JPH0475952U - - Google Patents

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JPH0475952U
JPH0475952U JP11993590U JP11993590U JPH0475952U JP H0475952 U JPH0475952 U JP H0475952U JP 11993590 U JP11993590 U JP 11993590U JP 11993590 U JP11993590 U JP 11993590U JP H0475952 U JPH0475952 U JP H0475952U
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thin film
sample
brought
stage
optical means
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  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の一実施例の主要部の斜視図
、第２図はスクラツチ試験で得られた検出電圧の
一例の略線図、第３図はこの考案の一実施例の電
気的構成の概略を示すブロツク図である。 図面における主要な符号の説明、１……スクラ
ツチ試験装置の本体の一部、３……カートリツジ
、５……ステージ、６……試料、７……フアイバ
ースコープ、１０……取付け自在架台、２３……
ＣＣＤイメージヤ、２４……ＣＲＴモニタ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 基板に薄膜が被着された試料が移動可能なステ
    ージ上に固定され、上記薄膜の表面にセンサの先
    端が荷重がかけられた状態で接触され、上記薄膜
    の密着度を試験するようにしたスクラツチ試験装
    置において、 上記ステージ上の上記試料の一部を拡大する光
    学手段と、 上記光学手段により拡大された像を撮像する手
    段と、 上記撮像手段の出力信号をモニタする手段と を設けたことを特徴とする被膜のスクラツチ試験
    装置。
JP11993590U 1990-11-16 1990-11-16 Pending JPH0475952U (ja)

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JP11993590U JPH0475952U (ja) 1990-11-16 1990-11-16

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JPH0475952U true JPH0475952U (ja) 1992-07-02

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60196644A (ja) * 1984-03-21 1985-10-05 Toshiba Corp 付着力評価方法
JPS63238448A (ja) * 1987-03-27 1988-10-04 Hitachi Ltd 薄膜評価装置
JPS64445A (en) * 1987-03-16 1989-01-05 Resuka:Kk Apparatus for testing adhesion of film
JPH02236142A (ja) * 1989-03-08 1990-09-19 Nec Corp 付着力測定装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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