JPH0488119A - 再溶融硬化方法およびその装置 - Google Patents
再溶融硬化方法およびその装置Info
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- JPH0488119A JPH0488119A JP20459190A JP20459190A JPH0488119A JP H0488119 A JPH0488119 A JP H0488119A JP 20459190 A JP20459190 A JP 20459190A JP 20459190 A JP20459190 A JP 20459190A JP H0488119 A JPH0488119 A JP H0488119A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ワークの被硬化処理面、例えばエンジンの動
弁機構を構成するカムシャフトにおけるカムの表面にエ
ネルギービームを照射して鎖部を再溶融硬化させる方法
およびその装置に関する。
弁機構を構成するカムシャフトにおけるカムの表面にエ
ネルギービームを照射して鎖部を再溶融硬化させる方法
およびその装置に関する。
(従来の技術)
例えば、エンジンの動弁機構を構成するカムシャフトの
ような特に耐摩耗性を要求される金属部品については、
その表面に硬化処理を施すことがある。
ような特に耐摩耗性を要求される金属部品については、
その表面に硬化処理を施すことがある。
そして、上記カムシャフト等の金属部品の表面硬化方法
として、例えば特開昭60−258421号公報に開示
されているように、金属製ワークの被硬化処理面にエネ
ルギービーム(プラズマアーク)を照射してその表層部
分を局部的に再溶融させて組織のチル化を図り、鎖部の
硬度を高めるようにした所謂再溶融硬化方法が知られて
いる。
として、例えば特開昭60−258421号公報に開示
されているように、金属製ワークの被硬化処理面にエネ
ルギービーム(プラズマアーク)を照射してその表層部
分を局部的に再溶融させて組織のチル化を図り、鎖部の
硬度を高めるようにした所謂再溶融硬化方法が知られて
いる。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、上記のように再溶融硬化方法により再溶融さ
れる金属製ワークにおける被硬化処理面の溶融状態は、
該ワークに含有される化学成分のうち特に炭素含有量に
左右され、このなめ、再溶融された組織が凝固して形成
されるチル層の生成状態が個々のワークの炭素含有量の
差違により大きく変化することになっていた。
れる金属製ワークにおける被硬化処理面の溶融状態は、
該ワークに含有される化学成分のうち特に炭素含有量に
左右され、このなめ、再溶融された組織が凝固して形成
されるチル層の生成状態が個々のワークの炭素含有量の
差違により大きく変化することになっていた。
一方、上記再溶融硬化方法により硬化処理されるワーク
の一例としてのカムシャフトは、一般に鋳造により製造
されるのであるが、各カムシャフトごとに炭素含有量が
微妙に相違するのが通例である。このため、カムシャフ
トにおけるカム面を再溶融硬化しようとして、その表面
に一律の照射出力でエネルギービームを照射した場合に
、各カムシャフトの炭素含有量の差違に起因して個々に
溶融状態が異なってチル層の生成状態にバラツキが発生
し、カム面の硬度が各カムシャフトごとに異なって全て
のカムシャフトについてその品質を一定にすることが困
難とされていた。
の一例としてのカムシャフトは、一般に鋳造により製造
されるのであるが、各カムシャフトごとに炭素含有量が
微妙に相違するのが通例である。このため、カムシャフ
トにおけるカム面を再溶融硬化しようとして、その表面
に一律の照射出力でエネルギービームを照射した場合に
、各カムシャフトの炭素含有量の差違に起因して個々に
溶融状態が異なってチル層の生成状態にバラツキが発生
し、カム面の硬度が各カムシャフトごとに異なって全て
のカムシャフトについてその品質を一定にすることが困
難とされていた。
そこで本発明は、上記カムシャフト等の金属製ワークに
おける被硬化処理面にエネルギービームを照射して顔部
を再溶融硬化させる場合に、個々のワークの炭素含有量
の差違に左右されることなく全てのワークについて均一
に所要のチル層を形成することのできる再溶融硬化方法
および該方法を実施するための装置を提供することを目
的とする。
おける被硬化処理面にエネルギービームを照射して顔部
を再溶融硬化させる場合に、個々のワークの炭素含有量
の差違に左右されることなく全てのワークについて均一
に所要のチル層を形成することのできる再溶融硬化方法
および該方法を実施するための装置を提供することを目
的とする。
(課題を解決するための゛手段)
上記の課題を解決するために、本発明は次のように構成
したことを特徴とする。
したことを特徴とする。
■ず、本願の第1請求項に係る発明(以下、第1発明と
いう)は、ワークの被硬化処理面にエネルギービームを
照射して該被硬化処理面を再溶融硬化させる方法におい
て、上記エネルギービームの照射前に少なくともワーク
中の炭素含有量を測定し、その含有量に応じてワークの
被硬化処理面に所要の硬化層が形成されるように上記エ
ネルギービームの照射出力を制御するようにしたことを
特徴とする。
いう)は、ワークの被硬化処理面にエネルギービームを
照射して該被硬化処理面を再溶融硬化させる方法におい
て、上記エネルギービームの照射前に少なくともワーク
中の炭素含有量を測定し、その含有量に応じてワークの
被硬化処理面に所要の硬化層が形成されるように上記エ
ネルギービームの照射出力を制御するようにしたことを
特徴とする。
また、本願の第2請求項に係る発明(以下、第2発明と
いう)は、上記第1発明の方法を実施するための装置と
して、ワークの被硬化処理面にエネルギービームを照射
するエネルギービーム照射手段と、該照射手段によるエ
ネルギービームの照射前に少なくともワーク中の炭素含
有量を検出する検出手段と、該検出手段により検出され
た炭素含有量に応じてワークの被硬化処理面に所要の硬
化層が形成されるように上記エネルギービームの照射出
力を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする。
いう)は、上記第1発明の方法を実施するための装置と
して、ワークの被硬化処理面にエネルギービームを照射
するエネルギービーム照射手段と、該照射手段によるエ
ネルギービームの照射前に少なくともワーク中の炭素含
有量を検出する検出手段と、該検出手段により検出され
た炭素含有量に応じてワークの被硬化処理面に所要の硬
化層が形成されるように上記エネルギービームの照射出
力を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする。
(作 用)
第1、第2発明によれば、ワークの被硬化処理面にエネ
ルギービームが照射される前に、少なくともワーク中の
炭素含有量が測定され、その含有量に応じてワークの被
硬化処理面に所要の硬化層が形成されるように上記エネ
ルギービームの照射出力が制御されることになり、これ
により、ワークの溶融状態を左右する炭素含有量が各ワ
ークごとに相違する場合であっても、各ワークの被硬化
処理面が均一にチル化されて顔部に所要の硬化層が形成
されることになって、すべてのワークについてその硬度
を均一に仕上げることができる。
ルギービームが照射される前に、少なくともワーク中の
炭素含有量が測定され、その含有量に応じてワークの被
硬化処理面に所要の硬化層が形成されるように上記エネ
ルギービームの照射出力が制御されることになり、これ
により、ワークの溶融状態を左右する炭素含有量が各ワ
ークごとに相違する場合であっても、各ワークの被硬化
処理面が均一にチル化されて顔部に所要の硬化層が形成
されることになって、すべてのワークについてその硬度
を均一に仕上げることができる。
く実 施 例)
以下、本発明の実施例について説明する。
まず、第1発明に係る再溶融硬化方法について説明する
と、この方法においては、金属製ワークの被硬化処理面
にエネルギービームを照射して顔部を再溶融硬化させる
際に、上記エネルギービームの被硬化処理面への照射前
に少なくともワーク中の炭素含有量を測定し、その測定
値に応じてワークの被硬化処理面に所要の硬化層が形成
されるように上記エネルギービームの照射出力を制御す
るようにしたものである。そして、当該再溶融硬化方法
により硬化処理されるワークの一例としては、自動車に
おけるエンジンの動弁機構を構成するカムシャフト等が
あり、本実施例においては、上記カムシャフトのカムの
表面を硬化処理する場合について説明する。
と、この方法においては、金属製ワークの被硬化処理面
にエネルギービームを照射して顔部を再溶融硬化させる
際に、上記エネルギービームの被硬化処理面への照射前
に少なくともワーク中の炭素含有量を測定し、その測定
値に応じてワークの被硬化処理面に所要の硬化層が形成
されるように上記エネルギービームの照射出力を制御す
るようにしたものである。そして、当該再溶融硬化方法
により硬化処理されるワークの一例としては、自動車に
おけるエンジンの動弁機構を構成するカムシャフト等が
あり、本実施例においては、上記カムシャフトのカムの
表面を硬化処理する場合について説明する。
次に、第1図に基づいて、上記再溶融硬化方法によりカ
ムシャフトにおけるカム面に硬化処理を施すための装置
について説明すると、この再溶融硬化装置1は、ワーク
としてのカムシャフト2に含有される炭素量を測定する
測定装置3と、カムシャフト2の各カム2】、22.2
3.24の表面にエネルギービームを照射するビームト
ーチ4.4と、これらの各ビームトーチ4,4にエネル
ギービームを発生させるためのエネルギーを供給するエ
ネルギー源5.5と、該エネルギー源5.5からのエネ
ルギー供給量を制御して各ビームトーチ4,4より照射
されるエネルギービームの出力をコントロールするコン
トローラ6と、該コントローラ6を制御するメインコン
トローラ7とを有する。
ムシャフトにおけるカム面に硬化処理を施すための装置
について説明すると、この再溶融硬化装置1は、ワーク
としてのカムシャフト2に含有される炭素量を測定する
測定装置3と、カムシャフト2の各カム2】、22.2
3.24の表面にエネルギービームを照射するビームト
ーチ4.4と、これらの各ビームトーチ4,4にエネル
ギービームを発生させるためのエネルギーを供給するエ
ネルギー源5.5と、該エネルギー源5.5からのエネ
ルギー供給量を制御して各ビームトーチ4,4より照射
されるエネルギービームの出力をコントロールするコン
トローラ6と、該コントローラ6を制御するメインコン
トローラ7とを有する。
上記メインコントローラ7には、測定装置3からのカム
シャフト2の炭素含有量を示す信号aが入力され、これ
に基づいて該メインコントローラ7からコントローラ6
に信号すが出力される。そして、コントローラ6には、
上記カムシャフト2の炭素含有量に応じてエネルギービ
ームの照射出力を可変するためのプログラムが予め設定
されており、上記信号すに基づいて該コントローラ6か
ら各エネルギー源5に制御信号Cが圧力され、これによ
り、該エネルギー源5より上記カムシャフト2の炭素含
有量に応じた照射出力のエネルギービームを発生させる
ためのエネルギーdが各ビームトーチ4に供給されるよ
うになっている。
シャフト2の炭素含有量を示す信号aが入力され、これ
に基づいて該メインコントローラ7からコントローラ6
に信号すが出力される。そして、コントローラ6には、
上記カムシャフト2の炭素含有量に応じてエネルギービ
ームの照射出力を可変するためのプログラムが予め設定
されており、上記信号すに基づいて該コントローラ6か
ら各エネルギー源5に制御信号Cが圧力され、これによ
り、該エネルギー源5より上記カムシャフト2の炭素含
有量に応じた照射出力のエネルギービームを発生させる
ためのエネルギーdが各ビームトーチ4に供給されるよ
うになっている。
そして、図示のように、一方のトーチ4によりカムシャ
フト2におけるカム21.22の表面にエネルギービー
ムが照射されたのち、他方のトーチ4により該カムシャ
フト2におけるカム2324の表面にエネルギービーム
が照射されるようになっている。また、上記他方のトー
チ4によりカム23.24の表面にエネルギービームが
照射されているときには、新たなカムシャフト2のカム
21.22の表面に一方のトーチ4によりエネルギービ
ームが照射され、これにより、順次連続的にカムシャフ
ト2における各カム21〜24を再溶融硬化し得るよう
に構成されている。
フト2におけるカム21.22の表面にエネルギービー
ムが照射されたのち、他方のトーチ4により該カムシャ
フト2におけるカム2324の表面にエネルギービーム
が照射されるようになっている。また、上記他方のトー
チ4によりカム23.24の表面にエネルギービームが
照射されているときには、新たなカムシャフト2のカム
21.22の表面に一方のトーチ4によりエネルギービ
ームが照射され、これにより、順次連続的にカムシャフ
ト2における各カム21〜24を再溶融硬化し得るよう
に構成されている。
なお、上記カムシャフト2の炭素含有量を測定する測定
装置3は、金属製品の非破壊検査に使用される装置を応
用したものであって、例えば、カムシャフト2の外周囲
を覆うように電磁コイルを配設し、該コイルに通電する
ことによりカムシャフト2の周囲に磁場を発生させて、
その磁場内におけるカムシャフト2の透磁率を検出し、
これに基づいて該カムシャフト2の炭素含有量を測定し
得るように構成されている。
装置3は、金属製品の非破壊検査に使用される装置を応
用したものであって、例えば、カムシャフト2の外周囲
を覆うように電磁コイルを配設し、該コイルに通電する
ことによりカムシャフト2の周囲に磁場を発生させて、
その磁場内におけるカムシャフト2の透磁率を検出し、
これに基づいて該カムシャフト2の炭素含有量を測定し
得るように構成されている。
ここで、上記ビームトーチ4によるエネルギービームの
照射方法について説明すると、第2図に拡大して示すよ
うに、カムシャフト2を所定の速度で矢印(イ)方法に
回転させると共に、ビームトーチ4を矢印(ロ)で示す
ように、所定の範囲で往復移動させることにより、上記
ビームトーチ4より照射されたエネルギービームXによ
り各カム21〜24のカム面21′〜24′上に軌跡X
′が形成され、これにより、各カム面21′〜24′が
再溶融されるようになっている。また、上記ビームトー
チ4を固定し、カムシャフト2を回転させ、且つ該カム
シャフト2を所定の範囲で矢印(ロ)方法に往復移動さ
せるようにしても良い。
照射方法について説明すると、第2図に拡大して示すよ
うに、カムシャフト2を所定の速度で矢印(イ)方法に
回転させると共に、ビームトーチ4を矢印(ロ)で示す
ように、所定の範囲で往復移動させることにより、上記
ビームトーチ4より照射されたエネルギービームXによ
り各カム21〜24のカム面21′〜24′上に軌跡X
′が形成され、これにより、各カム面21′〜24′が
再溶融されるようになっている。また、上記ビームトー
チ4を固定し、カムシャフト2を回転させ、且つ該カム
シャフト2を所定の範囲で矢印(ロ)方法に往復移動さ
せるようにしても良い。
次に本実施例の作用を説明すると、第1.2図に示すよ
うに、各ビームトーチ4,4より照射されるエネルギー
ビームXによりカムシャフト2における各カム21〜2
4のカム面21’〜24が再溶融硬化されることになる
のであるが、該カムシャフト2は炭素含有量により溶融
状態が左右される。即ち、第3図に示す炭素鋼の状態図
より明らかなように、溶融組織り中にガンマ鉄を含む半
溶融状態(図中、L+γで示す領域)、もしくは溶融組
WAL中にFe50または黒鉛を含む半溶融状態(図中
、−L、+Feg○または黒鉛で示す領域)より組織の
全てが溶融状態(図中、して示す領域)に移行する温度
がカムシャフト2を構成する鋳鉄中に含有される炭素量
により左右され、このため、溶融組織りが凝固して形成
されるチル層の生成状態が炭素含有量により変化するこ
とになるのであるが、本実施例においては、各カム21
〜24のカム面21〜24′にエネルギービームXが照
射される前に、測定装置3によりカムシャフト2の炭素
含有量が測定され、その含有量に応じて各カム面21〜
24に所要の硬化層が形成されるように上記エネルギー
ビームXの照射出力が制御されることになる。これによ
り、カムシャフト2の溶融状態を左右する炭素含有量が
各カムシャフト2ごとに相違する場合であっても、各カ
ムシャフト2におけるカム面2、′〜24がそれぞれ均
一にチル化されて鎖部に所要の硬化層が生成されること
になって、すべてのカムシャフト2についてその硬度を
均一に仕上げることができる。
うに、各ビームトーチ4,4より照射されるエネルギー
ビームXによりカムシャフト2における各カム21〜2
4のカム面21’〜24が再溶融硬化されることになる
のであるが、該カムシャフト2は炭素含有量により溶融
状態が左右される。即ち、第3図に示す炭素鋼の状態図
より明らかなように、溶融組織り中にガンマ鉄を含む半
溶融状態(図中、L+γで示す領域)、もしくは溶融組
WAL中にFe50または黒鉛を含む半溶融状態(図中
、−L、+Feg○または黒鉛で示す領域)より組織の
全てが溶融状態(図中、して示す領域)に移行する温度
がカムシャフト2を構成する鋳鉄中に含有される炭素量
により左右され、このため、溶融組織りが凝固して形成
されるチル層の生成状態が炭素含有量により変化するこ
とになるのであるが、本実施例においては、各カム21
〜24のカム面21〜24′にエネルギービームXが照
射される前に、測定装置3によりカムシャフト2の炭素
含有量が測定され、その含有量に応じて各カム面21〜
24に所要の硬化層が形成されるように上記エネルギー
ビームXの照射出力が制御されることになる。これによ
り、カムシャフト2の溶融状態を左右する炭素含有量が
各カムシャフト2ごとに相違する場合であっても、各カ
ムシャフト2におけるカム面2、′〜24がそれぞれ均
一にチル化されて鎖部に所要の硬化層が生成されること
になって、すべてのカムシャフト2についてその硬度を
均一に仕上げることができる。
なお、本実施例においては、上記測定装置3によりカム
シャフト2の炭素含有量を測定し、その含有量に応じて
エネルギービームの照射出力を制御するようにしたけれ
ども、該カムシャフト2のケイ素含有量も硬化層を形成
する場合に少なからず影響を及ぼすことが知られており
、このため、上記測定装置3をカムシャフト2の炭素含
有量およびケイ素含有量を測定し得る構成とすると共に
、第1図に示すように、上記メインコントローラ7より
の測定モード切換信号eによりカムシャフト2の炭素含
有量とケイ素含有量をそれぞれ測定し、これに基づいて
エネルギービームの照射出力を制御するように構成して
も良い。また、上記ネルギービームとしては、電子ビー
ムあるいはレザービーム等が考えられる。
シャフト2の炭素含有量を測定し、その含有量に応じて
エネルギービームの照射出力を制御するようにしたけれ
ども、該カムシャフト2のケイ素含有量も硬化層を形成
する場合に少なからず影響を及ぼすことが知られており
、このため、上記測定装置3をカムシャフト2の炭素含
有量およびケイ素含有量を測定し得る構成とすると共に
、第1図に示すように、上記メインコントローラ7より
の測定モード切換信号eによりカムシャフト2の炭素含
有量とケイ素含有量をそれぞれ測定し、これに基づいて
エネルギービームの照射出力を制御するように構成して
も良い。また、上記ネルギービームとしては、電子ビー
ムあるいはレザービーム等が考えられる。
(発明の効果)
以上のように、第1、第2発明によれば、ワークの被硬
化処理面にエネルギービームを照射する前に、少なくと
もワーク中の炭素含有量が測定され、その含有量に応じ
てワークの被硬化処理面に所要の硬化層が形成されるよ
うに上記エネルギービームの照射出力が制御されること
になり、これにより、個々のワークの炭素含有量がそれ
ぞれ相違する場合であっても、各ワークの被硬化処理面
が均一にチル化されて所要の硬化層が形成されることに
なって、すべてのワークについてその硬度を均一に仕上
げることができる。
化処理面にエネルギービームを照射する前に、少なくと
もワーク中の炭素含有量が測定され、その含有量に応じ
てワークの被硬化処理面に所要の硬化層が形成されるよ
うに上記エネルギービームの照射出力が制御されること
になり、これにより、個々のワークの炭素含有量がそれ
ぞれ相違する場合であっても、各ワークの被硬化処理面
が均一にチル化されて所要の硬化層が形成されることに
なって、すべてのワークについてその硬度を均一に仕上
げることができる。
第1.2図は本発明の実施例を示すもので、第1図は本
実施例に係る再溶融硬化装置の概略構成を示す全体シス
テム図、第2図は該装置によるエネルギービームの照射
方法の一例を示す説明図である。また、第3図は本実施
例に関連して示す炭素鋼の状態図である。 1・・・再溶融硬化装置、2・・・ワーク(カムシャフ
ト)、21〜24・・・被硬化処理面(カム面)、3・
・・検出手段(測定装置)、4・・・エネルギービーム
照射手段(ビームトーチ)、6.7・・・制御手段(6
・・・コントローラ、7・・・メインコントローラ)、
X・・・エネルギービーム。 出願人 マツダ 株式会社− 代理人 福 岡 正 明−
実施例に係る再溶融硬化装置の概略構成を示す全体シス
テム図、第2図は該装置によるエネルギービームの照射
方法の一例を示す説明図である。また、第3図は本実施
例に関連して示す炭素鋼の状態図である。 1・・・再溶融硬化装置、2・・・ワーク(カムシャフ
ト)、21〜24・・・被硬化処理面(カム面)、3・
・・検出手段(測定装置)、4・・・エネルギービーム
照射手段(ビームトーチ)、6.7・・・制御手段(6
・・・コントローラ、7・・・メインコントローラ)、
X・・・エネルギービーム。 出願人 マツダ 株式会社− 代理人 福 岡 正 明−
Claims (2)
- (1)ワークの被硬化処理面にエネルギービームを照射
して該被硬化処理面を再溶融硬化させる方法において、
上記エネルギービームの照射前に少なくともワーク中の
炭素含有量を測定し、その含有量に応じてワークの被硬
化処理面に所要の硬化層が形成されるように上記エネル
ギービームの照射出力を制御するようにしたことを特徴
とする再溶融硬化方法。 - (2)ワークの被硬化処理面にエネルギービームを照射
して該被硬化処理面を再溶融硬化させる装置において、
上記エネルギービームを照射するエネルギービーム照射
手段と、該照射手段によるエネルギービームの照射前に
少なくともワーク中の炭素含有量を検出する検出手段と
、該検出手段により検出された炭素含有量に応じてワー
クの被硬化処理面に所要の硬化層が形成されるように上
記エネルギービームの照射出力を制御する制御手段とを
設けたことを特徴とする再溶融硬化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20459190A JPH0488119A (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 再溶融硬化方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20459190A JPH0488119A (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 再溶融硬化方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0488119A true JPH0488119A (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=16493005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20459190A Pending JPH0488119A (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 再溶融硬化方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0488119A (ja) |
-
1990
- 1990-07-31 JP JP20459190A patent/JPH0488119A/ja active Pending
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