JPH048896A - Vacuum pump - Google Patents
Vacuum pumpInfo
- Publication number
- JPH048896A JPH048896A JP2107596A JP10759690A JPH048896A JP H048896 A JPH048896 A JP H048896A JP 2107596 A JP2107596 A JP 2107596A JP 10759690 A JP10759690 A JP 10759690A JP H048896 A JPH048896 A JP H048896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- stator
- gas
- temperature
- vacuum pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、排気口を大気圧で運転する真空ポンプに係り
、特に、反応生成物の付着しやすいプロセスに使用する
のに好適なドライ真空ポンプに関する。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a vacuum pump whose exhaust port is operated at atmospheric pressure, and in particular to a dry vacuum pump suitable for use in processes where reaction products tend to adhere. Regarding pumps.
ドライ真空ポンプは、吸気口から流入する気体が通過す
る流路に油や水が無いため、クリーンな真空が得られる
という優れた特徴をもつが、一方、気体を圧縮する際の
発熱を取り去る効果が無くなるため、ポンプ内の温度が
高くなってしまう。そこで従来は、発熱部の外側に冷却
ジャケットを設けて水冷却していた。Dry vacuum pumps have the excellent feature of providing a clean vacuum because there is no oil or water in the flow path through which the gas flowing in from the intake port passes. The temperature inside the pump becomes high because of this. Therefore, conventionally, a cooling jacket was provided outside the heat generating part to perform water cooling.
第2図は、従来のドライ真空ポンプの断面図である。吸
気口1.排気口2をもったケーシング3の内部に、軸受
6によって回転自在しこ支承されたロータ4と静止して
いるステータ5とが設けられている。吸気口1から吸い
込まれた気体は、ロータ4とステータ5の圧縮作用によ
り、順次、圧縮され、排気口2から大気へ排気される。FIG. 2 is a sectional view of a conventional dry vacuum pump. Intake port 1. A rotor 4 rotatably supported by a bearing 6 and a stationary stator 5 are provided inside a casing 3 having an exhaust port 2. Gas sucked in through the intake port 1 is sequentially compressed by the compression action of the rotor 4 and the stator 5, and is exhausted to the atmosphere through the exhaust port 2.
その圧縮過程で、気体は圧縮熱を発生するが、排気口2
に近い程、その圧縮熱量は多くなる。この圧縮熱を取り
去るために、第2図の例ではステータ5の外側に冷却ジ
ャケット9を設け、給水口13から供給される水で冷却
するようになっている。During the compression process, the gas generates compression heat, but the exhaust port 2
The closer it is to , the greater the amount of compression heat. In order to remove this compression heat, a cooling jacket 9 is provided outside the stator 5 in the example shown in FIG. 2, and the stator 5 is cooled with water supplied from a water supply port 13.
なお、この種の従来技術は、特開昭61−247893
号公報に記載のものがある。This type of conventional technology is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-247893.
There is something described in the publication.
上記従来技術では、金属性の冷却ジャケットに、直接、
水を通して冷却していたため、冷却効果は非常によい。In the above conventional technology, the metal cooling jacket is directly
Since it was cooled by passing water through it, the cooling effect was very good.
しかし、吸込気体の昇華温度が高い場合、ポンプ内部温
度が低いと気体が固体化し、ポンプの内部に反応生成物
として付着堆積し、ポンプ流路を塞ぎ、ついにはロータ
ロックを生じる。However, when the sublimation temperature of the suction gas is high and the internal temperature of the pump is low, the gas solidifies and deposits as a reaction product inside the pump, blocking the pump flow path and eventually causing rotor lock.
また、冷却水量をある量以下に減少させると、温度の不
均一化が生じてポンプの性能が低下したり、流速の遅い
部分でカルキが析出するなどの問題があった。Furthermore, if the amount of cooling water is reduced below a certain amount, there are problems such as temperature non-uniformity, which reduces pump performance, and deposits of limescale in areas where the flow rate is slow.
本発明の目的は、ポンプ流路部に昇華温度の高い気体が
吸込まれても、気体が固体化することなく、反応生成物
の付着堆積を防ぐ真空ポンプを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a vacuum pump that prevents the gas from solidifying even when gas having a high sublimation temperature is sucked into the pump flow path and prevents reaction products from being deposited.
上記目的を達成するために、本発明は冷却ジャケット内
面の熱伝導率を小さくすることにより、ポンプ内部の温
度を一様に上昇させ、吸気口から吸込まれる昇華温度の
高い物質を気相側の温度以上に保つことができるように
した。In order to achieve the above object, the present invention uniformly increases the temperature inside the pump by reducing the thermal conductivity of the inner surface of the cooling jacket, and directs substances with high sublimation temperature sucked in from the intake port to the gas phase side. It was possible to maintain the temperature above .
例えば、半導体製造装置における反応炉から出る気体は
、その物質の蒸気圧と温度の関係により。For example, the gas emitted from a reactor in semiconductor manufacturing equipment depends on the relationship between the vapor pressure and temperature of the substance.
大気圧に近くなる程、温度が高くないと固体になってし
まい、反応生成物としてポンプ流路に付着堆積すること
になる。As the pressure approaches the atmospheric pressure, unless the temperature is high, it becomes solid, and it will adhere and deposit in the pump channel as a reaction product.
ポンプは圧縮作用により多量の熱を発生するので、冷却
ジャケット内面の熱伝導率を小さくすると、ポンプ流路
を高い温度に一定に保つことができる。それによって、
ポンプ流路を通過する気体を高温で、かつ、一定に保つ
ことができるので、反応生成物の付着堆積を防ぐことが
できる。Since a pump generates a large amount of heat through compression, reducing the thermal conductivity of the inner surface of the cooling jacket allows the pump flow path to be kept at a constant high temperature. Thereby,
Since the gas passing through the pump channel can be kept at a constant high temperature, it is possible to prevent reaction products from adhering and accumulating.
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図において、吸気口1と排気口2とをもつケーシン
グ3内には、軸受7によって支承され、モータ8により
駆動されるロータ4と、ロータ4を囲むようにして取付
けられたステータ5とからなるポンプ機構部6がある。In FIG. 1, a casing 3 having an intake port 1 and an exhaust port 2 includes a rotor 4 supported by a bearing 7 and driven by a motor 8, and a stator 5 attached so as to surround the rotor 4. There is a pump mechanism section 6.
吸気口1から吸込まれた気体は、ロータ4とステータ5
の圧縮作用により、順次、圧縮され、排気口2より大気
へ排気される。ステータ5の外側には冷却ジャケット9
が設けてあり、その内面には、プラスチック板10が接
着剤によって貼り付けである。そして。The gas sucked in from the intake port 1 is transferred to the rotor 4 and stator 5.
Due to the compression action of , the air is sequentially compressed and exhausted to the atmosphere through the exhaust port 2 . A cooling jacket 9 is provided on the outside of the stator 5.
is provided, and a plastic plate 10 is pasted on its inner surface with adhesive. and.
ゴム製のOリング11でシールして、ジャケットカバー
12によって閉空間を形成している。ジャケットカバー
12には、給水口13、及び、排水口14が設けてあり
、給水口13から流入した冷却水は、ポンプ機構部6で
気体が圧縮されるときに発生する熱を奪って、排水口1
4から排出される。A closed space is formed by sealing with a rubber O-ring 11 and a jacket cover 12. The jacket cover 12 is provided with a water supply port 13 and a drain port 14, and the cooling water that flows in from the water supply port 13 removes the heat generated when gas is compressed by the pump mechanism 6, and is drained. Mouth 1
It is discharged from 4.
次に1本発明の実施例の動作について説明する。Next, the operation of one embodiment of the present invention will be explained.
吸気口1から吸い込まれた気体は、ロータ4とステータ
5よりなるポンプ機構部6の流路内で、順次、圧縮され
、排気口2を通って大気へ排気される。排気の過程で、
ロータ4が高速回転している部分では、気体は高温にな
り、その熱がステータ5に伝導される。このままの状、
態では、気体温度が高くなり、ポンプ機構部6の圧縮作
用が悪くなってポンプ性能が低下したり、熱膨張により
ロータ4とステータ5が接触したりするので、冷却ジャ
ケット9に冷却水を通して冷却する。Gas sucked in through the intake port 1 is sequentially compressed within a flow path of a pump mechanism section 6 consisting of a rotor 4 and a stator 5, and is exhausted to the atmosphere through an exhaust port 2. During the exhaust process,
In the portion where the rotor 4 is rotating at high speed, the gas becomes high temperature, and the heat is conducted to the stator 5. As it is,
In this case, the gas temperature increases and the compression action of the pump mechanism 6 deteriorates, reducing pump performance, and the rotor 4 and stator 5 come into contact due to thermal expansion. do.
真空ポンプの吸気口1が1例えば、半導体製造装置のア
ルミドライエツチング装置に連結されている場合には、
エツチング後の反応生成物として。For example, when the inlet port 1 of the vacuum pump is connected to an aluminum dry etching device of semiconductor manufacturing equipment,
As a reaction product after etching.
塩化アルミニウム(AnCRa)が生成する。この昇華
温度特性図は、第3図に示すように、圧力と温度の関係
によって、同相側と気相側に分かれる。Aluminum chloride (AnCRa) is produced. As shown in FIG. 3, this sublimation temperature characteristic diagram is divided into an in-phase side and a gas phase side depending on the relationship between pressure and temperature.
第3図において、15は従来技術のデータ、16は本発
明の一実施例を示す。In FIG. 3, reference numeral 15 indicates data of the prior art, and reference numeral 16 indicates an embodiment of the present invention.
冷却ジャケット9に、直接、冷却水を流して冷却すると
、ステータ5の内部温度はA Q CQ sの昇華温度
特性図の固相側に位置し、ステータ5の内壁にAQCQ
sが着付堆積する。そこで、冷却ジャケット9の内面に
プラスチック板1oを貼りつけると、プラスチックは鉄
に比べて熱伝導率が約1710と小さいので、冷却水と
ステータ5の内部の気体との間の温度勾配が大きくなり
、気体の温度を高く保つことができる。その結果、ステ
ータ5の内部温度はAQCQ3の昇華温度特性図の気相
側の位置にすることができ、ステータ5の内壁に反応生
成物が付着堆積しなくなる。When cooled by flowing cooling water directly into the cooling jacket 9, the internal temperature of the stator 5 is located on the solid phase side of the sublimation temperature characteristic diagram of AQCQs, and the inner wall of the stator 5 is
s adheres and accumulates. Therefore, when a plastic plate 1o is attached to the inner surface of the cooling jacket 9, the temperature gradient between the cooling water and the gas inside the stator 5 becomes large because plastic has a lower thermal conductivity than iron at about 1710. , the temperature of the gas can be kept high. As a result, the internal temperature of the stator 5 can be set to a position on the gas phase side of the sublimation temperature characteristic diagram of AQCQ3, and reaction products are not deposited on the inner wall of the stator 5.
なお、プラスチック板10の代りに、プラスチック以外
の金属に比べて熱伝導率の小さい物質を貼りつけたり、
固まると熱伝導率の小さい膜状になるような液状物質を
、冷却ジャケット9の内面に塗布することによっても同
様の効果が得られる。Note that instead of the plastic plate 10, a material with a lower thermal conductivity than metal other than plastic may be attached, or
A similar effect can also be obtained by applying a liquid substance that solidifies into a film with low thermal conductivity to the inner surface of the cooling jacket 9.
本発明によれば、ステータ内部の温度を高くすることが
できるので、ポンプ機構部への反応生成物の付着堆積を
防ぐことができる。According to the present invention, since the temperature inside the stator can be increased, it is possible to prevent reaction products from adhering to the pump mechanism.
第1図は本発明の一実施例の真空ポンプの縦断面図、第
2図は従来の真空ポンプの縦断面図、第3図はARCQ
aの昇華温度特性図及び温度特性図である。
4・・・ロータ、5・・・ステータ、6・・・ポンプ機
構部。
9・・・冷却ジャケット、10・・・プラスチック板、
12・・・ジャケットカバーFig. 1 is a longitudinal sectional view of a vacuum pump according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a longitudinal sectional view of a conventional vacuum pump, and Fig. 3 is an ARCQ
FIG. 3 is a sublimation temperature characteristic diagram and a temperature characteristic diagram of a. 4... Rotor, 5... Stator, 6... Pump mechanism section. 9... Cooling jacket, 10... Plastic plate,
12...Jacket cover
Claims (1)
ンプ部の作用で、吸気口から吸込んだ低圧の気体を圧縮
し、排気口より大気へ排気する真空ポンプにおいて、 前記ステータの外周部に設けた冷却ジャケットのカバー
を着脱可能にしたことを特徴とする真空ポンプ。[Scope of Claims] 1. A vacuum pump that compresses low-pressure gas sucked in from an intake port and exhausts it to the atmosphere from an exhaust port by the action of a pump portion consisting of a rotor and a stator provided in a casing, wherein: A vacuum pump characterized by a removable cooling jacket cover provided on the outer periphery.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2107596A JPH048896A (en) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | Vacuum pump |
| KR1019910005355A KR950007378B1 (en) | 1990-04-06 | 1991-04-03 | Vacuum pump |
| DE69125044T DE69125044T2 (en) | 1990-04-06 | 1991-04-04 | Vacuum pump |
| EP91105353A EP0451708B1 (en) | 1990-04-06 | 1991-04-04 | Vacuum pump |
| CN91102168A CN1019675B (en) | 1990-04-06 | 1991-04-06 | Vacuum pump |
| US07/682,265 US5190438A (en) | 1990-04-06 | 1991-04-08 | Vacuum pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2107596A JPH048896A (en) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | Vacuum pump |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH048896A true JPH048896A (en) | 1992-01-13 |
Family
ID=14463170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2107596A Pending JPH048896A (en) | 1990-04-06 | 1990-04-25 | Vacuum pump |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH048896A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002227765A (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-14 | Stmp Kk | Vacuum pump |
| GB2559444A (en) * | 2017-02-03 | 2018-08-08 | Edwards Ltd | Pump cooling systems |
| CN115234489A (en) * | 2022-08-16 | 2022-10-25 | 成都中科唯实仪器有限责任公司 | Oil return prevention device for rotary vane vacuum pump |
-
1990
- 1990-04-25 JP JP2107596A patent/JPH048896A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002227765A (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-14 | Stmp Kk | Vacuum pump |
| GB2559444A (en) * | 2017-02-03 | 2018-08-08 | Edwards Ltd | Pump cooling systems |
| GB2559444B (en) * | 2017-02-03 | 2019-08-28 | Edwards Ltd | Pump cooling systems |
| US11098718B2 (en) | 2017-02-03 | 2021-08-24 | Edwards Limited | Pump cooling systems |
| CN115234489A (en) * | 2022-08-16 | 2022-10-25 | 成都中科唯实仪器有限责任公司 | Oil return prevention device for rotary vane vacuum pump |
| CN115234489B (en) * | 2022-08-16 | 2023-10-31 | 成都中科唯实仪器有限责任公司 | Oil return preventing device for rotary vane vacuum pump |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR950007378B1 (en) | Vacuum pump | |
| JP3125207B2 (en) | Vacuum processing equipment | |
| US6966936B2 (en) | Processing system, evacuating system for processing system, low-pressure CVD system, and evacuating system and trapping device for low-pressure CVD system | |
| CN100532639C (en) | Exhaust pipe having reaction by-product deposition preventing means and deposition preventing method | |
| JPH0972293A (en) | Turbo-molecular pump | |
| TW530122B (en) | Trap apparatus | |
| JPH0525040B2 (en) | ||
| KR20010033505A (en) | Gas trap for cvd apparatus | |
| JPH0339198B2 (en) | ||
| JPH048896A (en) | Vacuum pump | |
| JPH08172083A (en) | By-product trap device and cleaning thereof | |
| JP3171593B2 (en) | Trap device | |
| JP4916655B2 (en) | Vacuum pump | |
| JPH11302829A (en) | Vacuum chamber contamination preventive apparatus for vacuum apparatus | |
| JP2004076708A (en) | Vacuum pump | |
| JPH05118296A (en) | Dry vacuum pump | |
| JP2875335B2 (en) | Vacuum pump | |
| JPH08296557A (en) | Vacuum pump | |
| JP3051515B2 (en) | Multistage vacuum pump cooling system | |
| JP2009512206A (en) | Positive displacement pump chamber | |
| JPH03124998A (en) | Dry vacuum pump | |
| JP2516696B2 (en) | Vacuum unit | |
| EP1099778A2 (en) | Trap apparatus | |
| JP4495271B2 (en) | Trap device | |
| JP3134261B2 (en) | Exhaust device |