JPH0474523A - バブラー型原料気化容器 - Google Patents

バブラー型原料気化容器

Info

Publication number
JPH0474523A
JPH0474523A JP18920490A JP18920490A JPH0474523A JP H0474523 A JPH0474523 A JP H0474523A JP 18920490 A JP18920490 A JP 18920490A JP 18920490 A JP18920490 A JP 18920490A JP H0474523 A JPH0474523 A JP H0474523A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
container
carrier gas
gasifying
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18920490A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoshi Hattori
聡 服部
Kazuo Yotsuya
四ッ谷 和雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP18920490A priority Critical patent/JPH0474523A/ja
Publication of JPH0474523A publication Critical patent/JPH0474523A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体や光ファイバー等の製造に用いられるバ
ブラー型原料気化容器に関するもので、特に原料をキャ
リアガスに十分に飽和させた状態で送り出せるようにし
たものである。
〔従来の技術〕
従来半導体や光ファイバー等の製造に用いられるバブラ
ー型原料気化容器は、第3図に示すように液体又は固体
原料(2)を入れて恒温に保持した気化容器(1)内に
、ディップチューブ(3)を通してキャリアガスを送太
し、バブリングを行なって原料(2)を気化させ、キャ
リアガスに飽和させて原料出口(4)より送出するよう
になっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
バブラー型原料気化容器は、内部の原料を恒温に保持す
るため恒温槽に入れ、気化容器内を均一温度に保ちなが
ら作動させているが、通常の容器では熱伝達が遅く、内
部が均一温度に達するまでに時間がかかる上、気泡が原
料内を通過する時間が小さいため未飽和の状態で原料ガ
スを送り出すことになる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はこれに鑑み種々検討の結果、原料が短時間で設
定温度に達すると共に、原料温度が均一となり、キャリ
アガスの気泡の通過経路を長くし、キャリアガスに原料
ガスを十分に飽和させた状態で送り出すことができるバ
ブラー型原料気化容器を開発したものである。
即ち本発明は、原料を入れて恒温に保持した気化容器内
に、ディップチューブを通してキャリアガスを送入する
ことによりバブリングを行い、原料を気化させてキャリ
アガスに飽和させて送出する原料気化容器において、気
化容器内に突出する熱伝導性フィンを設けたことを特徴
とするもので、気化容器内に突出する熱伝導性フィンを
中空とし、フィン内に恒温に保持する熱媒体が入り込め
る構造とするとよい。
〔作 用〕
本発明は上記の如く、バブラー型原料気化容器内に突出
する熱伝導性フィンを設けることにより、容器内に充填
される原料との接触面積を増大し、原料が所定温度に達
するまでの時間を短縮する。また原料温度が均一化する
ばかりか、キャリアガスの気泡がフィンに衝突して原料
内の通過経路が長くなるため、キャリアガスに原料ガス
を充分に飽和させた状態で送り出すことができる。
〔実施例〕
以1;本発明の実施例について説明する。
実施例1 第1図に示すように液体又は固体原料(2)を入れて恒
温に保持した気化容器(1)内に、熱伝導性フィン(5
)を突設した。このようにしてディップチューブ(3)
にキャリアガスを送入してバブリングを行ない、原料(
2)を気化させてキャリアガスに飽和させて原料出目(
4)より送出した。
この気化容器によれば、気化容器内の原料は恒温槽の媒
体により設定温度に保たれると共に、気化容器と気化容
器内の原料との接触面積が増大するため、原料が所定温
度に達するまでの時間を短縮することがそきる。また原
料温度が均一になるばかりか、バブリングしたキャリア
ガスの気泡がフィンに衝突し、原料内の通過経路が長く
なるため、キャリアガスは原料ガスを十分飽和した状態
とすることができる。
実施例2 第2図に示すように、液体又は固体原料(2)を入れて
恒温に保持した気化容器(1)内に、熱伝導性フィン(
5)を突設すると共に、該フィン(5)を中空とし、フ
ィン(5)内に恒温の熱媒体が入り込める構造とした。
このようにして気化容器(1)内にディップチューブ(
3)よりキャリアガスを供給してバブリングを行ない、
原料(2)を気化させてキャリアガスに飽和させて原料
出口(4)より送出した。
この気化容器によれば、気化容器内の原料は恒温槽の媒
体により設定温度に保たれると共に、気化容器と気化容
器内の原料との接触面積が更に増大するため、原料が所
定温度に達する時間を一層短縮することができる。また
原料温度が均一になるばかりか、バブリングしたキャリ
アガスの気泡がフィンに衝突し、原料内の通過経路が長
くなるため、キャリアガスは原料ガスを十分飽和した状
態とすることができる。
〔発明の効果〕
このように本発明によれば、恒温槽内に気化容器を入れ
ると短時間で充填原料が設定温度に達し、原料温度が均
一になり、キャリアガスに原料ガスを十分に飽和させた
状態で送り出すことができる等工業上顕著な効果を奏す
るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明気化容器の一実施例を示す側断面図、第
2図は本発明気化容器の他の実施例を示す斜視図、第3
図は従来気化容器の一例を示す側断面図である。 ■・・・容 器 2・・・原 料 3・・・ディップチューブ 4・・・原料出口 5・・・フィン 第1図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)原料を入れて恒温に保持した気化容器内に、ディ
    ップチューブを通してキャリアガスを送入することによ
    りバブリングを行い、原料を気化させてキャリアガスに
    飽和させて送出する原料気化容器において、気化容器内
    に突出する熱伝導性フィンを設けたことを特徴とするバ
    ブラー型原料気化容器。
  2. (2)気化容器内に突出する熱伝導性フィンを中空とし
    、フィン内に恒温に保持する熱媒体が入り込める構造と
    する請求項(1)記載のバブラー型原料気化容器。
JP18920490A 1990-07-17 1990-07-17 バブラー型原料気化容器 Pending JPH0474523A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18920490A JPH0474523A (ja) 1990-07-17 1990-07-17 バブラー型原料気化容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18920490A JPH0474523A (ja) 1990-07-17 1990-07-17 バブラー型原料気化容器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0474523A true JPH0474523A (ja) 1992-03-09

Family

ID=16237275

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18920490A Pending JPH0474523A (ja) 1990-07-17 1990-07-17 バブラー型原料気化容器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0474523A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002359238A (ja) * 2001-06-01 2002-12-13 Tokyo Electron Ltd 固体原料気化装置および固体原料気化方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002359238A (ja) * 2001-06-01 2002-12-13 Tokyo Electron Ltd 固体原料気化装置および固体原料気化方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070120275A1 (en) High stability and high capacity precursor vapor generation for thin film deposition
KR101178002B1 (ko) 기화기, 기화기 사용 방법, 기화 장치 사용 방법, 용기, 기화기 유닛 및 반도체 프로세스 챔버용 증기 발생 방법
US5553395A (en) Bubbler for solid metal organic source material and method of producing saturated carrying gas
US6718126B2 (en) Apparatus and method for vaporizing solid precursor for CVD or atomic layer deposition
ES2082007T3 (es) Metodo para preparar reactivos vaporizados para el deposito quimico por vapor.
JP3118493B2 (ja) 液体原料用cvd装置
KR910011673A (ko) 불꽃가수분해 용착(deposition)을 위한 반응물 이송장치용 플레쉬 증발기(flash vaporizer) 시스템 및 이를 이용한 광도파로 예형의 제조방법
US20030116091A1 (en) Chemical vapor deposition vaporizer
US8393599B2 (en) Apparatus for liquid precursor atomization
JPS60186072A (ja) 太陽電池パネル
JPH0828332B2 (ja) 液体蒸発装置
JP2013138238A (ja) 固形化合物の蒸気を一定供給するためのバブラー
US20050249873A1 (en) Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices
KR20010050136A (ko) 이중 프릿을 가진 버블러
JP2006522495A (ja) 大面積基板上に酸化シリコンを堆積する為の方法および装置
JPH0474523A (ja) バブラー型原料気化容器
US6089548A (en) Process and device for converting a liquid stream flow into a gas stream flow
JPH038330A (ja) 液状半導体形成材料気化供給装置
EP0143611B1 (en) Bubbling evaporator
GB1031519A (en) Method of producing vapours of controlled composition
JPH03126872A (ja) 液状半導体形成材料気化供給装置
JP2943076B2 (ja) バブリング機構とこれを含む表面処理装置
JP3221952B2 (ja) Cvd用原料ガスの発生装置
JPH01298168A (ja) 金属化合物の形成装置
KR100322410B1 (ko) 액체원료 기화장치