JPH048134B2 - - Google Patents
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- JPH048134B2 JPH048134B2 JP58108012A JP10801283A JPH048134B2 JP H048134 B2 JPH048134 B2 JP H048134B2 JP 58108012 A JP58108012 A JP 58108012A JP 10801283 A JP10801283 A JP 10801283A JP H048134 B2 JPH048134 B2 JP H048134B2
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- mold
- strand
- slab
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- pool
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/12—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ
- B22D11/122—Accessories for subsequent treating or working cast stock in situ using magnetic fields
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
- Braking Arrangements (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
- Accessories For Mixers (AREA)
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は連続鋳造された金属スラブ、特に鋼の
スラブの電磁撹拌方法に関するものであり、特
に、スラブを鋳造するための連続鋳造機の二次冷
却帯での溶融金属の電磁撹拌方法に関するもので
ある。
スラブの電磁撹拌方法に関するものであり、特
に、スラブを鋳造するための連続鋳造機の二次冷
却帯での溶融金属の電磁撹拌方法に関するもので
ある。
従来の技術
本発明の対象である電磁撹拌操作は、周知のよ
うに、所定の方向に移動(glissant)する1つま
たは複数の可動磁界を鋳造物に加えて、磁界の作
用によつて溶融金属を磁界の加わる方向と同一の
方向に移動させる操作である。
うに、所定の方向に移動(glissant)する1つま
たは複数の可動磁界を鋳造物に加えて、磁界の作
用によつて溶融金属を磁界の加わる方向と同一の
方向に移動させる操作である。
スラブのような細長い製品を連続鋳造する場合
には、製品の大きい方の面と平行な水平方向に溶
融金属を移動させる。
には、製品の大きい方の面と平行な水平方向に溶
融金属を移動させる。
一般に、上記可動磁界は多相静電誘導子、好ま
しくは鋳造物の直ぐ近くに配置した多相静電誘導
子によつて作られる。この多相静電誘導子として
は種々の形式のものが知られている。例えば、誘
導式リニヤモータの固定子に類似したモノブロツ
クの誘導子を、鋳造中にスラブを保持・案内する
ローラ群の後方に配置する方法、ローラ群の一部
と置換する方法(仏国特許第2068308号、独国特
許第2401145号)、互いに隣接した2つのローラの
間に配置する方法(仏国特許第2187468号)等が
知られている。また、上記ローラを中空にし、そ
の内部に円筒形状の誘導子を挿入する方法も提案
されている(英国特許第1405312号)。
しくは鋳造物の直ぐ近くに配置した多相静電誘導
子によつて作られる。この多相静電誘導子として
は種々の形式のものが知られている。例えば、誘
導式リニヤモータの固定子に類似したモノブロツ
クの誘導子を、鋳造中にスラブを保持・案内する
ローラ群の後方に配置する方法、ローラ群の一部
と置換する方法(仏国特許第2068308号、独国特
許第2401145号)、互いに隣接した2つのローラの
間に配置する方法(仏国特許第2187468号)等が
知られている。また、上記ローラを中空にし、そ
の内部に円筒形状の誘導子を挿入する方法も提案
されている(英国特許第1405312号)。
鋳造中に溶融金属を制御下に撹拌することによ
つて得られた製品は、撹拌しない場合に比べて、
内部品質が全体的に向上するということは古くか
ら知られている。すなわち、撹拌作用が凝固組織
に好ましい影響を与える結果、中心部分が多孔質
化(porosite)するのが防止されると同時に、軸
線方向のマクロ偏析が大幅に減少する。実際に
は、撹拌した製品の場合には、マクロ偏析の減少
に伴つて、いわゆる“等軸(equiaxe)”型の非
配向凝固組織が中心部の相対的に広い部分に形
成・発展するので、その外側で“玄武岩
(basalitique)”型結晶成長(デンドライト成長)
が早期から起こるのが阻止される。
つて得られた製品は、撹拌しない場合に比べて、
内部品質が全体的に向上するということは古くか
ら知られている。すなわち、撹拌作用が凝固組織
に好ましい影響を与える結果、中心部分が多孔質
化(porosite)するのが防止されると同時に、軸
線方向のマクロ偏析が大幅に減少する。実際に
は、撹拌した製品の場合には、マクロ偏析の減少
に伴つて、いわゆる“等軸(equiaxe)”型の非
配向凝固組織が中心部の相対的に広い部分に形
成・発展するので、その外側で“玄武岩
(basalitique)”型結晶成長(デンドライト成長)
が早期から起こるのが阻止される。
等軸型の非配向凝固領域が広範囲に成長するこ
とと軸線方向の偏析が減少することとの間には関
係があるということは明らかであるが、本発明者
達が行つた多数の金属組織学的観察結果は、等軸
型の非配向凝固領域が良く発達した場合でも、軸
線方向の偏析が依然として大きく残るということ
を示している。
とと軸線方向の偏析が減少することとの間には関
係があるということは明らかであるが、本発明者
達が行つた多数の金属組織学的観察結果は、等軸
型の非配向凝固領域が良く発達した場合でも、軸
線方向の偏析が依然として大きく残るということ
を示している。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、中心部の等軸型の非配向凝固
領域を極めて広い範囲に成長させると同時に、公
知の電磁撹拌技術を用いて得られる場合よりも軸
線方向のマクロ偏析をはるかに減少させることが
できるような最適撹拌法を提供することにある。
領域を極めて広い範囲に成長させると同時に、公
知の電磁撹拌技術を用いて得られる場合よりも軸
線方向のマクロ偏析をはるかに減少させることが
できるような最適撹拌法を提供することにある。
本発明の他の目的は、最小限の撹拌誘導子を用
いて上記の結果を達成することにある。
いて上記の結果を達成することにある。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明方法は、スラ
ブの抜き出し方向においてインゴツト鋳型の下流
に位置するプール部分において、スラブの大きな
方の面の幅を横切る方向に溶融金属を移動させる
複数の移動磁界をスラブに加え、この際、各移動
磁界は凝固長さに沿つて1〜2mの間隔で配置し
た電磁誘導子によつて発生させ、一つの電磁誘導
子が発生する磁界はそれと隣り合つた他の電磁誘
導子が発生する磁界の方向に対して逆方向となる
ように各誘導子が調節されている、連続鋳造され
た金属スラブの電磁撹拌方法において、インゴツ
ト鋳型に最も近い電磁誘導子を凝固長さに沿つて
鋳型内の溶融金属の自由表面の下側5〜7mの位
置に配置し、プールの底に最も近い電磁誘導子を
プールの底から上側4〜6mの位置に配置して、
インゴツト鋳型内の金属の自由表面から下側3〜
4mとプールの底から上側2〜3mとの間の部分
の溶融金属が移動磁界で撹拌されるようにしたこ
とを特徴としている。
ブの抜き出し方向においてインゴツト鋳型の下流
に位置するプール部分において、スラブの大きな
方の面の幅を横切る方向に溶融金属を移動させる
複数の移動磁界をスラブに加え、この際、各移動
磁界は凝固長さに沿つて1〜2mの間隔で配置し
た電磁誘導子によつて発生させ、一つの電磁誘導
子が発生する磁界はそれと隣り合つた他の電磁誘
導子が発生する磁界の方向に対して逆方向となる
ように各誘導子が調節されている、連続鋳造され
た金属スラブの電磁撹拌方法において、インゴツ
ト鋳型に最も近い電磁誘導子を凝固長さに沿つて
鋳型内の溶融金属の自由表面の下側5〜7mの位
置に配置し、プールの底に最も近い電磁誘導子を
プールの底から上側4〜6mの位置に配置して、
インゴツト鋳型内の金属の自由表面から下側3〜
4mとプールの底から上側2〜3mとの間の部分
の溶融金属が移動磁界で撹拌されるようにしたこ
とを特徴としている。
本発明は、当該分野で通常行われている幅が
600〜2500mm、厚さが150〜300mmの寸法のスラブ
に適用される。
600〜2500mm、厚さが150〜300mmの寸法のスラブ
に適用される。
上記プールの深さは“凝固長さ”で決められ、
この“凝固長さ”はインゴツト鋳型内の金属の自
由表面の位置と、抜き出し方向の下流側で鋳造金
属が全ての横断面で凝固する位置(プールが閉じ
る部分)との間の距離として定義される。
この“凝固長さ”はインゴツト鋳型内の金属の自
由表面の位置と、抜き出し方向の下流側で鋳造金
属が全ての横断面で凝固する位置(プールが閉じ
る部分)との間の距離として定義される。
最小数の電磁誘導子を用いた特殊な実施例では
各誘導子がスラブの大きい方の両面上に互い違い
(quinconce、五の目状)に配置される。
各誘導子がスラブの大きい方の両面上に互い違い
(quinconce、五の目状)に配置される。
また、インゴツト鋳型に最も近い電磁誘導子は
外迫り部分、すなわち、連続鋳造機の曲率中心と
は反対側に湾曲したスラブの大きい方の面上に配
置するのが好ましい。
外迫り部分、すなわち、連続鋳造機の曲率中心と
は反対側に湾曲したスラブの大きい方の面上に配
置するのが好ましい。
作 用
本発明の基本は、鋳造金属に伝達される電磁撹
拌エネルギーを凝固長さの主要部分に分配するこ
とによつて、プールのほぼ全体にわたつて対流移
動を起こさせるものであるということは理解でき
よう。
拌エネルギーを凝固長さの主要部分に分配するこ
とによつて、プールのほぼ全体にわたつて対流移
動を起こさせるものであるということは理解でき
よう。
この場合、下記の理由から液体プールの長さ全
体を撹拌する必要はない。
体を撹拌する必要はない。
(1) プールが閉じる部分に近い所では金属は既に
十分に凝固しており、非常に大きな電磁力でも
対流移動をさせるのは不可能であるため、この
位置の近傍に磁界を作用させても効果がない。
十分に凝固しており、非常に大きな電磁力でも
対流移動をさせるのは不可能であるため、この
位置の近傍に磁界を作用させても効果がない。
(2) インゴツト鋳型内へ溶融金属を供給すると、
対流運動が起こり、この対流運動はインゴツト
鋳型の高さの約2〜3倍の距離に相当する液体
プールの内部まで伝達される。この対流運動を
乱すことは好ましくないので、凝固長さの過度
に高い位置、すなわちインゴツト鋳型の直ぐ近
傍で撹拌を行うのは望ましくない。
対流運動が起こり、この対流運動はインゴツト
鋳型の高さの約2〜3倍の距離に相当する液体
プールの内部まで伝達される。この対流運動を
乱すことは好ましくないので、凝固長さの過度
に高い位置、すなわちインゴツト鋳型の直ぐ近
傍で撹拌を行うのは望ましくない。
撹拌を行う誘導子の位置を決定する場合には以
下の点をさらに考慮する必要がある。すなわち、
磁界の駆動作用をプールの或る高さ(直接駆動領
域)の所に加えると、溶融金属はこの直接駆動領
域の上下でループ状流線となつて間接的に再循環
駆動される。この間接再循環駆動領域のループの
先端は、直接駆動領域から約2〜3m離れた位置
に達する。
下の点をさらに考慮する必要がある。すなわち、
磁界の駆動作用をプールの或る高さ(直接駆動領
域)の所に加えると、溶融金属はこの直接駆動領
域の上下でループ状流線となつて間接的に再循環
駆動される。この間接再循環駆動領域のループの
先端は、直接駆動領域から約2〜3m離れた位置
に達する。
以上の事実から、本発明ではインゴツト鋳型に
最も近いプール部分に磁界を加える誘導子を溶融
金属の自由表面の下側約5〜7mの位置に配置
し、プールの底に近いプール部分に磁界を加える
誘導子を最終の誘導子をプールの底の上側約4〜
5mの位置に配置する。それによつて、電磁撹拌
をする部分の上限はインゴツト鋳型内の金属の自
由表面の下側約3〜4mとなり、また、その下限
はプールの底から上側2〜3mとなる。
最も近いプール部分に磁界を加える誘導子を溶融
金属の自由表面の下側約5〜7mの位置に配置
し、プールの底に近いプール部分に磁界を加える
誘導子を最終の誘導子をプールの底の上側約4〜
5mの位置に配置する。それによつて、電磁撹拌
をする部分の上限はインゴツト鋳型内の金属の自
由表面の下側約3〜4mとなり、また、その下限
はプールの底から上側2〜3mとなる。
誘導子と溶融金属との間の活性界面での磁界の
減衰を防止するためには、磁界の移動速度(誘導
子に流す電流の周波数)を約1〜5Hz程度に小さ
くする必要がある。従つて、上記の間接再循環領
域を挟んで配置される2つの直接駆動領域の間の
平均距離は主として溶融金属に加える電磁力、換
言すれば金属に作用する磁界強度に依存する。現
在のスラブ連続鋳造設備では、通常の運転条件
で、溶融金属の直接駆動領域と間接再循環領域と
の間隔を約2m、さらにはそれ以上にすることが
できるだけの十分に強い磁界を発する電磁誘導子
が使用可能である。
減衰を防止するためには、磁界の移動速度(誘導
子に流す電流の周波数)を約1〜5Hz程度に小さ
くする必要がある。従つて、上記の間接再循環領
域を挟んで配置される2つの直接駆動領域の間の
平均距離は主として溶融金属に加える電磁力、換
言すれば金属に作用する磁界強度に依存する。現
在のスラブ連続鋳造設備では、通常の運転条件
で、溶融金属の直接駆動領域と間接再循環領域と
の間隔を約2m、さらにはそれ以上にすることが
できるだけの十分に強い磁界を発する電磁誘導子
が使用可能である。
間接再循環領域の位置が凝固長さのどこに有る
かを調べるのは容易である。実際には、この領域
の位置は、凝固したインゴツトの横断面を通常の
金属組織学的観察(バウマンプリンテイング)す
ることによつて知ることができる。すなわち、間
接再循環領域の位置は、鋳造金属の他のマトリツ
クス部分より明るいリング形状をしている(負偏
析領域または“ホワイトバンド”ともいわれてい
る)。このリング形状部分の明るさは、移動磁界
によつて直接駆動される位置に形成される主たる
負偏析リングの明るさより暗い。製品内部のこれ
らの異なつた負偏析領域の製品の表面からの深さ
は、連続鋳造機の局部的運転条件、特にインゴツ
ト鋳型に供給される金属の最初の過熱状態、鋳造
金属の抜き出し速度および鋳造金属の凝固速度す
なわち冷却系の調整状態に依存する。これらの各
パラメータを知ることにより、負偏析領域が存在
する位置の深さと、磁界の作用で溶融金属を直接
駆動することによつて生じる間接再循環運動の凝
固長さ上での位置との間の関係は容易に見出すこ
とができる。
かを調べるのは容易である。実際には、この領域
の位置は、凝固したインゴツトの横断面を通常の
金属組織学的観察(バウマンプリンテイング)す
ることによつて知ることができる。すなわち、間
接再循環領域の位置は、鋳造金属の他のマトリツ
クス部分より明るいリング形状をしている(負偏
析領域または“ホワイトバンド”ともいわれてい
る)。このリング形状部分の明るさは、移動磁界
によつて直接駆動される位置に形成される主たる
負偏析リングの明るさより暗い。製品内部のこれ
らの異なつた負偏析領域の製品の表面からの深さ
は、連続鋳造機の局部的運転条件、特にインゴツ
ト鋳型に供給される金属の最初の過熱状態、鋳造
金属の抜き出し速度および鋳造金属の凝固速度す
なわち冷却系の調整状態に依存する。これらの各
パラメータを知ることにより、負偏析領域が存在
する位置の深さと、磁界の作用で溶融金属を直接
駆動することによつて生じる間接再循環運動の凝
固長さ上での位置との間の関係は容易に見出すこ
とができる。
本発明では、上記パラメータを変えることによ
つて、電磁撹拌を行う凝固長さの部分を規定する
上限位置と下限位置を大幅に接近させることもで
きるという点に注目されたい。例えばスラブの抜
き出し速度は約0.7m/分から3m/分以上まで
の範囲で変えることができる。換言すれば、異な
る設備または異なる種類の鉄鋼の間でスラブの抜
き出し速度を1〜5倍の範囲で変えることができ
る。
つて、電磁撹拌を行う凝固長さの部分を規定する
上限位置と下限位置を大幅に接近させることもで
きるという点に注目されたい。例えばスラブの抜
き出し速度は約0.7m/分から3m/分以上まで
の範囲で変えることができる。換言すれば、異な
る設備または異なる種類の鉄鋼の間でスラブの抜
き出し速度を1〜5倍の範囲で変えることができ
る。
実施例
以下、最小数の撹拌誘導子を用い、液体プール
の凝固長さを約12mに減少させ、抜き出し速度を
遅く(0.7m/分)してスラブの連続鋳造を行つ
た場合の本発明方法の特徴的な形態を添付図面を
参照して説明する。
の凝固長さを約12mに減少させ、抜き出し速度を
遅く(0.7m/分)してスラブの連続鋳造を行つ
た場合の本発明方法の特徴的な形態を添付図面を
参照して説明する。
第1,2図にはインゴツト鋳型1と、インゴツ
ト鋳型1に溶融金属を流し込む供給ノズル2と、
鋳造中のスラブ3とが概念的に示されている。こ
のスラブ3は凝固したスキン層(外側層)4と溶
融状態のコア5とを有している。線6は凝固層が
成長して鋳造品の大きい方の面の先端が合流して
できるプールの先端部を表している。
ト鋳型1に溶融金属を流し込む供給ノズル2と、
鋳造中のスラブ3とが概念的に示されている。こ
のスラブ3は凝固したスキン層(外側層)4と溶
融状態のコア5とを有している。線6は凝固層が
成長して鋳造品の大きい方の面の先端が合流して
できるプールの先端部を表している。
凝固長さ“H”すなわちプールの先端部6から
インゴツト鋳型内の溶融金属の表面7まで距離は
第1図のスラブの左側の小さい方の面に付けたマ
ーク(単位:メートル)から直接読み取ることが
できる。
インゴツト鋳型内の溶融金属の表面7まで距離は
第1図のスラブの左側の小さい方の面に付けたマ
ーク(単位:メートル)から直接読み取ることが
できる。
第1,2図では、磁界を直接加えた2つの直接
駆動領域にハツチング9,10が付けられてい
る。既に述べたように、溶融金属はこれらの直接
駆動領域で直接駆動される。溶融金属の流線は第
1図では太線で示したループ13で表されてい
る。磁界の移動方向はスラブの幅方向に加えられ
る。磁界を加えた方向は第1図では直接駆動領域
9,10の右側の矢印によつて、また、第2図で
は慣用的な記号によつて示されている。
駆動領域にハツチング9,10が付けられてい
る。既に述べたように、溶融金属はこれらの直接
駆動領域で直接駆動される。溶融金属の流線は第
1図では太線で示したループ13で表されてい
る。磁界の移動方向はスラブの幅方向に加えられ
る。磁界を加えた方向は第1図では直接駆動領域
9,10の右側の矢印によつて、また、第2図で
は慣用的な記号によつて示されている。
本発明では、第2図に概念的に示すように、鋳
造スラブを支持・案内する円筒ローラの内部に円
筒形状の移動磁界発生用電磁誘導子を特別な問題
無しに配置することができる。このようなローラ
とその内部の誘導子との組合体は本発明の技術分
野では一般に“撹拌ローラ”と呼び、容易に入手
可能なものである。この撹拌ローラは本発明の一
部ではないので、その詳細は省略するが、詳しい
構造等は本出願人による英国特許第1405312号を
参照されたい。
造スラブを支持・案内する円筒ローラの内部に円
筒形状の移動磁界発生用電磁誘導子を特別な問題
無しに配置することができる。このようなローラ
とその内部の誘導子との組合体は本発明の技術分
野では一般に“撹拌ローラ”と呼び、容易に入手
可能なものである。この撹拌ローラは本発明の一
部ではないので、その詳細は省略するが、詳しい
構造等は本出願人による英国特許第1405312号を
参照されたい。
図面を不必要に繁雑にしないために、第1図に
は撹拌ローラは示していない。第2図には撹拌ロ
ーラ11,11′と12,12′のみが示されてい
て、一般にスラブの大きい方の面に沿つて互いに
接近して配置されている通常のローラは図示して
いない。
は撹拌ローラは示していない。第2図には撹拌ロ
ーラ11,11′と12,12′のみが示されてい
て、一般にスラブの大きい方の面に沿つて互いに
接近して配置されている通常のローラは図示して
いない。
凝固長さに磁場を分配する本発明方法の最小限
の形態は、図示したように、撹拌ローラの最初の
対11,11′をインゴツト鋳型の下流側で、鋳
造金属の自由表面7から平均距離6mの所で且つ
スラブの外側表面上に配置し、撹拌ローラの2番
目の対12,12′を最初の撹拌ローラ対11,
11′から底部に向かつて平均距離1.5m離してス
ラブの内側表面上に配置する。この場合、2番目
の対12,12′はプールの底6の上側約4mの
位置にある。なお、最初の撹拌ローラ対11,1
1′が発生する磁界の方向は2番目の撹拌ローラ
対12,12′が発生する磁界の方向と反対であ
る。
の形態は、図示したように、撹拌ローラの最初の
対11,11′をインゴツト鋳型の下流側で、鋳
造金属の自由表面7から平均距離6mの所で且つ
スラブの外側表面上に配置し、撹拌ローラの2番
目の対12,12′を最初の撹拌ローラ対11,
11′から底部に向かつて平均距離1.5m離してス
ラブの内側表面上に配置する。この場合、2番目
の対12,12′はプールの底6の上側約4mの
位置にある。なお、最初の撹拌ローラ対11,1
1′が発生する磁界の方向は2番目の撹拌ローラ
対12,12′が発生する磁界の方向と反対であ
る。
この場合、上下方向に離れた2箇所の直接駆動
領域9,10に加わる移動磁界によつて生じる電
磁撹拌によつて溶融金属内部には“O”を3個並
べた形状または“蝶の羽”形の対流が生じる。こ
の対流は凝固長さの主要部分すなわち上限が目盛
り約3.5mの位置で、下限が約10mの目盛りに近
い位置にある凝固長さの主要部分に生じる。より
正確には、図示したように、“蝶の羽”形の対流
運動は2つの直接駆動領域9,10によつて同時
に駆動される循環が相対的に激しい両誘導子1
1,12の間の中央部分13と、この中央体13
の両側の再循環領域14,15とによつて構成さ
れる。再循環領域14,15は上方および下方に
向かつて延び、凝固長さの約3.5mの所(上方)
および約10m(下方)の所まで延びている。
領域9,10に加わる移動磁界によつて生じる電
磁撹拌によつて溶融金属内部には“O”を3個並
べた形状または“蝶の羽”形の対流が生じる。こ
の対流は凝固長さの主要部分すなわち上限が目盛
り約3.5mの位置で、下限が約10mの目盛りに近
い位置にある凝固長さの主要部分に生じる。より
正確には、図示したように、“蝶の羽”形の対流
運動は2つの直接駆動領域9,10によつて同時
に駆動される循環が相対的に激しい両誘導子1
1,12の間の中央部分13と、この中央体13
の両側の再循環領域14,15とによつて構成さ
れる。再循環領域14,15は上方および下方に
向かつて延び、凝固長さの約3.5mの所(上方)
および約10m(下方)の所まで延びている。
上記方法で撹拌しながら連続鋳造した製品の金
属組織を解析した結果、この鋳造製品は極めて広
い領域で等軸・非配向に凝固しており、この等軸
非配向凝固領域は凝固長さで約3.5mの位置に相
当するスキン層の部分の所から始まつていること
が分かつた。さらに、この解析の結果、この鋳造
製品のコアは実質的にマクロ偏析現象が起きてい
ないことも分かつた。
属組織を解析した結果、この鋳造製品は極めて広
い領域で等軸・非配向に凝固しており、この等軸
非配向凝固領域は凝固長さで約3.5mの位置に相
当するスキン層の部分の所から始まつていること
が分かつた。さらに、この解析の結果、この鋳造
製品のコアは実質的にマクロ偏析現象が起きてい
ないことも分かつた。
これらの結果は第3図から直接示されている。
第3図において、軸線16はスラブの軸線(これ
は鋳造軸線に一致している)を示している。広い
領域にわたつて広がつた等軸型の非配向凝固領域
17の回りは配向した玄武岩状に凝固した縁部1
8で囲まれているが、この写真ではほとんど見え
ない。一方、この写真には、等軸型の非配向凝固
領域17内に互いに接近して位置した2つの明瞭
な輪郭線19,20が明瞭に見られ、これら輪郭
線19,20は直接駆動領域9,10における撹
拌作用によつて形成された負偏析であることを特
徴付けている。さらに、これらの輪郭線の回りで
且つそれからやや離れた位置に別の負偏析輪郭線
21が見える。このコントラストが極めて低い負
偏析輪郭線21は第1図で上方への再循環領域1
4が存在することを示している。下方への再循環
領域15に相当する負偏析輪郭線はこの金属組織
の断面図には見られない。その理由は、この領域
では液相中での固相の割合が非常に高いため、固
い骨格が形成され、その結果、負偏析領域を形成
するだけの強度で凝固先端部を移動させることは
溶融金属の強制対流運動ではできないためであ
る。
第3図において、軸線16はスラブの軸線(これ
は鋳造軸線に一致している)を示している。広い
領域にわたつて広がつた等軸型の非配向凝固領域
17の回りは配向した玄武岩状に凝固した縁部1
8で囲まれているが、この写真ではほとんど見え
ない。一方、この写真には、等軸型の非配向凝固
領域17内に互いに接近して位置した2つの明瞭
な輪郭線19,20が明瞭に見られ、これら輪郭
線19,20は直接駆動領域9,10における撹
拌作用によつて形成された負偏析であることを特
徴付けている。さらに、これらの輪郭線の回りで
且つそれからやや離れた位置に別の負偏析輪郭線
21が見える。このコントラストが極めて低い負
偏析輪郭線21は第1図で上方への再循環領域1
4が存在することを示している。下方への再循環
領域15に相当する負偏析輪郭線はこの金属組織
の断面図には見られない。その理由は、この領域
では液相中での固相の割合が非常に高いため、固
い骨格が形成され、その結果、負偏析領域を形成
するだけの強度で凝固先端部を移動させることは
溶融金属の強制対流運動ではできないためであ
る。
本発明は上記の例に限定されるものではなく、
本発明を逸脱しない限り、種々の変更が可能であ
り、また、均等物で置換することができる。
本発明を逸脱しない限り、種々の変更が可能であ
り、また、均等物で置換することができる。
また、互いに隣接した直接駆動領域の間では移
動磁界の方向を互いに逆方向にするという条件さ
え満たせば、加える移動磁界の数、換言すれば凝
固長さに配置する直接駆動領域の数も種々変更す
ることができる。
動磁界の方向を互いに逆方向にするという条件さ
え満たせば、加える移動磁界の数、換言すれば凝
固長さに配置する直接駆動領域の数も種々変更す
ることができる。
また、利用可能な誘導子数が限られる場合には
直接駆動領域を規定する撹拌誘導子を五点形配列
にすることもできる。それ以外の場合は、スラブ
の直接駆動領域の位置で撹拌誘導子の対を互いに
対向させて配置することができる。この場合、同
一の直接駆動領域に配置する各撹拌誘導子の作る
磁界が同一の方向へ移動するようにすることが重
要であるということは理解できよう。
直接駆動領域を規定する撹拌誘導子を五点形配列
にすることもできる。それ以外の場合は、スラブ
の直接駆動領域の位置で撹拌誘導子の対を互いに
対向させて配置することができる。この場合、同
一の直接駆動領域に配置する各撹拌誘導子の作る
磁界が同一の方向へ移動するようにすることが重
要であるということは理解できよう。
また、上記実施例では各直接駆動領域9,10
を2組の対になつた電磁誘導子11,11′およ
び12,12′によつて駆動しているが、本発明
がこれに限定されるものではない。上記実施例の
配置は、実験では利用可能な各誘導子の公称出力
が約125KVAであつたという事実と、各直接駆動
領域の駆動を250KVAの電磁力で行つたという事
実とを示しているだけである。
を2組の対になつた電磁誘導子11,11′およ
び12,12′によつて駆動しているが、本発明
がこれに限定されるものではない。上記実施例の
配置は、実験では利用可能な各誘導子の公称出力
が約125KVAであつたという事実と、各直接駆動
領域の駆動を250KVAの電磁力で行つたという事
実とを示しているだけである。
本発明方法では溶融金属を同一位置に同一の方
向の直接駆動領域を作ればよいので、電磁誘導子
11,11′および12,12′のように、スラブ
の同一表面上に対を成して配置した誘導子のユニ
ツトおよび/またはスラブの同一位置で互いに反
対側の表面上に配置した誘導子のユニツトを、単
一且つ同一の誘導子にすることもできる。特に、
同一の誘導子を用いた場合には、磁界の移動方向
が均一になる。
向の直接駆動領域を作ればよいので、電磁誘導子
11,11′および12,12′のように、スラブ
の同一表面上に対を成して配置した誘導子のユニ
ツトおよび/またはスラブの同一位置で互いに反
対側の表面上に配置した誘導子のユニツトを、単
一且つ同一の誘導子にすることもできる。特に、
同一の誘導子を用いた場合には、磁界の移動方向
が均一になる。
第1図は連続鋳造されたスラブの大きい方の面
に平行な中間面での縦方向断面図。第2図は上記
スラブの小さい方の面に平行な縦方向断面図。第
3図は凝固したスラブの直角断面の中央部分のバ
ウマンプリンテイング(Baumann Printing)。 (主な参照番号)、1……インゴツト鋳型、2…
…供給ノズル、3……スラブ、4……スキン層、
5……コア、9,10……直接駆動領域、11,
11′……第1の撹拌ローラ対、12,12′……
第2の撹拌ローラ対、H……凝固長さ。
に平行な中間面での縦方向断面図。第2図は上記
スラブの小さい方の面に平行な縦方向断面図。第
3図は凝固したスラブの直角断面の中央部分のバ
ウマンプリンテイング(Baumann Printing)。 (主な参照番号)、1……インゴツト鋳型、2…
…供給ノズル、3……スラブ、4……スキン層、
5……コア、9,10……直接駆動領域、11,
11′……第1の撹拌ローラ対、12,12′……
第2の撹拌ローラ対、H……凝固長さ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スラブの抜き出し方向においてインゴツト鋳
型の下流に位置するプール部分において、スラブ
の大きな方の面の幅を横切る方向に溶融金属を移
動させる複数の移動磁界をスラブに加え、この
際、各移動磁界は凝固長さに沿つて1〜2mの間
隔で配置した電磁誘導子によつて発生させ、一つ
の電磁誘導子が発生する磁界はそれと隣り合つた
他の電磁誘導子が発生する磁界の方向に対して逆
方向となるように各誘導子が調節されている、連
続鋳造された金属スラブの電磁撹拌方法におい
て、 インゴツト鋳型に最も近い電磁誘導子11を凝
固長さHに沿つて鋳型1内の溶融金属の自由表面
7の下側5〜7mの位置に配置し、プールの底6
に最も近い電磁誘導子12をプールの底6から上
側4〜6mの位置に配置して、インゴツト鋳型内
の金属の自由表面7から下側3〜4mとプールの
底6から上側2〜3mとの間の部分の溶融金属が
移動磁界で撹拌されるようにしたことを特徴とす
る方法。 2 各電磁誘導子が凝固長さHに沿つてスラブ3
の大きい方の面の両側に互い違いに配列されてい
る特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 インゴツト鋳型に最も近い電磁誘導子11が
湾曲したスラブ3の外側面上に配置されている特
許請求の範囲第2項に記載の方法。 4 スラブ3を支持・案内する環状ローラの内部
にその長手方向に沿つて円筒状の多相電磁誘導子
を配置した特許請求の範囲第1〜3項のいずれか
一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8210844 | 1982-06-18 | ||
| FR8210844A FR2528739B1 (fr) | 1982-06-18 | 1982-06-18 | Procede et installation de brassage electromagnetique de brames metalliques, notamment d'acier, coulees en continu |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954451A JPS5954451A (ja) | 1984-03-29 |
| JPH048134B2 true JPH048134B2 (ja) | 1992-02-14 |
Family
ID=9275241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58108012A Granted JPS5954451A (ja) | 1982-06-18 | 1983-06-17 | 連続鋳造された金属スラブの電磁撹拌方法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4562879A (ja) |
| EP (1) | EP0097561B2 (ja) |
| JP (1) | JPS5954451A (ja) |
| KR (1) | KR910006065B1 (ja) |
| AT (1) | ATE28586T1 (ja) |
| AU (1) | AU569037B2 (ja) |
| BR (1) | BR8303222A (ja) |
| CA (1) | CA1208878A (ja) |
| DE (1) | DE3372722D1 (ja) |
| ES (1) | ES8501266A1 (ja) |
| FR (1) | FR2528739B1 (ja) |
| MX (1) | MX159768A (ja) |
| ZA (1) | ZA834477B (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2279909C (en) * | 1997-12-08 | 2005-07-26 | Nippon Steel Corporation | Method for casting molten metal, apparatus for the same and cast slab |
| JP2002137191A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-05-14 | Eastern Giken Kk | カートン装着用の切断刃 |
| RU2409448C2 (ru) * | 2006-07-07 | 2011-01-20 | Ротелек | Способ непрерывного литья плоских металлических изделий с электромагнитным перемешиванием и установка для его осуществления |
| ATE498465T1 (de) | 2006-07-07 | 2011-03-15 | Rotelec Sa | Verfahren zum stranggiessen von flachen metallprodukten mit elektromagnetischem rühren und anlage zur durchführung |
| FR2957829B1 (fr) | 2010-03-23 | 2012-11-09 | Rotelec Sa | Rouleau brasseur pour machine de coulee continu de brames |
| CN112045157A (zh) * | 2020-07-24 | 2020-12-08 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 一种低合金高强度耐磨钢板坯的生产方法 |
| CN114682743B (zh) * | 2021-12-29 | 2023-06-13 | 北京科技大学 | 一种金属熔体电磁搅拌装置 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1962341B2 (de) * | 1969-12-12 | 1971-06-24 | Aeg Elotherm Gmbh | Anordnung einer mehrphasigen elektromagnetischen wicklung am strangfuehrungsgeruest einer stranggiessanlage |
| US3882923A (en) * | 1972-06-08 | 1975-05-13 | Siderurgie Fse Inst Rech | Apparatus for magnetic stirring of continuous castings |
| JPS5236492B2 (ja) * | 1972-12-20 | 1977-09-16 | ||
| US4030534A (en) * | 1973-04-18 | 1977-06-21 | Nippon Steel Corporation | Apparatus for continuous casting using linear magnetic field for core agitation |
| JPS529170A (en) * | 1975-07-14 | 1977-01-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Grading apparatus |
| DE2810491A1 (de) * | 1978-03-08 | 1979-09-20 | Aeg Elotherm Gmbh | Verfahren zur beeinflussung der erstarrung einer schmelze waehrend des stranggiessens |
| FR2437900A1 (fr) * | 1978-10-05 | 1980-04-30 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede de coulee continue des metaux avec brassage dans la zone du refroidissement secondaire |
| JPS5592260A (en) * | 1978-12-29 | 1980-07-12 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Steel manufactured by continuous casting method and production thereof |
| DE2912539A1 (de) * | 1979-03-29 | 1980-10-09 | Licentia Gmbh | Vorrichtung zum elektrodynamischen ruehren des sumpfes in einer stranggegossenen erstarrenden metallbramme |
| FR2494607A1 (fr) * | 1980-11-25 | 1982-05-28 | Cem Comp Electro Mec | Inducteur a champ glissant et a flux oriente pour rouleau- brasseur de coulee continue de brames |
-
1982
- 1982-06-18 FR FR8210844A patent/FR2528739B1/fr not_active Expired
-
1983
- 1983-06-07 EP EP83401148A patent/EP0097561B2/fr not_active Expired - Lifetime
- 1983-06-07 AT AT83401148T patent/ATE28586T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-06-07 DE DE8383401148T patent/DE3372722D1/de not_active Expired
- 1983-06-14 CA CA000430377A patent/CA1208878A/fr not_active Expired
- 1983-06-15 AU AU15797/83A patent/AU569037B2/en not_active Ceased
- 1983-06-17 BR BR8303222A patent/BR8303222A/pt not_active IP Right Cessation
- 1983-06-17 US US06/504,845 patent/US4562879A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-06-17 ES ES523383A patent/ES8501266A1/es not_active Expired
- 1983-06-17 ZA ZA834477A patent/ZA834477B/xx unknown
- 1983-06-17 JP JP58108012A patent/JPS5954451A/ja active Granted
- 1983-06-17 MX MX197715A patent/MX159768A/es unknown
- 1983-06-18 KR KR1019830002736A patent/KR910006065B1/ko not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| CA1208878A (fr) | 1986-08-05 |
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| FR2528739A1 (fr) | 1983-12-23 |
| EP0097561A1 (fr) | 1984-01-04 |
| US4562879A (en) | 1986-01-07 |
| KR840005029A (ko) | 1984-11-03 |
| EP0097561B1 (fr) | 1987-07-29 |
| AU569037B2 (en) | 1988-01-21 |
| EP0097561B2 (fr) | 1993-12-08 |
| FR2528739B1 (fr) | 1985-08-02 |
| JPS5954451A (ja) | 1984-03-29 |
| MX159768A (es) | 1989-08-17 |
| KR910006065B1 (ko) | 1991-08-12 |
| ATE28586T1 (de) | 1987-08-15 |
| ZA834477B (en) | 1984-03-28 |
| AU1579783A (en) | 1983-12-22 |
| ES8501266A1 (es) | 1984-11-16 |
| BR8303222A (pt) | 1984-01-31 |
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