JPH0483894A - 錫、鉛または錫―鉛合金めっき浴 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、２価の錫および鉛の共通可溶性酸としてアル
カンスルホン酸および／またはアルカノールスルホン酸
を用いた錫、鉛または錫−鉛合金の電気めっき浴に関す
るものである。

［従来の技術とその問題点］ 近年、錫、錫−鉛合金めっきははんだ付は性向上用皮膜
及びエツチングレジスト用皮膜として弱電工業及び電子
工業用部品等に広く利用されている。

かかる錫、鉛及び錫−鉛合金めっき浴としては従来より
ホウフッ化物浴が工業的に広く用いられている。しかし
ながら、ホウフッ化物浴は腐食性、毒性が激しく、めっ
き設備及び作業に大きな負担となるばかりでなく、排水
処理が非常に困難であり、かつ、多額の出費を伴い、経
済的損失も多大である。

特許第１１５２０１８号には、ホウフッ化物浴に代えて
、分書対策上問題の少ないアルカンスルホン酸またはア
ルカノールスルホン酸およびそれらの錫および／または
鉛塩を主体とするめっき浴を用い、しかもある種の光沢
剤を併用添加してなる浴を用いることによって、ホウフ
ッ化物浴に匹敵しまたはそれ以上の性能を有すると共に
、巾広い電流密度範囲にて光沢性にすぐれた。均質かつ
緻密な錫、鉛または錫−鉛合金めっきを与えるめっき浴
が開示されている。

しかしながら、かかるめっき浴は経時安定性に劣り、長
時間の使用により次第に光沢範囲が狭くなり、また、か
かるめっき浴を用いた電着物皮膜の耐熱性やりフロー性
についても充分でないという欠点を有する。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、かかる欠点を解消し、かかるめっき浴を用い
た電着物皮膜のりフロー性、レベリング性およびはんだ
付は性に優れた低電流密度部から高電流密度部に亘って
広い光沢範囲を有する経時安定性に優れためっき浴を提
供するものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明者らは、前記の欠点を解決すべく鋭意検討した結
果、アルカンスルホン酸および／またはアルカノールス
ルホン酸およびそれらの２価の錫および／または鉛塩を
含有してなる主めっき浴に界面活性剤および特定の光沢
剤ならびに低級不飽和脂肪酸アミド化合物を組み合せて
添加することにより、目的とするめっき浴が得られるこ
とを見出し、本発明を解決するに至った。

即ち、本発明は、アルカンスルホン酸および／またはア
ルカノールスルホン酸ならびにそれらの２価の錫塩およ
び／または２価の鉛塩を含有する主めっき浴に少なくと
も１種の界面活性剤、少なくとも１種の芳香族アルデヒ
ドおよび少なくとも１種の低級不飽和脂肪酸アミド化合
物を添加してなることを特徴とする錫、鉛または錫−鉛
合金めっき浴を提供するものである。

本発明の主めっき浴は、基本的には、アルカンスルホン
酸またはアルカノールスルホン酸の１種以上と、それら
のスルホン酸の錫塩または鉛塩またはその両者の１種以
上よりなっている。

用いることができるアルカンスルホン酸および／または
アルカノールスルホン酸は、茨の一般式％式％ ［式中、Ｒ：アルキル基（Ｃ＋〜１□）］ＨＯＲ−３Ｏ
ｓ　Ｈ ［式中、Ｒ：アルキル基（Ｃ，〜１□）水素基はアルキ
ル基の任意の位置にあってよい］ アルカンスルホン酸の例としては、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、２−プロパン
スルホン酸、ブタンスルホン酸、２−ブタンスルホン酸
、ペンタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、デカンス
ルホン酸、ドデカンスルホン酸などが挙げられる。これ
らのアルカンスルホン酸は単独でまたは２種以上の混合
物として使用できる。

アルカノールスルホン酸の例としては、イセチオン酸（
２−ヒドロキシエタン−１−スルホン酸）、２−ヒドロ
キシプロパン−１−スルホン酸、１−ヒドロキシプロパ
ン−２−スルホン酸、３−ヒドロキシプロパン−１−ス
ルホン酸、２−ヒトロキシブタン−１−スルホン酸、４
−ヒドロキシブタン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシ
ベンクン−１−スルホン酸、２−ヒドロキシヘキサン−
１−スルホン酸、２−ヒドロキシデカン−１−スルホン
酸、２−ヒドロキシドデカン−１−スルホン酸などが挙
げられる。これらのヒドロキシ含有アルカンスルホン酸
は単独でまたは２種以上の混合物として使用できる。

錫めっき浴の場合には、前記のようなアルカンスルホン
酸および／またはアルカノールスルホン酸ならびにその
錫塩を含み、鉛めっき浴の場合は同様にスルホン酸とそ
の鉛塩を含み、さらには錫−鉛合金めっき浴の場合はス
ルホン酸とその錫塩および鉛塩を含有する。錫および／
または鉛塩の総濃度は金属としては０．５〜２００ｇ／
Ｉ２、好ましくは１０〜１００ｇ／ρである。また、め
っき浴中に存在させる遊離のアルカンスルホン酸および
／またはアルカノールスルホン酸の濃度は、浴中の２価
の錫および／または鉛イオンと化学量論的に少なくとも
当量以上とする。

本発明のめっき浴には、非イオン系界面活性剤、カチオ
ン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤または両性界面
活性剤の少なくとも１種以上が用いられる。用いられる
非イオン系界面活性剤の例としては、高級アルコール、
アルキルフェノール、脂肪酸、アミン、アルキレンジア
ミン、脂肪酸アミド、スルホンアミド、りん酸、多価ア
ルコール、グルコシド等のポリオキシアルキレン付加物
が好ましく、具体的には、エマルゲンＢ−６６、エマル
ゲンＬ−４０（花王■製）、アルカノールＰｃ−１０、
テトロニック７０１．７０２．７０４（旭電化■製）、
ノイゲンＥＮ１０、ディスコールＮ−５１２、ディスコ
ールＡＮ−７１５（第−工業製薬側製）、ニューコール
２６１６Ｆ、ＢＡ−８グリコール、ＢＡ−１０グリコー
ル、ニューコール７０７、ニューコール５６９Ｅ　（日
本乳化剤側製）、ＴＤＭＮＳ−８、ＴＡＭＮＯ−１５（
日光ケミカル側設）、アミゼット１０Ｃ（用研ケミカル
■製）、エソマイトＨＴ／６０（ライオン側製）、サー
フィノール４６５（日進化学側製）、セドランＦＦ２１
０．５０ＨＢ−１００，５０ＨＢ−６６０，５０ＨＢ−
５１００（三洋化成■製）等があげられる。

その中でも特に好ましい非イオン系界面活性剤は、下記
の一般式（ｒ）、（ＩＴ　）及びび（ＩＩ［）で示され
るものである。

［式中、ＲはＣ１〜３ｏアルキルまたはｃ３〜３゜ＣＨ
２ＣＨ２Ｏの付加モル数より多いことはない］ 一般式（Ｉ）にて示されるものは、ＲＮＨ２を所定量の
エチレンオキサイドおよび／またはプロピレンオキサイ
ドと反応させることにより得られ、例えば、ニラコール
ＴＡＭＮＳ−５（ＰＯＥ５）、ニラコールＴＡＭＮ○−
５（ＰＯＥ５）（以上、日光ケミカル社製）、エソミン
ｃ／１２（ＰＯＥ２）、！／ミンＣ／１５　（ＰＯＥ５
）、エソミンＴ／１５　（ＰＯＥ５）　、エソミンＳ／
１２　（ＰＯＥ２）、エソミンＨＴ／１４　（ＰＯＥ４
）（以上、ライオン社製）なる商標名の下に市販に供さ
れている。

サイドおよび／またはプロピレンオキサイドと反応させ
ることにより得られ、例えば、エソデュオミンＴ／１３
　（ＰＯＥ３）なる商標名の下に市販に供されている。

・・・　（ＩＴ） ［式中、Ｒ１は０１〜，０アルキルまたはＣ５〜、。

・・・　（ＩＩＩ） 〜６の整数を表わす；但し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ、＋ｎ＋＋
ｎ２＋ｎｓは１から６の範囲内にあり、かの付加モル数
より多いことはない］ 一般式（ＩＩ　）にて示される界面活性剤は、７０　　
；　　Ｒ４＋ｎｓ　　＋ｎｓ　　＋ｎｔ　　＝５〜７０
］一般式（ｍ）にて示されるものは、 Ｈ２ＮＣ８２Ｃ８２Ｎ）１２を所定量のエチレンオキサ
イドおよび／またはピロピレンオキサイドと反応させる
ことにより得られ、例えば、テトロニックＴＲ−７０１
、テトロニックＴＲ−７０２、テトロニックＴＲ−７０
４、テトロニックＴＲ−９１３Ｒ（無電化製）なる商標
名の下に市販に供されている。

カチオン系界面活性剤の例としては、塩の形で表わして
、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウム塩、セチル
トリメチルアンモニウム塩、ステアリルトリメチルアン
モニウム塩、ラウリルジメチルエチルアンモニウム塩、
オクタデ゛セニルジメチルーエチルアンモニウム塩、ラ
ウリルジメチルアンモニウムベタイン、ステアリルジメ
チルアンモニウムベタイン、ジメチル−ベンジルラウリ
ルアンモニウム塩、セチルジメチルベンジルアンモニウ
ム塩、オクタデシルジメチルベンジルアンモニウム塩、
トリメチルベンジルアンモニウム塩、トリエチルベンジ
ルアンモニウム塩、ヘキサデシルピリジニウム塩、ラウ
リルピリジニウム塩、ドデシルピコリニウム塩、ラウリ
ルイミダゾリニウム塩、オレイルイミダゾリニウム塩、
ステアリルアミンアセテート、ラウリルアミンアセテー
ト、オクタデシルアミンアセテート等が挙げられる。

アニオン界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホ
ン酸およびその塩、アルキル硫酸およびその塩、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル硫酸およびその塩、ポリ
オキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸およびそ
の塩、ナフタレン−ホルマリン縮合物のスルホン酸およ
びその塩等があげられる。

両性界面活性剤としては、各種の型のものが使用でき、
例えば、アルキルカルボキシベタイン型として、アンヒ
トール２０ＢＳ　（花王）、スワノールＡＭ−３０１（
日本サーファクタント）、アモーゲンＫ（第一工業製薬
）；アルキルアミノカルホン酸型として′、レポン１５
（三洋化成）、オバノール５１６（東邦化学）、リボミ
ンＬＡ（ライオン）：アルキルイミダゾリン型として、
レポン１０１−Ｈ（三洋化成）、オバゾリン６６２（東
邦化学）、エナジコールＣＮＳ　（ライオン）等が挙げ
られる。

かかる界面活性剤は単独で用いても併用してもよく、本
発明のめっき浴において０．０１〜５０ｇ／β、好まし
くは０１〜２０ｇ／β、さらに好ましくは０．５〜１０
ｇ／βの濃度にて用いられる。

本発明のめっき浴に用いられる芳香族アルデヒドまたは
その誘導体としては、例えば、ナフトアルデヒド、２−
メトキシナフトアルデヒド、２−ヒトロキシナフトアル
デヒド、４−メトキシナフトアルデヒド、０−クロルベ
ンズアルデヒド、シンナムアルデヒド、ベンザルアセト
ンなどが挙げられる。これらの１種または２種以上を主
めっき浴に０．００５〜３０　ｇ／１２の範囲にて添加
する。

本発明のめっき浴においては、上記の界面活性剤および
光沢剤に特に低級不飽和脂肪酸アミド化合物を併用添加
することによって、他の類似のものよりも、電着物皮膜
の耐熱性、リフロー性、レベリング性およびはんだ付は
性に優れた広い光沢範囲を有するめっきが得られること
がわかった。

使用できる低級不飽和脂肪酸アミドとしては、例えばＮ
−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメ
チルアクリルアミド、Ｎ−１ｓ。

−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−メチレンビ
スアクリルアミド、ｔ−ブチルアクリルアミド、ジアセ
トンアクリルアミド、ビスアクリルアミド酢酸、ジメチ
ルアミノプロビルメタクリルアミト、メアクリルアミド
ブロビルトリメチルアンモニウムクロライト等があげら
れる。

本発明においては、これらの低級不飽和脂肪酸アミドの
１種または２種以上を主めっき浴に０．００１〜５ｇ／
β、好ましくは０．０５〜Ｉｇ／βの範囲にて添加する
。

上記化合物をアルカンまたはアルカノールスルホン酸、
界面活性剤および芳香族アルデヒドからなるめっき浴に
添加することにより電着物皮膜の光沢範囲が広がり、さ
らに耐熱性、リフロー性、レベリング性、はんだ付は性
も向上する。

本発明のめっき浴には、前記添加剤に加つるに、ホルム
アルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン、クロト
ンアルデヒドなどの脂肪族アルデヒド類；チオ尿素、ジ
エチルチオ尿素などのチオ尿素類；アクリル酸、メタク
リル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレートな
どの不飽和脂肪酸類またはそのエステル誘導体：可溶性
ビスマス化合物、可溶性アンチモン化合物などを適宜添
加してもよい。かかる化合物は１種または２種以上を混
合して用いてよく、めっき浴中に０００１〜３０ｇ／β
、好ましくはｏ、０１〜５ｇ／βの濃度にて用いられる
。

本発明のめっき浴には、さらに必要に応じてカテコール
、ハイドロキノン、フェノールスルホン酸などの酸化防
止剤を本発明の効果を損わない範囲で添加することがで
きる。

本発明のめっき浴は、常法に従って広い電流密度範囲に
て用いられ、耐熱性、レベリング性、リフロー性、はん
だ付は性、などに優れた錫、鉛および錫−鉛合金皮膜を
得ることができる。

［実施例］ ここで、本発明のめっき浴の具体的実施例を示す。また
、これらのめっき浴から得られためっき皮膜についてハ
ルセル試験を行い、その結果を後記の第１表に要約する
。

夫、ＬＩＭユ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）９ｇ／β ２価の鉛（メタンスルホン酸第−鉛 として添加）１ｇ／Ｉ２ 遊離メタンスルホン酸　　　　　　　　１００ｇ、１テ
トロニックＴＲ−７０１３ｇ＃２ １−ナフトアルデヒド　　　　　　　　０．　Ｉｇ／β
Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド　　０．　Ｉｇ＃！
蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条
件　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に旌１ ２価の錫（ヒドロキシェタンスルホン酸第−錫として添
加）　　　　　Ｉ　Ｏｇ／ρ遊離２−ヒドロキシェタン
スルホン酸１００ｇ／１２ＰＯＥ　（５）ステアリルア
ミン　　　　　４ｇ／β４−メトキシナフトアルデヒド
　　　　０．１ｇ＃！ｔ−ブチルアクリルアミド　　　
　　０．１２ｇ／β蒸留水　　　　　　　　　　　　　
　　残部ハルセル条件　　　　　　　０．５Ａ−１０分
−１５℃夫立■ユ ２価の錫（２−エタンスルホン酸第−錫として添加）　
　　　　　　　１８ｇ／　Ｉ２２価の鉛（２−エタンス
ルホン酸第−鉛として添加）　　　　　　　　　２ｇ／
１２遊離２−エタンスルホン酸　　　　　　１００ｇ／
ｌ２ＰＯＥ　（２）ヤシ油アルキルアミン　３．５ｇ／
β２−ヒドロキシー１−ナフトアルデヒド０．１５ｇ／
Ｉ２ Ｎ　−ｎ−１ｓｏブトキシメチルアクリルアミド０．１
５ｇ／ρ 蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条
件　　　　　　　　ＩＡ−５分＝１５℃に立見Ａ ２価の錫（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸第−錫と
して添加）９ｇ／β ２価の鉛（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸第−鉛と
して添加）　　　　　　Ｉｇ／β遊離２−ヒドロキシプ
ロパンスルホン酸１００ｇ／β Ｏ−クロルベンズアルデヒド　　　　　Ｏ，Ｉｇ／βＰ
ＯＥ　（５）牛脂アルキルプロピレンジアミン３８／ｌ
２ Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド０．２ｇ／Ｉ２ 蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条
件　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に五■１ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）９ｇ／β ２価の鉛（メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ／Ｉ２遊離メタン
スルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／βＰＯＥ　（５
）オレイルアミン　　　　　　３ｇ／Ｉ２１−ナフトア
ルデヒド　　　　　　　　ｏ、　１ｇ／ｆ２ジアセトン
アクリルアミド　　　　　　０．１ｇ／Ｉ２蒸留水　　
　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件　　　　
　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に胤Ｕ ２価の錫（エタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　１０ｇ／β遊離エタンス
ルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／ρＰＯＥ　（４）
ＰＯＰ　（２）オレイルアミン６ｇ／　Ｉ２ ベンザルアセトン　　　　　　　　　０．７ｇ／ρジア
セトンアクリルアミド　　　　　　０．　Ｉｇ／ρ蒸留
水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件　
　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に鳳■ユ ２価の錫（２−ヒドロキシプロパンスルホン酸第−錫と
して添加）　　　　　３６ｇ／Ｉ２２価の鉛（２−ヒド
ロキシプロパンスルホン酸第−鉛として添加）４ｇ／β 遊離メタンスルホン酸　　　　　　　　１００ｇ＃２Ｐ
ＯＥ　（５）ヤシ油脂肪酸アミド　　　７ｇ／β２−メ
トキシナフトアルデヒド　　　　０．１ｇ／βビスアク
リルアミド酢酸　　　　　　０．１５ｇ／β蒸留水　　
　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件　　　　
　　　　３Ａ−３分−２０℃に鳳五１ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　　９ｇ／Ｉ２２価の鉛（
メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ／Ｉｌ遊離メタン
スルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／ｎＰＯＥ　（１
０）　ａ−＋７）−ル６ｇ／Ｉ２ジメチルベンジルラウ
リルアンモニウムクロリド　　　　　　　　　　　　　
０．４ｇ／ρ１−ナフトアルデヒド　　　　　　　　０
．１ｇ／βジアセトンアクリルアミド　　　　　　０．
１ｇ＃２蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハ
ルセル条件　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に
惠１ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）９ｇ／β ２価の鉛（メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ／β遊離メタンス
ルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／βアデカトールＰ
Ｃ−１０６ｇ／Ｉ２ テトロニツタＴＲ−９１３Ｒ６ｇ＃２ １−ナフトアルデヒド　　　　　　　　０．Ｉｇ、／β
ジアセトンアクリルアミド　　　　　　０．　Ｉｇ／β
蒸留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条
件　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃に嵐叢エユ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）９ｇ／ρ ２価の鉛（メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ＃２遊離メタンス
ルホン酸　　　　　　　　］　００ｇ／　ｆ２エンデュ
オミンＴ／１３　　　　　　　　３ｇ＃！アルキルイミ
ダシリン型両性界面活性剤１ｇ／β１−ナフトアルデヒ
ド　　　　　　　　０．１ｇ／ｆ２ジアセトンアクリル
アミド　　　　　　０．　Ｉｇ／β蒸留水　　　　　　
　　　　　　　　　残部ハルセル条件　　　　　　　０
．５Ａ−１０分−１５℃比較」ユ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　　９ｇ、１２価の鉛（メ
タンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ／ｎ遊離メタンス
ルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／βＰＯＥ　（５）
オレイルアミン　　　　　　３ｇ／　（１１−ナフトア
ルデヒド　　　　　　　　０．１ｇ／β蒸留水　　　　
　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件　　　　　　
　０．５Ａ−１０分−１５℃比較皿ユ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　　９ｇ／　Ａ２価の鉛（
メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ／β遊離メタンス
ルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／βＰＯＥ　（１０
）ノニルフェノール　　　１０ｇ／β５モルのアセトア
ルデヒドと１モルのｏ−トルイジンをｐＨ１０：１５℃
で１ｏ日間反応させて得られた沈殿物をイソプロピルア
ルコールで抽出し２０％溶液としたもの　　　２０ｍβ
／βハルセル条件　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１
５℃斑較丘ｊ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　　９ｇ／　１２２価の鉛
（メタンスルホン酸第−鉛 として添加）　　　　　　　　　Ｉｇ＃２遊離メタンス
ルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／βアデカトールＰ
Ｃ−１０６ｇ／Ｉ２ １−ナフトアルデヒド　　　　　　　　０．１ｇ＃２蒸
留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件
　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃比較１４ ２価の錫（メタンスルホン酸第−錫 として添加）　　　　　　　　　９ｇ＃２２価の鉛（メ
タンスルホン酸第−鉛 として添加）１ｇ７℃ 遊離メタンスルホン酸　　　　　　　　１００ｇ／でテ
トロニックＴＲ−７０４６ｇ／Ｉ２ １−ナフトアルデヒド　　　　　　　　０．１ｇ／β蒸
留水　　　　　　　　　　　　　　　残部ハルセル条件
　　　　　　　０．５Ａ−１０分−１５℃第１表 （１）外創： ○：１０〜０．５Ａ／ｄｒｒｌ’におけるめっき外観全
面光沢 △：１０〜０．５Ａ／ｄｒｎ”におけるめっき外観低電
部に若干くもり有り ｘ　：　１０〜０．５Ａ／ｄｒｒ？におけるめっき外観
低電部半光沢 （２）丈ユ三二皿 Ｑ：良 △：普通 ×：不可 （３）逮ｈ」ＪＬす葺 ○：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イム（Ｍ　Ｉ　Ｌ規格にて行う）が２秒以下。

△：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イムが２〜５秒 ×：２５ミリ角の銅板にめっきしたもののゼロクロスタ
イムが５秒以上。

（４）ｋ五二之グ上 ○：良 △：普通 ×：不可

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）アルカンスルホン酸および／またはアルカノール
   スルホン酸ならびにそれらの２価の錫塩および／または
   ２価の鉛塩を含有する主めっき浴に少なくとも１種の界
   面活性剤、少なくとも１種の芳香族アルデヒドおよび少
   なくとも１種の低級不飽和脂肪酸アミド化合物を添加し
   てなることを特徴とする錫、鉛または錫−鉛合金めっき
   浴。
2. （２）界面活性剤が一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（ I ） ［式中、ＲはＣ＿１〜＿３＿０アルキルまたはＣ＿３〜
   ＿３＿０アルケニル；ＸおよびＹはＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ
   または▲数式、化学式、表等があります▼；ｍおよびｎ
   は０〜６の整数を表 わす；但し、ｍおよびｎの和は１から６の範囲内にあり
   、かつ、▲数式、化学式、表等があります▼の付加モル
   数が ＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏの付加モル数より多いことはない］ または一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（II） ［式中、Ｒ＿１はＣ＿１〜＿３＿０アルキルまたはＣ＿
   ３〜＿３＿０アルケニル；ＸおよびＹはＣＨ＿２ＣＨ＿
   ２Ｏまたは▲数式、化学式、表等があります▼；ｍ＿１
   〜ｍ＿３およびｎ＿１〜ｎ＿３は０〜６の整数を表わす
   ；但し、ｍ＿１＋ｍ＿２＋ｍ＿３＋ｎ＿１＋ｎ＿２＋ｎ
   ＿３は１から６の範囲内にあり、かつ、▲数式、化学式
   、表等があります▼の付加モル数がＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏ
   の付加モル数より多いことはない］ にて示される窒素含有非イオン系界面活性剤である請求
   項（１）記載のめっき浴。
3. （３）界面活性剤が一般式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（III） ［式中、Ｒ＿１およびＲ＿２はＣＨ＿２ＣＨ＿２Ｏまた
   は▲数式、化学式、表等があります▼；ｍ＿４＋ｍ＿５
   ＋ｍ＿６＋ｍ＿７＝５〜７０；ｎ＿４＋ｎ＿５＋ｎ＿６
   ＋ｎ＿７＝５〜７０］にて示される窒素含有非イオン系
   界面活性剤である請求項（１）記載のめっき浴。
4. （４）低級不飽和脂肪酸アミドがジアセトンアクリルア
   ミドである請求項（１）〜（３）のいずれかに記載のめ
   つき浴。