体上に撥水性コーティングを施すための材料およびその方法
US5110622A (en) Process for preparing a metal sulfide thin film
EP1448366A1 (en) Forming thin films on substrates using a porous carrier
MD1728C2 (ro) Material modificat, material antimicrobian modificat, procedeu de obţinere a materialului modificat, procedeu de formare a învelişului antimicrobian şi dispozitiv medical, ce are pe suprafaţa sa înveliş antimicrobian
JPH07173614A (ja) プラスチック品のバリアコーティング方法
KR19980042381A (ko) 박막 형성재 및 박막 형성 방법
US20010033893A1 (en) Composition for preparing water-repellent coatings on optical substrates
JPH0472055A (ja) 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法
JP2011201772A (ja) フッ化物層の上に疎水性層を製造するための方法および組成物
TW200842037A (en) Device package and method of making a device package
CA2198983A1 (en) Device for coating a substrate surface
US3192064A (en) Coating
JP2016526292A (ja) 基板をコーティングする装置及び方法
EP0561016A1 (en) Multilayer coating by vacuum vapor deposition
JPH0913167A (ja) 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体を用いる光学部品の真空蒸着方法
US5897925A (en) Fog-resistant microporous SiOH films and the method of manufacturing the same
JP2892619B2 (ja) 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体
GB1582860A (en) Device
US3939098A (en) Suspension for depositing a pyroelectric material
JP4299052B2 (ja) 超薄膜形成方法
JPH04139005A (ja) 無機化合物薄膜の製造方法
JPH01213385A (ja) 低融点物質の圧密法
JPS609924Y2 (ja) レコ−ド
US3460970A (en) Chromatographic plate and method of making same

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071204

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081204

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081204

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091204

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees