JPH0477228U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0477228U JPH0477228U JP12053490U JP12053490U JPH0477228U JP H0477228 U JPH0477228 U JP H0477228U JP 12053490 U JP12053490 U JP 12053490U JP 12053490 U JP12053490 U JP 12053490U JP H0477228 U JPH0477228 U JP H0477228U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- furnace core
- inlet
- tube
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
Description
第１図ａ，ｂは本考案の一実施例の断面図及び
Ａ−Ａ′線断面図、第２図は従来の加熱炉の一例
の断面図である。 １，２……炉芯管、３……フランジ、４……Ｎ
２導入口、５……Ｎ２噴出穴、６……Ｎ２ノズル
。
Ａ−Ａ′線断面図、第２図は従来の加熱炉の一例
の断面図である。 １，２……炉芯管、３……フランジ、４……Ｎ
２導入口、５……Ｎ２噴出穴、６……Ｎ２ノズル
。
Claims (1)
- 外側の炉芯管と、内側の炉芯管と、前記外側の
炉芯管と前記内側の炉芯管のそれぞれを支持固定
するフランジとを有する半導体製造用縦型加熱炉
において、前記フランジに、Ｎ２ガスを導入する
Ｎ２導入口と、該Ｎ２導入口に接続し前記外側の
炉芯管と前記内側の炉芯管との中間の位置に形成
された環状の管と、該管に設けられ前記外側の炉
芯管と前記内側の炉芯管との間に噴出する複数の
Ｎ２噴出穴とを備えたことを特徴とする半導体製
造用縦型加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053490U JPH0477228U (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12053490U JPH0477228U (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0477228U true JPH0477228U (ja) | 1992-07-06 |
Family
ID=31868436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12053490U Pending JPH0477228U (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0477228U (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01241819A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の熱処理装置 |
| JPH02174224A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Tel Sagami Ltd | 熱処理装置 |
| JPH02218119A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-08-30 | Toshiba Corp | 縦形半導体拡散炉 |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP12053490U patent/JPH0477228U/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01241819A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の熱処理装置 |
| JPH02174224A (ja) * | 1988-12-27 | 1990-07-05 | Tel Sagami Ltd | 熱処理装置 |
| JPH02218119A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-08-30 | Toshiba Corp | 縦形半導体拡散炉 |