JPH0472055A - 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 - Google Patents
真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法Info
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- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 14
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 14
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 12
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 6
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 abstract 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
着被膜形成手段と有機物系蒸着被膜形成手段とを有する
真空蒸着装置内で、光学部品等を無機物系蒸着物質で真
空蒸着処理した上に、さらに有機保護被膜を形成するこ
とを特徴とする真空蒸着方法に関するものである。
に沸点に於いては圧力依存性があり高圧では高く減圧側
で低くなる。この事から通常の圧力では沸騰しにくい物
質も減圧をする事で容易に蒸発が起きる様になる。この
時蒸発物質の通り道に固形物を存在させることによって
、その表面が蒸発物の析出物で覆われるが、これが真空
蒸着の原理である。光学部品等を真空蒸着で処理をする
と、その処理の性格上被処理物表面は無機性蒸着物質の
結晶の付着によって生じる非常に小さい激しい凹凸が生
じる。この凹凸の隙間を充填して滑らかにし、光学的な
性質を損ねることなく保護膜を形成し、手指などが触れ
たりして生じる汚染から保護するために保護被膜が使用
されるが、用いる被膜は従来はその物質を溶剤によって
溶液とし、塗布処理の後蒸発乾固して保護膜としていた
。
効果があることが知られているが、非常に薄い膜を底膜
しなければならないため大量の溶剤で希薄な溶液として
いる。従来技術で使用する溶剤はいわゆるフロン系のオ
ゾン層破壊物質であり、近年開発された非フロン系の溶
剤も将来規制物質検討の対象として考えられる有機弗素
系ないしは有機塩素系化合物である。
意した工程で被膜を形成するが、その工程は溶液の濃度
調整、塗布、乾燥とに分かれ、従来技術で通常に操作す
ると真空蒸着装置内部は蒸着終了後直ちに大気圧に解放
され品物が取り出され、この時被処理物の表面は蒸着さ
れた結晶性の物質が表面に粒子状に付着しているので外
部からの汚染に非常に弱い状態となっているばかりでな
く、大気解放の際空気または窒素ガスなどを導入して生
じた気流によって装置内部に堆積していた蒸着物質が舞
い上がり、被処理物に再付着するため、次工程で湿式の
洗浄工程が欠かせない等の問題点があることは周知の通
りである。
環境汚染の問題と、工程上からもたらされる表面洗浄の
問題があったことは周知の通りであり、従って本発明は
これら従来不可欠とされてきた溶剤の使用と、湿式洗浄
工程の使用の欠点を解消することを目的とするものであ
り、特に有機物系の被膜形成物質を溶媒を全く使用する
ことなく蒸発させて付着固化させることを目的とするも
のである。
形成手段とを有する真空蒸着装置内で、光学部品等を無
機物系蒸着物質で真空蒸着処理した上に、さらに有機保
護被膜を形成することを特徴とする真空蒸着方法に関す
るもので、特に、有機系保護被膜の形成が、真空中で気
化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セ
ラミックスを加熱することによって行なわれる真空蒸着
方法及び真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸
固化させたことを特徴とする多孔性セラミックス材料に
関するものである。
使用を完全に不要とする無溶剤化の原理によって有機物
系の被膜形成物質を蒸発し付着固化させるものであるが
、この場合被膜形成物の溶融液や溶液を容易に吸収する
ことができ、しかも真空中で蒸発しない媒介物が必要で
あり、この目的のため一般に多孔性セラミックスの使用
が望ましいものである。その際被膜形成物質は多孔質性
セラミックスに吸収されているが、有機物系化合物が無
溶剤の物であっても全(差しつかえがない。
本発明の具体例を示すためのものに過ぎず、本発明を限
定するためのものでないことは自明である。
チレンワックスを溶融し、予め充分乾燥しである15X
15X1ミリメートルの多孔性セラミックスに吸収させ
た。このセラミックスの増量は1個あたり0.20グラ
ムである。
ルの真空蒸着装置に挿入し通常の蒸着操作の後85度に
加熱して゛蒸発させた。
トルであった。これは保護膜として充分機能する厚みで
ある。
ン樹脂化合物の溶液を用いた。
ートル球状の多孔性セラミックスを用意し、あらかじめ
充分に乾燥した後シリコーン樹脂溶液を吸収させて溶剤
回収装置の付いた乾燥装置で10’トールまで減圧乾燥
し蒸発性物質を除去した。この操作によるセラミックス
の増量は1個あたり0.50グラムであるようKした。
空蒸着装置に挿入し通常の蒸着操作の後、150度に加
熱して蒸発させた。干渉法によって膜厚を測定すると0
.08マイクロメートルであったこれは保護膜として充
分機能する厚みである。
ア型ウレタンモノマーを用いた。
に破砕して充分に乾燥した多孔性セラミックスに吸収さ
せて実施例2で用いた乾燥装置で乾燥した。この操作に
よるセラミックス1.0グラムあたシの増量は0.2グ
ラムすなわち20%であった。このセラミックスを2グ
ラム分は取シ直径60(H!Jメートル真空蒸着装置に
挿入し通常の蒸着操作の後、50度に加熱して蒸発させ
た。また被処理物は別の加熱装置によJ 150度に保
った。干渉法によって膜厚を測定すると0.05マイク
ロメートルであった。これは保護膜として充分機能する
厚みである。
し、更に被膜形成のための細〃・な調整を不要としてし
まうものである。また、多孔質セラミックスに含浸させ
る場合、セラミックスの大きさ、溶液の粘度などを調整
することで被膜形成物質の量が調節でき、その作用を及
ぼす必要のある被処理物の量が一定している真空蒸着装
置に対していつも決まった量を供給できる。特にその必
要量が微量で良い場合は純粋な被膜形成物質のみでは計
量に困難を伴ない熟練を要するがいつも一定量をセラミ
ックスに吸収させてあれば特別な計器を必要とせず計数
が容易である。従ってこれが完全に無くなるように調整
した蒸発装置で処理すると自ずと必要量だけ蒸発するこ
とになる。また、この方法によれば被処理物を加熱する
ことが容易なので被処理物上で重合させて膜を形成する
ようにすることも可能である。
被膜の形成処理をするため洗浄工程が不要となり、溶剤
は製造工程でのみ使用され、回収が可能であり、このた
め工場から搬出される製品は全く無溶剤となる利点があ
る。
Claims (3)
- 1.無機物系蒸着被膜形成手段と有機物系蒸着被膜形成
手段とを有する真空蒸着装置内で、光学部品等を無機物
系蒸着物質で真空蒸着処理した上に、さらに有機保護被
膜を形成することを特徴とする真空蒸着方法。 - 2.有機系保護被膜の形成が、真空中で気化し得る有機
系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックスを
加熱することによって行なわれる特許請求の範囲第1項
記載の方法。 - 3.真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化
させたことを特徴とする多孔性セラミックス材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18122990A JP2858440B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18122990A JP2858440B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8199871A Division JP2892619B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体 |
| JP8199872A Division JP2892620B2 (ja) | 1996-06-17 | 1996-06-17 | 光学部品用の有機系被膜形成性物質を含浸固化している多孔質セラミックス焼結体を用いる光学部品の真空蒸着方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0472055A true JPH0472055A (ja) | 1992-03-06 |
| JP2858440B2 JP2858440B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=16097068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18122990A Expired - Fee Related JP2858440B2 (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 | 真空中で気化し得る有機系被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックス材料およびそれを用いた有機物質系蒸着被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2858440B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622784A (en) * | 1986-01-21 | 1997-04-22 | Seiko Epson Corporation | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| EP0842711A1 (en) * | 1996-11-14 | 1998-05-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Thin-film forming material and method for forming thin-film |
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| US5783299A (en) * | 1986-01-21 | 1998-07-21 | Seiko Epson Corporation | Polarizer plate with anti-stain layer |
| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP18122990A patent/JP2858440B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US6942924B2 (en) | 2001-10-31 | 2005-09-13 | Chemat Technology, Inc. | Radiation-curable anti-reflective coating system |
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| Publication number | Publication date |
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| JP2858440B2 (ja) | 1999-02-17 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081204 Year of fee payment: 10 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091204 Year of fee payment: 11 |
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