JPH0477698A - ▲上１３▼ｎ―ｎｈ▲上＋▼▲下４▼水製造用ターゲット箱 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、”Ｎ−ＮＨ”；水製造用ターゲット箱に関す
る。

［従来の技術］ 第５図は、従来のアンモニア水”Ｎ−ＮＨ７を作るため
の装置の構成を示す説明図である。図中１は、ターゲッ
ト材料である水（Ｈ２０）を計量器２へ充填する操作を
調整するためのコックである。計量器２で計量された必
要量のターゲット水（例えば５ＣＣ）は、配管３及びコ
ック４を介して計量器２に供給されたヘリウムガス（Ｈ
ｅ）又は窒素ガスによって、ターゲット箱８に充填され
るようになっている。この状態で陽子線１０をタゲット
液に照射して、ラジオアイソトープを作るようになって
いる。

而して、アンモニア水ｌ３Ｎ−ＮＨ）を作る具体的な方
法として、以下に示す２通りのものがある。

第１の方法は、ターゲット箱８に充填するターゲット水
を純水（Ｈ２０）とするものである。この場合、ターゲ
ット水に陽子線を照射すると、硝酸イオン（１３Ｎｏ、
　−）がターゲット箱８内で製造される。そして、ター
ゲット箱８に接続された配管１１のコック９を解放し、
配管１１を介して硝酸イオンを取出す。取出された硝酸
イオンは、標識化合物合成装置３４でアンモニア水（Ｎ
Ｈ’：）とされる。

第２の方法は、ターゲット箱８に装填するターゲット水
に前処理を施しておくものである。前処理は、まず、純
水（Ｈ２Ｏ）から溶存している酸素（０□）をバラ気す
る。次いで、これに水素（Ｈ２）を長時間吹き込み、溶
解させる。

このようにして得たターゲット水をターゲット箱８に装
填する。これに陽子線を照射し、ターゲット箱８内にア
ンモニア水（ＮＨ４）を製造する。

次いで、このアンモニア水をコック９を開いて配管１１
から標識化合物合成装置３４に導く。この場合、第１の
方法とは異なり、硝酸イオンからアンモニア水の化学変
化を行う必要はなく、ただ不純物を除去するだけで足り
る。

［発明が解決しようとする課題］ ターゲット箱８に装填にするターゲット水が純水の場合
は、陽子線の照射によりターゲット箱８内で製造されの
が硝酸イオンであり、これをアンモニア水（ＮＨ４）に
する標識化合物合成装置３４が複雑で、その製造コスト
が大幅に高くなる問題がある。

また、ターゲット箱８に装填にするターゲット水に前処
理を施し、水素（Ｈ２）を溶解させたターゲット水をタ
ーゲット箱８に装填し陽子線を照射する場合においては
、このターゲット水の前処理に長時間を要する問題があ
る。

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ター
ゲット水の前処理が不要で、しかも、後処理を簡単にで
きる１３Ｎ−ＮＨ＋１水製造用ターゲット箱を提供する
ものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、ターゲット水入口管及びターゲット水出口管
と連通したターゲット液収容部を有するターゲット箱本
体と、前記ターゲット液収容部の一側壁部に取付けられ
た陽電子ビーム透過用の薄膜と、前記ターゲット水入口
管及びターゲット水出口管を介して前記ターゲット液収
容部にターゲット水及び水素ガスの混合体を循環させな
がら供給する手段とを具備することを特徴とする１３Ｎ
−ＮＨ＋４水製造用ターゲット箱である。

［作用］ 本発明に係る１　３　Ｎ　−Ｎ　Ｈ４水製造用タ一ゲツ
ト箱によれば、無数の小さな水素（Ｈ２）気泡を含んだ
ターゲット水を陽子ビームで照射する。これによって、
溶存水素を多く含んだターゲット水（Ｈ２０）を陽子ビ
ームで照射した場合と同様に、ターゲット箱内で高効率
でアンモニア水を得ることができる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は、本発明の一実施例の１３Ｎ−ＮＨ１水製造用
ターゲット箱に対するターゲット水と水素ガスの混合装
置を示す説明図である。　図中１１は、コックである。

このコック１１からターゲット材料である水（Ｈ２０）
が、軽量器１２の中に充填される。計量器１２で計測さ
れた例えば、５０Ｃのターゲット水は、配管１３からコ
ック１４を介して供給された水素（Ｈ２）ガスと共に、
ターゲット水／水素ガス混合装置１５にコック１６を介
して供給されるようになっている。この場合、コック１
６が閉じることにより、ターゲット水／水素ガス混合装
置１５の中にターゲット水と水素ガスを密封するように
なっている。

ターゲット水／水素ガス混合装置１５の中に充填された
ターゲット水は、ターゲット水循環ポンプ１７からター
ゲット箱１８及びコック１９を順次縁てターゲット水／
水素ガス混合装置１５に戻ってくるようになっている。

図中２１．２２．２３．２４は、配管であり、３７は、
ターゲット箱１８に照射する陽子線である。また、２９
は、ターゲット用純水である。

ここで、ターゲット水／水素ガス混合装置１５は、例え
ば、第２図に示す構造を有している。図中２５は、ター
ゲット液室である。ターゲット液室２５に隔壁２６を介
して水素ガス室２７が隣接されている。ターゲット水／
水素ガス混合装置１５の下部３０であるターゲット液室
２５と水素ガス室２７が連通したところで、ターゲット
水２９と水素ガスが混合して、ポンプ１７の吸引作用に
よってターゲット水出口管２４から流出するようになっ
ている。

また、第３図は、ターゲット水／水素ガス混合装置１５
の他の例を示す説明図である。この装置では、ターゲッ
ト水戻り管２２の開口部を装置内部のターゲット水３４
の中央部上方部分３２に位置付けることにより、ターゲ
ット水戻り管２２から流出してくるターゲット水の勢い
によって水素ガス３１をターゲット水３４中に巻き込ん
で混合するようになっている。

また、第４図は、ターゲット箱１８の一例を示す説明図
である。図中３３は、ターゲット箱本体である。ターゲ
ット箱本体３３には、ターゲット水／水素ガス混合液収
容部４１が設けられている。

この収容部４１には、ターゲット水入口管３８及びター
ゲット水出口管３９が接続されている。収容部４１の一
側壁部には、例えばチタン製の薄膜からなるターゲット
箱全面膜３３ａが設けられている。ターゲット箱全面膜
３３ａは、ターゲット水／水素ガス混合液が漏れないよ
うに膜押えリング３５及びＯリング３６によってターゲ
ット箱本体３３に固定されている。而して、このターゲ
ット箱全面膜３３ａを透過してターゲット水／水素ガス
混合液に、陽子ビーム３７が照射されるようになってい
る。

このように構成された１３Ｎ−Ｎ　Ｈ”；水製造用タゲ
ット箱によれば、純水（Ｈ２０）と水素ガスとの気液が
混合装置１５に供給される。そして、ポンプ１７によっ
て気液はターゲット箱１８に砧環供給されながら気液混
合体となる。このとき気液混合体であるターゲット水中
に無数の小さいな水素気泡を発生させることができる。

この状態で、ターゲット水に陽子ビーム３７を照射する
ことによりアンモニア水を高効率で製造することかでき
る。

このようにこの発明によれば、ターゲット液を気液混合
体としてこれに陽子ビームを照射することにしたので、
ターゲット液の前処理が不要になった。この結果、手が
かからなくなり、　また、ターゲット箱内で高効率で放
射性のアンモニア水３Ｎ−ＮＨｌが製造できる。更に、
後処理が非常に簡単にすむため、システムが安定となる
。また、後処理に要する時間を短縮できるため、短寿命
の核種である１３Ｎを基にしたアンモニア水の最終収率
を高めることができる。

［発明の効果］ 以上説明した如く、本発明に係る１３Ｎ−ＮＨ４水製造
用ターゲット箱によれば、ターゲット水の前処理を不要
にし、しかも、後処理を簡単にできる等顕著な効果を奏
するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の”Ｎ−ＮＨ＋４水製造用
ターゲット箱に対するターゲット水と水素ガスの混合装
置を示す説明図、第２図及び第３図は、同実施例にて用
いるターゲット水／水素ガスの混合装置の構成を示す説
明図、第４図は、同実施例にて用いるターゲット箱の説
明図、第５図は、従来のアンモニア水”Ｎ　−Ｎ　Ｈ？
を作るための装置の説明図である。 １２・・・計量器、 １５・・・ターゲラ １７・・・ターゲラ １８・・・ターゲラ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ターゲット水入口管及びターゲット水出口管と連通した
   ターゲット液収容部を有するターゲット箱本体と、前記
   ターゲット液収容部の一側壁部に取付けられた陽電子ビ
   ーム透過用の薄膜と、前記ターゲット水入口管及びター
   ゲット水出口管を介して前記ターゲット液収容部にター
   ゲット水及び水素ガスの混合体を循環させながら供給す
   る手段とを具備することを特徴とする＾１＾３Ｎ−ＮＨ
   ＿４水製造用ターゲット箱。