JPH0476976A - 狭帯域発振レーザ装置 - Google Patents
狭帯域発振レーザ装置Info
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- JPH0476976A JPH0476976A JP19133690A JP19133690A JPH0476976A JP H0476976 A JPH0476976 A JP H0476976A JP 19133690 A JP19133690 A JP 19133690A JP 19133690 A JP19133690 A JP 19133690A JP H0476976 A JPH0476976 A JP H0476976A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はステッパー用の光源として使用されるエキシマ
レーザ等の狭帯域発振レーザ装置に関する。
レーザ等の狭帯域発振レーザ装置に関する。
半導体装置製造用の縮小投影露光装置（以下、ステッパ
ーという）の光源としてエキシマレーザの利用が注目さ
れている。これはエキシマレーザの波長が短い（ＫｒＦ
の波長は約２４８．４ｎｍ）ことから光露光の限界を０
．３μｍ以下に延ばせる可能性があること、同し解像度
なら従来用いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して
焦点深度か深いこと、レンスの開口数（ＮＡ）か小さく
て済み、露光領域を大きくてきること、大きなパワーか
得られること等の多くの優れた利点か期待できるからで
ある。
ーという）の光源としてエキシマレーザの利用が注目さ
れている。これはエキシマレーザの波長が短い（ＫｒＦ
の波長は約２４８．４ｎｍ）ことから光露光の限界を０
．３μｍ以下に延ばせる可能性があること、同し解像度
なら従来用いていた水銀ランプのｇ線やｉ線に比較して
焦点深度か深いこと、レンスの開口数（ＮＡ）か小さく
て済み、露光領域を大きくてきること、大きなパワーか
得られること等の多くの優れた利点か期待できるからで
ある。
ところで、ステッパーの光源として利用されるエキシマ
レーザとしては線幅３ｐｍ以下の狭帯域化か要求され、
しかも大きな出力パワーが要求される。
レーザとしては線幅３ｐｍ以下の狭帯域化か要求され、
しかも大きな出力パワーが要求される。
エキシマレーザの狭帯域化の技術として有望なものとし
ては例えば、第８図（ａ）に示すように、グレーティン
グ１をリトロ−配置（グレーティング１の入射角と回折
角を等しく配置したもの）し、グレーティング１とレー
ザチャンバ２との間にブリスムビームエキスパンダ３を
配置したものや、第８図（ｂ）に示すように、エタロン
４をブレティング］とブリスムビームエキスパンダ３と
の間に更に配設したちの等かある。なお、これらの図に
おいて、５はフロントミラー ６はウィンドウである。
ては例えば、第８図（ａ）に示すように、グレーティン
グ１をリトロ−配置（グレーティング１の入射角と回折
角を等しく配置したもの）し、グレーティング１とレー
ザチャンバ２との間にブリスムビームエキスパンダ３を
配置したものや、第８図（ｂ）に示すように、エタロン
４をブレティング］とブリスムビームエキスパンダ３と
の間に更に配設したちの等かある。なお、これらの図に
おいて、５はフロントミラー ６はウィンドウである。
一般に、第８図＜ａ）に示すように、グレーティング１
をリトロ−配置するとき、発振効率をＪ良くするために
グレーティング１のブレーズ角と入射角（−回折角）を
ほぼ一致させた角度に配置するようにしている。ところ
か、グレーティング１のブレーズ角とレーザの発振波長
か完全に適合したグレーティングを製作することは非常
に困難てあり、特にエキシマレーザの場合は発振波長範
囲か狭いため、ブレーズ角とグレーティングへの入射角
は完全には一致せず、この結果従来装置では発振効率を
最大にすることは不可能であった。
をリトロ−配置するとき、発振効率をＪ良くするために
グレーティング１のブレーズ角と入射角（−回折角）を
ほぼ一致させた角度に配置するようにしている。ところ
か、グレーティング１のブレーズ角とレーザの発振波長
か完全に適合したグレーティングを製作することは非常
に困難てあり、特にエキシマレーザの場合は発振波長範
囲か狭いため、ブレーズ角とグレーティングへの入射角
は完全には一致せず、この結果従来装置では発振効率を
最大にすることは不可能であった。
また、第８図（ｂ）に示すようにエタロン４とグレーテ
ィング１を組み合わせた場合、グレーティング表面での
空気の揺らぎによりレーザビームプロファイルに揺らき
か生じるという問題かあった。
ィング１を組み合わせた場合、グレーティング表面での
空気の揺らぎによりレーザビームプロファイルに揺らき
か生じるという問題かあった。
この発明はこのような事情に鑑かみてなされｔ：もので
、発振効率を向上させるとともに、レーザビームプロフ
ァイルの扛らきを防止する狭帯域発振レーザ装置を提供
することを目的とする。
、発振効率を向上させるとともに、レーザビームプロフ
ァイルの扛らきを防止する狭帯域発振レーザ装置を提供
することを目的とする。
〔課題を解決するための手段および作用〕この発明にお
いては、狭帯域化素子としてリトロ−配置したグレーテ
ィングを有する狭帯域発振レーザ装置において、前記グ
レーティングを気密室内に配設するとともに、前記気密
室に所定の気体を充填するようにしている。
いては、狭帯域化素子としてリトロ−配置したグレーテ
ィングを有する狭帯域発振レーザ装置において、前記グ
レーティングを気密室内に配設するとともに、前記気密
室に所定の気体を充填するようにしている。
かかる本発明の構成によれば、リトロ−配置したグレー
ティングを所定の気体を充填した気密室内に配設するよ
うにしているので、グレーティング表面での気体の揺ら
ぎを防くことができ、これによりレーザのビームプロフ
ァイルの揺らぎを防止するとともに、パルス安定性を向
上させる二とかできる。
ティングを所定の気体を充填した気密室内に配設するよ
うにしているので、グレーティング表面での気体の揺ら
ぎを防くことができ、これによりレーザのビームプロフ
ァイルの揺らぎを防止するとともに、パルス安定性を向
上させる二とかできる。
またこの発明では、前記グレーティングをその入射角が
グレーティングのブレーズ角に略一致するように配置し
、かつ前記ブレーズ角に対応する波長となるよう前記気
密室内の気体の圧力または組成比を制御するようにして
いる。
グレーティングのブレーズ角に略一致するように配置し
、かつ前記ブレーズ角に対応する波長となるよう前記気
密室内の気体の圧力または組成比を制御するようにして
いる。
すなわち、溝間隔かｄのグレーティングにブレーズ角γ
と回し角度で平行光線を入射させるとき、ブレーズ角γ
と回し角度の回折光の波長λの光強度か最大となる、利
金すれば、２ｄｓｉｎγ−ｍλ （ｍは整数）の条件を
満たすようなとき回折光の光強度か最大となるので、気
密室内の気体の圧力または組成比を制御することで前記
気体の屈折率を調整し、二の屈折率の調整によって上記
条件を満たすようレーザ光の波長を制御することにより
、グレーティングを最高効率で使用するのである。
と回し角度で平行光線を入射させるとき、ブレーズ角γ
と回し角度の回折光の波長λの光強度か最大となる、利
金すれば、２ｄｓｉｎγ−ｍλ （ｍは整数）の条件を
満たすようなとき回折光の光強度か最大となるので、気
密室内の気体の圧力または組成比を制御することで前記
気体の屈折率を調整し、二の屈折率の調整によって上記
条件を満たすようレーザ光の波長を制御することにより
、グレーティングを最高効率で使用するのである。
以下、この発明の実施例を添付図面を弁明して詳細に説
明する。
明する。
第１図はこの発明の一実施例を示すもので、二の第１図
の狭帯域発振エキシマレーザでは、グレーティング１を
リトロ−配置（グレーティング１の入射角と回折角を等
しく配置したもの）してグレーティング１をリアミラー
とＪ（用するとともに、グレーティング］を気密室７に
配置するようにしている。この気密室７にはウィンドウ
８か設けられており、このウィンドウ８を介してグレー
ティング１の入射光および回折光か透過されるようにな
っている。この場合グレーティング１は、第２図に示す
ように、その入射角（＝回折角）か該グレーティング１
のブレーズ角γと略一致するような角度に設置されてい
る。
の狭帯域発振エキシマレーザでは、グレーティング１を
リトロ−配置（グレーティング１の入射角と回折角を等
しく配置したもの）してグレーティング１をリアミラー
とＪ（用するとともに、グレーティング］を気密室７に
配置するようにしている。この気密室７にはウィンドウ
８か設けられており、このウィンドウ８を介してグレー
ティング１の入射光および回折光か透過されるようにな
っている。この場合グレーティング１は、第２図に示す
ように、その入射角（＝回折角）か該グレーティング１
のブレーズ角γと略一致するような角度に設置されてい
る。
ところで、一般に屈折率ｎの媒質中の光の波長λは次式
で与えられる。
で与えられる。
λ−λＯ／ｎ
λ０ ；真空での光の波長
一方、第２図に示すように、溝間隔かｄの平面グレーテ
ィングにブレーズ角γと同じ角度で平行光線を入射させ
るとき、ブレーズ角γと同じ角度の回折光の波長λの光
強度が最大となる。
ィングにブレーズ角γと同じ角度で平行光線を入射させ
るとき、ブレーズ角γと同じ角度の回折光の波長λの光
強度が最大となる。
すなわち、下記（２）式の条件を満たすようなとき回折
光の光強度か最大となる。
光の光強度か最大となる。
２ｄｓｉｎ７＝ｍλ
ｍは整数、 ｄは格子定数
・・ （２）
したかって、上記（１）式、および（２）式に基すき気
密室７内の気体の屈折率ｎを調整するようにすれば上記
（２）式を満たすような波長λを得ることかできる。
密室７内の気体の屈折率ｎを調整するようにすれば上記
（２）式を満たすような波長λを得ることかできる。
第１図の気密室７内には、この場合レーザ光に吸収され
ない不活性気体を充填している。例えば、エキシマレー
ザの場合は、Ｎ２ 、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｃ０２、Ｈｅ、Ａｒ
なとの不活性気体か使用でき、ＫｒＦエキシマレーレー
場合は空気でもよい。
ない不活性気体を充填している。例えば、エキシマレー
ザの場合は、Ｎ２ 、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｃ０２、Ｈｅ、Ａｒ
なとの不活性気体か使用でき、ＫｒＦエキシマレーレー
場合は空気でもよい。
各気体の屈折率を下記第１表に示す。
気体
Ａｒ
Ｈｅ
Ｏ２
Ｈｅ
Ａｒ
空気
第１表（Ｉａｔｍ、２５°Ｃ，５ｇ９ｎｍ）屈折率 〇
１．０００２９６９
１．０００４２５３（Ｂ２Ｏ，８ｎｍ）１．０００７０
１６ １．０００４４９ １．００００３６ １．００［１２８１５ １，０００２９４ すなわち、気体の屈折率ｎは気密室７内の気体の圧力ま
たは気体の組成を変えることて調整することができ、し
たかって上記気密室７内の気体の圧力または気体の組成
を調整することによって、レーザ光の波長を当該グレー
ティング］のブレズ角γに対応する波長λ、すなわち前
記（２）式を満たすような波長λに固定するようにすれ
ば、グレーティング１を最高効率で使用することができ
、効率よく狭帯域化できる。
１６ １．０００４４９ １．００００３６ １．００［１２８１５ １，０００２９４ すなわち、気体の屈折率ｎは気密室７内の気体の圧力ま
たは気体の組成を変えることて調整することができ、し
たかって上記気密室７内の気体の圧力または気体の組成
を調整することによって、レーザ光の波長を当該グレー
ティング］のブレズ角γに対応する波長λ、すなわち前
記（２）式を満たすような波長λに固定するようにすれ
ば、グレーティング１を最高効率で使用することができ
、効率よく狭帯域化できる。
なお、上記グレーティング１としてはニジエルグレーテ
ィングが最適である。エンエールグレーティングは満の
頂角がほぼ垂直となっており、大きなブレーズ角のもの
が製作可能なため、高効率で高分解能てあり、またフリ
ースベクトルレンジが小さいためブレーズ角に対応する
波長に気密室内のレーザ波長を調整することか容易とな
る。
ィングが最適である。エンエールグレーティングは満の
頂角がほぼ垂直となっており、大きなブレーズ角のもの
が製作可能なため、高効率で高分解能てあり、またフリ
ースベクトルレンジが小さいためブレーズ角に対応する
波長に気密室内のレーザ波長を調整することか容易とな
る。
例えば、格子定数ｄ ＝ ３１．６本／ ｍ ｍ、ブレ
ーズ角γ−７ｅ＝ｏ、５度、空気中でのレーザの実際の
発振波長を２４８．３９ｎ ｍとすると、先の（２）式
よりブレーズ角γに対応する波長λは、 ブレーズ角γ−７６５度、次数ｍ −２４８のときは、
ａ、 ＝ ２４８．１５５ ｎ ｍ ブレーズ角γ−７５５度、次数ｍ −２４７のときは、
λ−２４８．０７８ ｎ ｍ となる。
ーズ角γ−７ｅ＝ｏ、５度、空気中でのレーザの実際の
発振波長を２４８．３９ｎ ｍとすると、先の（２）式
よりブレーズ角γに対応する波長λは、 ブレーズ角γ−７６５度、次数ｍ −２４８のときは、
ａ、 ＝ ２４８．１５５ ｎ ｍ ブレーズ角γ−７５５度、次数ｍ −２４７のときは、
λ−２４８．０７８ ｎ ｍ となる。
また、先の（１）式から、真空中でのレーザの波長は先
の第１表の空気の屈折率を用いて、２４８４６３ｎｍ（
−１，０００２９４＞、２４８．３９＞となる。
の第１表の空気の屈折率を用いて、２４８４６３ｎｍ（
−１，０００２９４＞、２４８．３９＞となる。
したかって、気密室７内の気体のＩｕＥ折宇ｎは、先の
（１）式を用いて、 ブレーズ角γ−７６５度、次数ｍ ＝ ２４８のときは
、ｎ −１，００１２４１（−２４８，４６３／２４８
．１５５）がブレーズ角に対応する波長をｉ′するため
の気体の屈折率となり、 ブレーズ角γ−７５．５度、次数ｍ ＝ ２４７のとき
は、ｎ −１，００１５５２（−２４８，４６３／２４
１１．０７８）がブレーズ角に対応する波長を得るため
の気体の屈折率となる。
（１）式を用いて、 ブレーズ角γ−７６５度、次数ｍ ＝ ２４８のときは
、ｎ −１，００１２４１（−２４８，４６３／２４８
．１５５）がブレーズ角に対応する波長をｉ′するため
の気体の屈折率となり、 ブレーズ角γ−７５．５度、次数ｍ ＝ ２４７のとき
は、ｎ −１，００１５５２（−２４８，４６３／２４
１１．０７８）がブレーズ角に対応する波長を得るため
の気体の屈折率となる。
また、一般に、気体の屈折；キ１ｎと気体の圧力Ｐとの
関係は下記（３）式のように近１ｕ的に表せる。
関係は下記（３）式のように近１ｕ的に表せる。
ｎ−１−ＫＸＰ
Ｋ：定数
・・ ・・ （３）
したかって、この（３）式を用いることで、上記ブレー
ズ角に対応する波長を得るための気体の屈折率を得るこ
と力できる気密室７内の所要圧力値Ｐを求めることかで
きる。
ズ角に対応する波長を得るための気体の屈折率を得るこ
と力できる気密室７内の所要圧力値Ｐを求めることかで
きる。
下記第２表に、最適屈折率を得るための気密室７内の圧
力値Ｐを先の第１表に示した各気体についてそれぞれ示
す。
力値Ｐを先の第１表に示した各気体についてそれぞれ示
す。
第２表
圧力
気体 ７＝７５．５度の場合
Ｎ ２ ５．２２７
Ｋ ｒ ３．６４９
Ｘ ｅ ２．２１２
ＣＯ２３，４５７
Ｈｅ ４３．０５
Ａ ｒ ５．５１３
空気 ５．２７９
（ａｔｍ）
７・７６．５度の場合
４．１８０
２．９１８
１．７６９
４．４０９
上記第１表および第２表によれば、これら複数の気体の
うち、特にＸｅは他の気体と比べて屈折率が高く、かつ
気密室７内の圧力を小さくてきるので有用であることか
判る。
うち、特にＸｅは他の気体と比べて屈折率が高く、かつ
気密室７内の圧力を小さくてきるので有用であることか
判る。
第３図および第４図は、気密室７内の気体の圧力を調整
するための具体構成例を示すもので、第３図はガスボン
ベ３０から気密室７に供給するガス圧をレギュレータ９
によって調整しようとしたものてあり、第４図は圧力セ
ンサ１１により気密室７内のガス圧を検出し、この検出
圧か所定の圧力となるようにバルブ］０の開閉制御をＣ
ＰＵＩ２により行なうようにしたものである。
するための具体構成例を示すもので、第３図はガスボン
ベ３０から気密室７に供給するガス圧をレギュレータ９
によって調整しようとしたものてあり、第４図は圧力セ
ンサ１１により気密室７内のガス圧を検出し、この検出
圧か所定の圧力となるようにバルブ］０の開閉制御をＣ
ＰＵＩ２により行なうようにしたものである。
第５図は混合ガスの組成比を調整することにより混合ガ
スの屈折率を調整することて、先の（２）式に示したブ
レーズ角に対応する波長を得るようにした具体例を示す
ものてあり、ガスホンへ］５〜１７にはそれぞれ異なる
ガスか充填されている。
スの屈折率を調整することて、先の（２）式に示したブ
レーズ角に対応する波長を得るようにした具体例を示す
ものてあり、ガスホンへ］５〜１７にはそれぞれ異なる
ガスか充填されている。
この場合、先の（２）式に示したブレーズ角に対応する
波長を得ることかできる混合ガスの屈折率は予め計算し
ており、さらにこの屈折率を得ることができる混合ガス
の組成比も予め計算している。
波長を得ることかできる混合ガスの屈折率は予め計算し
ており、さらにこの屈折率を得ることができる混合ガス
の組成比も予め計算している。
各ガスボンへ１５〜】７とガス組成調整タンク］４との
間には、流量コントローラ１８〜２０か設けられており
、これら流量コントローラ１８〜２０の土足制御によっ
て前記予め計算した組成比か得られるように各ガスの流
量を調整する。この後、二のようにしてガス組成調整タ
ンク１４に所定の組成比で混合された混合ガスを気密室
７に導入し、その全圧を先の第４図と同様にして圧力セ
ンサコ］およびＣＰＵ１２によって調整する。
間には、流量コントローラ１８〜２０か設けられており
、これら流量コントローラ１８〜２０の土足制御によっ
て前記予め計算した組成比か得られるように各ガスの流
量を調整する。この後、二のようにしてガス組成調整タ
ンク１４に所定の組成比で混合された混合ガスを気密室
７に導入し、その全圧を先の第４図と同様にして圧力セ
ンサコ］およびＣＰＵ１２によって調整する。
第６図は、グレーティング１とレーザチャンバ２との間
にプリズムビームエキスパンダ３を配置したものてあり
、プリズムビームエキスパンダ３によってビームを拡大
してグレーティング１に入射することて、グレーティン
グ１に入射する光のビーム広かり角を小さくし、スペク
トル線幅を小さくするようにしている。
にプリズムビームエキスパンダ３を配置したものてあり
、プリズムビームエキスパンダ３によってビームを拡大
してグレーティング１に入射することて、グレーティン
グ１に入射する光のビーム広かり角を小さくし、スペク
トル線幅を小さくするようにしている。
第７図はグレーティング１とレーザチャンバ２との間に
プリズムビームエキスパンダ３およびエタロン４を配置
した例てあり、第６図の場合より更にスペクトル線幅を
小さくすることかできる。
プリズムビームエキスパンダ３およびエタロン４を配置
した例てあり、第６図の場合より更にスペクトル線幅を
小さくすることかできる。
このようにこの実施例では、グレーティング〕を気密室
７内に密閉するようにしたので、タレティング表面での
気体の揺らぎを防止し、これによりレーザのビームプロ
ファイルの揺らぎを防止し、パルス安定性を向上させる
ことかできる。また、リトロ−配置したグレーティング
１をその入射角かグレーティングのブレーズ角に略一致
するように配置し、かつ前記ブレーズ角に対応する波長
となるよう前記気密室内の気体の圧力または組成比を制
御するようにしているので、グレーティングを最高効率
で使用することかてき、効１１よく狭帯域化てきる。
７内に密閉するようにしたので、タレティング表面での
気体の揺らぎを防止し、これによりレーザのビームプロ
ファイルの揺らぎを防止し、パルス安定性を向上させる
ことかできる。また、リトロ−配置したグレーティング
１をその入射角かグレーティングのブレーズ角に略一致
するように配置し、かつ前記ブレーズ角に対応する波長
となるよう前記気密室内の気体の圧力または組成比を制
御するようにしているので、グレーティングを最高効率
で使用することかてき、効１１よく狭帯域化てきる。
なお、上記実施例では、狭帯域化素子のグレーティング
１のみを気密室７に配設するようにしたが、第６図およ
び第７図に示したエタロン４またはプリズムビームエキ
スパンダ３を、あるいはその双方を気密室７に配設する
ようにしてもよい。
１のみを気密室７に配設するようにしたが、第６図およ
び第７図に示したエタロン４またはプリズムビームエキ
スパンダ３を、あるいはその双方を気密室７に配設する
ようにしてもよい。
また、気密室−７を真空にしたときその波長かブレーズ
角に対応する波長となる場合は、気密室を真空にしても
よい。真空にした場合は、レーザのビームプロファイル
の揺らぎおよびパルス安定性が更に良くなる。また、気
密室はその気密度が良い場合は封し切りにしてもよい。
角に対応する波長となる場合は、気密室を真空にしても
よい。真空にした場合は、レーザのビームプロファイル
の揺らぎおよびパルス安定性が更に良くなる。また、気
密室はその気密度が良い場合は封し切りにしてもよい。
更に、上記実施例ではガスの全圧または組成比を調整し
て気密室内の気体の屈折率を調整するようにしたが、ガ
スの種類を変えることで前記屈折率を調整するようにし
てもよい。
て気密室内の気体の屈折率を調整するようにしたが、ガ
スの種類を変えることで前記屈折率を調整するようにし
てもよい。
ところで、この発明は、エキシマレーザ以外の他の狭帯
域発振レーザ装置にも適用することかできる。
域発振レーザ装置にも適用することかできる。
以上説明したようにこの発明によれば、ブレティングを
気密室に入れるようにしたので、グレーティング表面で
の気体の揺らきを防止し、これによりレーザのビームプ
ロファイルの揺らぎを防止し、パルス安定性を向上させ
ることかできる。
気密室に入れるようにしたので、グレーティング表面で
の気体の揺らきを防止し、これによりレーザのビームプ
ロファイルの揺らぎを防止し、パルス安定性を向上させ
ることかできる。
また、この発明では、気密室内に適当な屈折率の気体を
封入し、その圧力または組成比を調整することにより波
長を調整し、その波長をグレーティングのブレーズ角に
対応する波長に固定するようにしたので、常にグレーテ
ィングを最大効率で使用でき、レーザ出力を飛躍的に向
上させることができる。
封入し、その圧力または組成比を調整することにより波
長を調整し、その波長をグレーティングのブレーズ角に
対応する波長に固定するようにしたので、常にグレーテ
ィングを最大効率で使用でき、レーザ出力を飛躍的に向
上させることができる。
第１図はこの発明の一実施例を示す概念図、第２図はグ
レーティングを示す図、第３図１５至第５図は気密室の
ガスの制御のための具体構成例をそれぞれ示す図、第６
図および第７図はそれぞれ二の発明の他の実施例を示す
図、第８図は従来技術を示す図である。 １・・グレーティック ２ レーサチャノハ３・・ビ
ームエキスパンダ ４ エタロシ７・気密室 ′ぎ・：、、、、−！ζ 第２図 第７ 図 第８ 図
レーティングを示す図、第３図１５至第５図は気密室の
ガスの制御のための具体構成例をそれぞれ示す図、第６
図および第７図はそれぞれ二の発明の他の実施例を示す
図、第８図は従来技術を示す図である。 １・・グレーティック ２ レーサチャノハ３・・ビ
ームエキスパンダ ４ エタロシ７・気密室 ′ぎ・：、、、、−！ζ 第２図 第７ 図 第８ 図
Claims (5)
- （１）狭帯域化素子としてリトロー配置したグレーティ
ングを有する狭帯域発振レーザ装置において、 前記グレーティングを気密室内に配設するとともに、前
記気密室に所定の気体を充填するようにしたことを特徴
とする狭帯域発振レーザ装置。 - （２）前記グレーティングをその入射角がグレーティン
グのブレーズ角に略一致するように配置し、かつ前記ブ
レーズ角に対応する波長となるよう前記気密室内の気体
の圧力を制御するようにしたことを特徴とする請求項（
１）記載の狭帯域発振レーザ装置。 - （３）前記気体は複数の気体の混合気体てあり、前記グ
レーティングをその入射角がグレーティングのブレーズ
角に略一致するように配置し、かつ前記ブレーズ角に対
応する波長となるよう前記気密室内の混合気体の組成比
を制御するようにしたことを特徴とする請求項（１）記
載の狭帯域発振レーザ装置。 - （４）前記気体は不活性気体である請求項（１）記載の
狭帯域発振レーザ装置。 - （５）前記気体は空気である請求項（１）記載の狭帯域
発振レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2191336A JP2689012B2 (ja) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | 狭帯域発振レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2191336A JP2689012B2 (ja) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | 狭帯域発振レーザ装置 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH0476976A true JPH0476976A (ja) | 1992-03-11 |
| JP2689012B2 JP2689012B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=16272867
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2191336A Expired - Lifetime JP2689012B2 (ja) | 1990-07-19 | 1990-07-19 | 狭帯域発振レーザ装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP2689012B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001041268A1 (en) | 1999-11-30 | 2001-06-07 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| JP2002335029A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Gigaphoton Inc | 狭帯域化レーザ装置 |
| EP1218986A4 (en) * | 1999-09-03 | 2003-08-27 | Cymer Inc | NARROW-BAND LASER WITH FINE TUNABLE WAVELENGTH |
| US6778584B1 (en) | 1999-11-30 | 2004-08-17 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| US7321607B2 (en) | 2005-11-01 | 2008-01-22 | Cymer, Inc. | External optics and chamber support system |
| JP2008298832A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Lasertec Corp | 波長変換装置、マスク検査装置 |
| JP2012182434A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-20 | Gigaphoton Inc | レーザ装置、極端紫外光生成システム、レーザ装置の制御方法、および極端紫外光生成方法 |
| US8379687B2 (en) | 2005-06-30 | 2013-02-19 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser line narrowing module |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6216589A (ja) * | 1985-07-16 | 1987-01-24 | Toshiba Corp | 同位体分離用レ−ザ装置 |
| JPS6484767A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-30 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Tunable laser device |
| JPH0196619A (ja) * | 1987-10-08 | 1989-04-14 | Toshiba Corp | 波長掃引装置 |
| JPH01181486A (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-19 | Toshiba Corp | 色素レーザ装置 |
-
1990
- 1990-07-19 JP JP2191336A patent/JP2689012B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6216589A (ja) * | 1985-07-16 | 1987-01-24 | Toshiba Corp | 同位体分離用レ−ザ装置 |
| JPS6484767A (en) * | 1987-09-28 | 1989-03-30 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Tunable laser device |
| JPH0196619A (ja) * | 1987-10-08 | 1989-04-14 | Toshiba Corp | 波長掃引装置 |
| JPH01181486A (ja) * | 1988-01-08 | 1989-07-19 | Toshiba Corp | 色素レーザ装置 |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1218986A4 (en) * | 1999-09-03 | 2003-08-27 | Cymer Inc | NARROW-BAND LASER WITH FINE TUNABLE WAVELENGTH |
| WO2001041268A1 (en) | 1999-11-30 | 2001-06-07 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| EP1234358A4 (en) * | 1999-11-30 | 2003-08-27 | Cymer Inc | EXTREMELY POWERFUL GAS DISCHARGE LASER HAVING A HELIUM PURGE LINE DRAWING UNIT |
| US6778584B1 (en) | 1999-11-30 | 2004-08-17 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| US7277466B2 (en) | 1999-11-30 | 2007-10-02 | Cymer, Inc. | High power gas discharge laser with helium purged line narrowing unit |
| JP2002335029A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Gigaphoton Inc | 狭帯域化レーザ装置 |
| US8379687B2 (en) | 2005-06-30 | 2013-02-19 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser line narrowing module |
| US7321607B2 (en) | 2005-11-01 | 2008-01-22 | Cymer, Inc. | External optics and chamber support system |
| JP2008298832A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Lasertec Corp | 波長変換装置、マスク検査装置 |
| JP2012182434A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-20 | Gigaphoton Inc | レーザ装置、極端紫外光生成システム、レーザ装置の制御方法、および極端紫外光生成方法 |
| US9570884B2 (en) | 2011-02-09 | 2017-02-14 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, method for controlling the laser apparatus, and method for generating the extreme ultraviolet light |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2689012B2 (ja) | 1997-12-10 |
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