JPH0492861A - セラミックス材料の製造法 - Google Patents
セラミックス材料の製造法Info
- Publication number
- JPH0492861A JPH0492861A JP2207690A JP20769090A JPH0492861A JP H0492861 A JPH0492861 A JP H0492861A JP 2207690 A JP2207690 A JP 2207690A JP 20769090 A JP20769090 A JP 20769090A JP H0492861 A JPH0492861 A JP H0492861A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- ceramic material
- heat
- sic
- heated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はセラミックス材料の製造法に関する。
(従来の技術)
高温強度、耐熱性、耐酸化性が要求される部品の材料と
して、セラミックスは好適に利用されている。
して、セラミックスは好適に利用されている。
セラミックス材料の製造法は、その原料により気相法、
液相法、固相法に大別される。
液相法、固相法に大別される。
中でも液相法は、製品の形状の自由度が大きく、しかも
繊維強化複合材料を製造しやすい、原料を蒸留等により
比較的簡単に高純度化できる、組成や組織が均一なセラ
ミックスを合成しやすい等の利点があり注目されている
。
繊維強化複合材料を製造しやすい、原料を蒸留等により
比較的簡単に高純度化できる、組成や組織が均一なセラ
ミックスを合成しやすい等の利点があり注目されている
。
液相法の中でも特に有機金属化合物を用いると、複雑な
組成のセラミックスが均一に合成できる、炭化物セラミ
ックスの合成を比較的低温で行える、融液を経ることな
くアモルファスセラミックス、結晶質セラミックスおよ
び両者を合成することができるなどの特徴があるため、
近年盛んに開発が進められている。
組成のセラミックスが均一に合成できる、炭化物セラミ
ックスの合成を比較的低温で行える、融液を経ることな
くアモルファスセラミックス、結晶質セラミックスおよ
び両者を合成することができるなどの特徴があるため、
近年盛んに開発が進められている。
(発明が解決しようとする課題)
有機金属化合物を原料としたセラミックスの製造法とし
ては、5QL−GEL法、アルキル金属の分解による方
法および有機珪素ポリマーの熱分解による方法などが従
来より行われている。
ては、5QL−GEL法、アルキル金属の分解による方
法および有機珪素ポリマーの熱分解による方法などが従
来より行われている。
5QL−GEL法とは、まず金属アルコキシドを加水分
解することにより金属−酸素主骨格をもつSOL状のオ
リゴマーを生成し、更に加水分解を制御しながら進めて
酸素炭素金属骨格架橋型の巨大分子(GEL)を生成し
、これを熱処理してセラミックスとする方法である。
解することにより金属−酸素主骨格をもつSOL状のオ
リゴマーを生成し、更に加水分解を制御しながら進めて
酸素炭素金属骨格架橋型の巨大分子(GEL)を生成し
、これを熱処理してセラミックスとする方法である。
しかしながらこの5QL−GEL法は酸素を主骨格ある
いは側鎖構造の要素とするため金属酸化物を合成するに
は適しているが、炭化物合成法としては不適であり、ま
たGEL乾燥時の収縮挙動がセラミックス成形体の製造
を困難としている等の欠点を有している。
いは側鎖構造の要素とするため金属酸化物を合成するに
は適しているが、炭化物合成法としては不適であり、ま
たGEL乾燥時の収縮挙動がセラミックス成形体の製造
を困難としている等の欠点を有している。
アルキル金属の分解による方法とは、アルキル金属に熱
分解、加水分解、空気酸化等を行いセラミックスとする
ものであるが、アルキル金属が大気と接触すると激しく
反応し、取扱いが困難であることから、産業上あまり用
いられていないのが現状である。
分解、加水分解、空気酸化等を行いセラミックスとする
ものであるが、アルキル金属が大気と接触すると激しく
反応し、取扱いが困難であることから、産業上あまり用
いられていないのが現状である。
また、有機珪素ポリマーに代表される有機金属ポリマー
を熱分解してセラミックスを得る方法を用いた場合、有
機珪素ポリマーは比較的取扱が安全であり、常温におい
て液相あるいは固相を呈し、液相熱分解あるいは固相状
態に於て表面あるいは内部の一部を酸化等の方法によっ
て不融化処理した後熱分解を行える等の数々の利点があ
る。しかしながらこの有機珪素ポリマーより合成したセ
ラミックスは1300℃以上において結晶化に伴う粒成
長に起因する強度劣化を生じ、耐熱強度の面に於て好ま
しくなかった。そしてまた有機珪素ポリマーの熱分解に
よるセラミックスを窒素雰囲気中または酸素雰囲気中で
加熱すると、多量のSi3N2.5iO7が生成し、こ
れが粒界等で融解、蒸発するために著しく高温強度が低
下するという問題があった。
を熱分解してセラミックスを得る方法を用いた場合、有
機珪素ポリマーは比較的取扱が安全であり、常温におい
て液相あるいは固相を呈し、液相熱分解あるいは固相状
態に於て表面あるいは内部の一部を酸化等の方法によっ
て不融化処理した後熱分解を行える等の数々の利点があ
る。しかしながらこの有機珪素ポリマーより合成したセ
ラミックスは1300℃以上において結晶化に伴う粒成
長に起因する強度劣化を生じ、耐熱強度の面に於て好ま
しくなかった。そしてまた有機珪素ポリマーの熱分解に
よるセラミックスを窒素雰囲気中または酸素雰囲気中で
加熱すると、多量のSi3N2.5iO7が生成し、こ
れが粒界等で融解、蒸発するために著しく高温強度が低
下するという問題があった。
これらの問題を解決すべく多くの試みがなされた。
例えば高温時の粒成長を防止して耐熱性を向上させるた
めに、電子線照射等の、酸素を用いない不融化を行う方
法では、ある程度耐熱性が改善されたものの酸化に弱と
いう欠点がある。
めに、電子線照射等の、酸素を用いない不融化を行う方
法では、ある程度耐熱性が改善されたものの酸化に弱と
いう欠点がある。
また耐酸化性を改善させるために液相原料中に各種の添
加剤、例えばコークス、カーボンブラック等の炭素粉末
、TiB、・ZrB2等のほう素化合物等を加えた改質
が試みられ、酸化による重量変化がある程度まで抑制で
きるものの、高温強度はかえって低下するという欠点が
あった。
加剤、例えばコークス、カーボンブラック等の炭素粉末
、TiB、・ZrB2等のほう素化合物等を加えた改質
が試みられ、酸化による重量変化がある程度まで抑制で
きるものの、高温強度はかえって低下するという欠点が
あった。
本発明者らは上記の課題を解決するため鋭意研究を重ね
た結果、本発明のセラミックス材料の製造法を見いだし
た。
た結果、本発明のセラミックス材料の製造法を見いだし
た。
すなわち本発明は主鎖あるいは側鎖部分に、熱処理によ
り黒鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化する基を有す
る炭化珪素セラミックス前駆体を含有する有機金属化合
物を、解放型容器内に充填し、熱間静水圧加圧(HIP
)装置において熱処理し、さらに酸化雰囲気下で熱処理
することを特徴とするセラミックス材料の製造法および
、該セラミックス材料が耐熱繊維と複合化されているこ
とを特徴とするセラミックスの製造方法に関する。
り黒鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化する基を有す
る炭化珪素セラミックス前駆体を含有する有機金属化合
物を、解放型容器内に充填し、熱間静水圧加圧(HIP
)装置において熱処理し、さらに酸化雰囲気下で熱処理
することを特徴とするセラミックス材料の製造法および
、該セラミックス材料が耐熱繊維と複合化されているこ
とを特徴とするセラミックスの製造方法に関する。
本発明でいる有機金属化合物とは、炭化物セラミックス
、窒化物セラミックス、はう化物セラミックスおよび酸
化物セラミックスより選ばれる少なくとも1種のセラミ
ックス前駆体である。該有機金属化合物はモノマー、オ
リゴマー、ポリマー状の各状態を適宜選択して用いるこ
とができるが、数平均分子量が通常200〜20000
、好ましくは1000〜100QOのポリマー状のもの
を用いると、作業性が良好なので好ましい。
、窒化物セラミックス、はう化物セラミックスおよび酸
化物セラミックスより選ばれる少なくとも1種のセラミ
ックス前駆体である。該有機金属化合物はモノマー、オ
リゴマー、ポリマー状の各状態を適宜選択して用いるこ
とができるが、数平均分子量が通常200〜20000
、好ましくは1000〜100QOのポリマー状のもの
を用いると、作業性が良好なので好ましい。
具体的には、炭化物セラミックスの前駆体としては例え
ばポリシラン、ポリカルボシラン、ポリシラザン、ポリ
ボロシロキサン等の炭化珪素セラミックス前駆体および
ポリチタノカルボシラン等の炭化珪素酸化チタン複合セ
ラミックス前駆体もしくはテトラメチルジルコニウム等
のZrC前駆体、テトラメチルハフニウム等のHfC前
駆体、あるいはB4C,NbC,WC等の炭化物セラミ
ックスを生成する前駆体などが挙げられ、窒化物セラミ
ックス前駆体としては例えばメチルポリシラザン、ベル
ヒドロポリシラザン等に代表されるポリシラザン類など
のSi、N4前駆体およびTiN、AlN5SIALO
Nを生成する前駆体などが挙げられ、はう化物セラミッ
クス前駆体としては例えばポリボロシロキサンやBaH
の前駆体などが挙げられ、酸化物セラミックスの前駆体
としては例えばメチルシリケート、シランアルコキシド
等を加水分解縮合して得られるポリマーシリコーン化合
物などの5in2前駆体、トリアルキルアルミ、アルミ
アルコキシド等を加水分解縮合して得られるポリマーな
どのAl2O3前駆体およびチタンアルコキシドを加水
分解縮合して得られるポリマー等のT i O2前駆体
などが挙げられる。
ばポリシラン、ポリカルボシラン、ポリシラザン、ポリ
ボロシロキサン等の炭化珪素セラミックス前駆体および
ポリチタノカルボシラン等の炭化珪素酸化チタン複合セ
ラミックス前駆体もしくはテトラメチルジルコニウム等
のZrC前駆体、テトラメチルハフニウム等のHfC前
駆体、あるいはB4C,NbC,WC等の炭化物セラミ
ックスを生成する前駆体などが挙げられ、窒化物セラミ
ックス前駆体としては例えばメチルポリシラザン、ベル
ヒドロポリシラザン等に代表されるポリシラザン類など
のSi、N4前駆体およびTiN、AlN5SIALO
Nを生成する前駆体などが挙げられ、はう化物セラミッ
クス前駆体としては例えばポリボロシロキサンやBaH
の前駆体などが挙げられ、酸化物セラミックスの前駆体
としては例えばメチルシリケート、シランアルコキシド
等を加水分解縮合して得られるポリマーシリコーン化合
物などの5in2前駆体、トリアルキルアルミ、アルミ
アルコキシド等を加水分解縮合して得られるポリマーな
どのAl2O3前駆体およびチタンアルコキシドを加水
分解縮合して得られるポリマー等のT i O2前駆体
などが挙げられる。
上記有機金属化合物は単独もしくは2種類以上を混合し
て用いられる。
て用いられる。
該有機金属化合物に含有される炭化珪素セラミックス前
駆体は、主鎖あるいは側鎖部分に、黒鉛構造あるいは炭
素六員環構造に変化しやすい基を有するものが用いられ
る。
駆体は、主鎖あるいは側鎖部分に、黒鉛構造あるいは炭
素六員環構造に変化しやすい基を有するものが用いられ
る。
該黒鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化しやすい基と
しては例えば環数通常1以上、好ましくは1〜5のアリ
ール基、および炭素数通常2〜20、好ましくは2〜5
の共役二重結合を有する不飽和有機残基等が挙げられる
。
しては例えば環数通常1以上、好ましくは1〜5のアリ
ール基、および炭素数通常2〜20、好ましくは2〜5
の共役二重結合を有する不飽和有機残基等が挙げられる
。
上記黒鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化しやすい基
を含有する炭化珪素セラミックス前駆体としては、ポリ
シラン、ポリカルボシラン、ポリシラザン、ポリボロシ
ロキサン、ポリチタノカルボシラン等の前駆体の骨格の
主骨格および/または側鎖構造に、上記黒鉛構造あるい
は炭素六員環構造に変化しやすい基を公知の方法、例え
ば、密閉系に分子量が通常200〜5[1000、好ま
しくは1000〜20000の上記前駆体と、数平均分
子量が、通常200〜15000、好ましくは1000
〜+0000のポリシラスチレンを封入し、オートクレ
ーブで通常150〜650℃、好ましくは250〜55
0℃に加熱して熱分解縮合する方法などによって導入さ
れたもの、あるいは上記前駆体の主骨格および/または
側鎖にピッチが公知の方法、例えば上記前駆体に石油ピ
ッチのトルエン可溶分を混合し、これを反応容器中、窒
素雰囲気下で、通常150〜650℃、好ましくは25
0〜550℃に加熱して熱分解縮合する方法などによっ
て結合されたもの、もしくはポリシラスチレン、ポリメ
チルフェニルシラン、ポリジフェニルシラン等の既に黒
鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化しやすい基を有す
る炭化珪素の前駆体などが挙げられる。
を含有する炭化珪素セラミックス前駆体としては、ポリ
シラン、ポリカルボシラン、ポリシラザン、ポリボロシ
ロキサン、ポリチタノカルボシラン等の前駆体の骨格の
主骨格および/または側鎖構造に、上記黒鉛構造あるい
は炭素六員環構造に変化しやすい基を公知の方法、例え
ば、密閉系に分子量が通常200〜5[1000、好ま
しくは1000〜20000の上記前駆体と、数平均分
子量が、通常200〜15000、好ましくは1000
〜+0000のポリシラスチレンを封入し、オートクレ
ーブで通常150〜650℃、好ましくは250〜55
0℃に加熱して熱分解縮合する方法などによって導入さ
れたもの、あるいは上記前駆体の主骨格および/または
側鎖にピッチが公知の方法、例えば上記前駆体に石油ピ
ッチのトルエン可溶分を混合し、これを反応容器中、窒
素雰囲気下で、通常150〜650℃、好ましくは25
0〜550℃に加熱して熱分解縮合する方法などによっ
て結合されたもの、もしくはポリシラスチレン、ポリメ
チルフェニルシラン、ポリジフェニルシラン等の既に黒
鉛構造あるいは炭素六員環構造に変化しやすい基を有す
る炭化珪素の前駆体などが挙げられる。
上記炭化珪素前駆体中に含まれる黒鉛構造あるいは炭素
六員環構造に変化しやすい基またはピッチの重量含有率
は該基の種類によって大きく異なるが、通常1〜60%
好ましくは2〜25%、さらに好ましくは5〜15%で
あることが望ましい。
六員環構造に変化しやすい基またはピッチの重量含有率
は該基の種類によって大きく異なるが、通常1〜60%
好ましくは2〜25%、さらに好ましくは5〜15%で
あることが望ましい。
本発明で言う耐熱繊維とは炭素繊維およびセラミックス
繊維の短繊維あるいは長繊維を示す。
繊維の短繊維あるいは長繊維を示す。
該炭素繊維としては例えばピッチ系、PAN系あるいは
レーヨン系が挙げられ、特にピッチ系炭素繊維は耐酸化
性を高め易く、好適である。
レーヨン系が挙げられ、特にピッチ系炭素繊維は耐酸化
性を高め易く、好適である。
また該セラミックス繊維としては例えばSiC。
Tic、HfCなどの炭化物セラミックス、A 120
s 、T 102 、Hf 02などの酸化物セラミ
ックス、Si3N4などの窒化物セラミックス、B20
.などのほう化物セラミックスあるいはこれらの混合物
より成る繊維が挙げられる。さらには炭素繊維の表面を
上記セラミックスに改質したり上記セラミックスで被覆
したものも好ましく用いることができる。
s 、T 102 、Hf 02などの酸化物セラミ
ックス、Si3N4などの窒化物セラミックス、B20
.などのほう化物セラミックスあるいはこれらの混合物
より成る繊維が挙げられる。さらには炭素繊維の表面を
上記セラミックスに改質したり上記セラミックスで被覆
したものも好ましく用いることができる。
該耐熱繊維は直径通常5〜1000μ(ミクロン)の繊
維を500〜IH(10(1本捏度の繊維束として用い
る。さらに一方向積層物、2次元織物あるいはその積層
物、3次元以上の織物、マット状成形物、フェルト状成
形物など2次元あるいは3次元に成型したものを用いて
もよい。
維を500〜IH(10(1本捏度の繊維束として用い
る。さらに一方向積層物、2次元織物あるいはその積層
物、3次元以上の織物、マット状成形物、フェルト状成
形物など2次元あるいは3次元に成型したものを用いて
もよい。
本発明においては有機金属化合物または有機化合物と耐
熱性繊維を予混合したものを解放型容器に内に充填し、
セラミックス処理を行う。ここでいうセラミックス化処
理とは、有機金属ポリマーを熱分解処理によってSiC
およびCを構成成分として含有するセラミックスに転化
することであり、真空あるいは加圧不活性雰囲気下の熱
分解のどちらも選択できる。
熱性繊維を予混合したものを解放型容器に内に充填し、
セラミックス処理を行う。ここでいうセラミックス化処
理とは、有機金属ポリマーを熱分解処理によってSiC
およびCを構成成分として含有するセラミックスに転化
することであり、真空あるいは加圧不活性雰囲気下の熱
分解のどちらも選択できる。
該セラミックス処理を行う際に成形を行う場合には、例
えば解放型容器として所望の形状のものを用いればよく
、また該セラミックス処理の前に所望の形状の耐熱繊維
成形物に有機金属化合物を含浸させ、任意の形状の解放
型容器内に該有機金属化合物とともに充填してセラミッ
クス化処理することもできる。
えば解放型容器として所望の形状のものを用いればよく
、また該セラミックス処理の前に所望の形状の耐熱繊維
成形物に有機金属化合物を含浸させ、任意の形状の解放
型容器内に該有機金属化合物とともに充填してセラミッ
クス化処理することもできる。
該含浸は有機金属化合物を真空または加圧下で過熱融解
することによりおこなわれる。含浸の条件は、使用する
有機金属化合物の性質に応じて適宜選択できるが、好ま
しくは減圧下で含浸した後にAr等の不活性ガス雰囲気
下で加圧することが望ましい。
することによりおこなわれる。含浸の条件は、使用する
有機金属化合物の性質に応じて適宜選択できるが、好ま
しくは減圧下で含浸した後にAr等の不活性ガス雰囲気
下で加圧することが望ましい。
また、含浸時の粘度または表面張力を下げるために例え
ば芳香族炭化水素、ピリジン、キノリン、あるいはTH
F、ジオキサン等のエーテル類などの溶剤で希釈するこ
ともできる。
ば芳香族炭化水素、ピリジン、キノリン、あるいはTH
F、ジオキサン等のエーテル類などの溶剤で希釈するこ
ともできる。
さらには解放型容器に充填した後に、有機金属化合物の
融液または溶液を蒸留することにより、有機金属化合物
中の低沸点成分や溶剤を留去することにより所望の軟化
点を持つ有機金属化合物とすることもでき、該蒸留は耐
熱繊維の共存下においても行うことができる。そして低
沸点成分や溶剤の留去によってセラミックス材料のかさ
密度を制御することもできる。
融液または溶液を蒸留することにより、有機金属化合物
中の低沸点成分や溶剤を留去することにより所望の軟化
点を持つ有機金属化合物とすることもでき、該蒸留は耐
熱繊維の共存下においても行うことができる。そして低
沸点成分や溶剤の留去によってセラミックス材料のかさ
密度を制御することもできる。
解放型容器とは、シール機能のない容器であって材質は
特に制限されず、セラミックス化温度や目的に応じて適
宜選択される。具体的には材質としては例えばアルミニ
ウム、軟鋼、ステンレスなどの金属、ガラス、黒鉛ある
いはアルミナ、炭化珪素等のセラミックス等が挙げられ
る。また形状は解放型であれば特に制限されず、例えば
蓋つきあるいは蓋なしのどちらでもよく、たとえば金属
フォイルで被セラミックス処理物を含むだけでもよい。
特に制限されず、セラミックス化温度や目的に応じて適
宜選択される。具体的には材質としては例えばアルミニ
ウム、軟鋼、ステンレスなどの金属、ガラス、黒鉛ある
いはアルミナ、炭化珪素等のセラミックス等が挙げられ
る。また形状は解放型であれば特に制限されず、例えば
蓋つきあるいは蓋なしのどちらでもよく、たとえば金属
フォイルで被セラミックス処理物を含むだけでもよい。
さらに必要に応じて解放型容器の解放口部分を耐熱繊維
性のフェルト等で栓をしたり、解放型容器全体を耐熱繊
維性のフェルト中に埋抱することもできる。
性のフェルト等で栓をしたり、解放型容器全体を耐熱繊
維性のフェルト中に埋抱することもできる。
本発明においては、熱間静水圧加圧下においてセラミッ
クス化処理を行う。
クス化処理を行う。
該セラミックス化処理条件は有機金属化合物の種類、形
状、大きさ、目的とするセラミックス材料の密度等に応
じて適宜選択され、例えば緻密なセラミックス材料を得
る場合には加圧圧力を高くし、さらに昇温速度を小さく
すればよく、また逆に低密度のセラミックス材料を得る
場合には加圧圧力を高くし、昇温速度を大きくすればよ
い。
状、大きさ、目的とするセラミックス材料の密度等に応
じて適宜選択され、例えば緻密なセラミックス材料を得
る場合には加圧圧力を高くし、さらに昇温速度を小さく
すればよく、また逆に低密度のセラミックス材料を得る
場合には加圧圧力を高くし、昇温速度を大きくすればよ
い。
該セラミックス化処理条件としては、具体的には例えば
加圧圧力は通常50〜10000 kg/cd、好まし
くは200〜20GQkg/al、熱分解温度は通常1
00〜3000℃、好ましくは400〜2000℃にお
いて実施することが出来る。また圧媒ガスとしては、ア
ルゴン、窒素、ヘリウムなどの不活性ガスが使用出来る
。
加圧圧力は通常50〜10000 kg/cd、好まし
くは200〜20GQkg/al、熱分解温度は通常1
00〜3000℃、好ましくは400〜2000℃にお
いて実施することが出来る。また圧媒ガスとしては、ア
ルゴン、窒素、ヘリウムなどの不活性ガスが使用出来る
。
さらに、該セラミックス化の際に、排気機構付熱間静水
圧加圧装置、あるいは2重構造熱間静水圧加圧装置を用
いることが望ましい。
圧加圧装置、あるいは2重構造熱間静水圧加圧装置を用
いることが望ましい。
該排気機構付熱間静水圧加圧装置とは、熱間等方加圧下
における熱処理中に、被処理物から発生するガス成分を
連続制御して排出できる機構を有する装置であり、具体
的には発生するガスをその生成速度および/または拡散
速度に応じて除去量を調節できる排出機構を備えた装置
である。このガス排出機構は、炉内圧媒ガスとの熱交換
器および炉外での冷却器、減圧装置、流量調節弁などよ
り成る。
における熱処理中に、被処理物から発生するガス成分を
連続制御して排出できる機構を有する装置であり、具体
的には発生するガスをその生成速度および/または拡散
速度に応じて除去量を調節できる排出機構を備えた装置
である。このガス排出機構は、炉内圧媒ガスとの熱交換
器および炉外での冷却器、減圧装置、流量調節弁などよ
り成る。
上記排気機構付熱間静水圧加圧装置を用いてセラミック
ス化処理を行う場合には、熱処理時に生成するガスを分
析しながら操作を行うことができるが、該熱処理は排気
ガス中のH2およびCH4のそれぞれの生成速度が有機
金属化合物100g当たり通常10mol/時を超えな
いことが望ましく、好ましくは0.01〜1mol/時
である。
ス化処理を行う場合には、熱処理時に生成するガスを分
析しながら操作を行うことができるが、該熱処理は排気
ガス中のH2およびCH4のそれぞれの生成速度が有機
金属化合物100g当たり通常10mol/時を超えな
いことが望ましく、好ましくは0.01〜1mol/時
である。
また排気ガス中の炭素数2以上のガスの濃度が、通常1
0ppm、好ましくは5ppm以下になるまでセラミッ
クス化を行うことが望ましい。
0ppm、好ましくは5ppm以下になるまでセラミッ
クス化を行うことが望ましい。
2重構造熱間静水圧加圧装置とは、加圧・加熱領域内に
、試料を保持する密封系を設け、排気ガスが耐圧容器、
加熱装置に接触すること無く、排出あるいは圧力制御さ
れる装置である。
、試料を保持する密封系を設け、排気ガスが耐圧容器、
加熱装置に接触すること無く、排出あるいは圧力制御さ
れる装置である。
上記の含浸と熱間静水圧加圧下におけるセラミックス化
処理を適宜繰り返し行ったり、またセラミックス化処理
の際の加圧圧力等の処理条件を選択することによりセラ
ミックス材料の密度を選択できる。
処理を適宜繰り返し行ったり、またセラミックス化処理
の際の加圧圧力等の処理条件を選択することによりセラ
ミックス材料の密度を選択できる。
本発明のセラミックス材料の密度は、目的によって任意
に選択されるが、真密度に対し通常25〜99.99%
、好ましくは90〜99.99%が望ましい。
に選択されるが、真密度に対し通常25〜99.99%
、好ましくは90〜99.99%が望ましい。
また、セラミックス材料に耐熱繊維を含有させる場合、
体積含有率は目的によって任意に決定できるが、通常5
〜75%、好ましくは40〜65%であり、耐熱繊維の
セラミックス材料中での配向方法、製織法、繊維の成形
法、緻密化処理法、回数等により制御される。
体積含有率は目的によって任意に決定できるが、通常5
〜75%、好ましくは40〜65%であり、耐熱繊維の
セラミックス材料中での配向方法、製織法、繊維の成形
法、緻密化処理法、回数等により制御される。
上記セラミックス化処理に先だって、必要に応じ有機金
属ポリマーまたは耐熱繊維に有機金属化合物を含浸した
ものに対して不融化処理を行うことも可能である。不融
化処理とは有機金属ポリマーの表面および/あるいは内
部を酸化性ガス中において通常100℃〜400℃、好
ましくは150〜300℃に加熱することによって達成
され、ポリマーの塑性流動なしにセラミックス化処理す
る効果を有する。
属ポリマーまたは耐熱繊維に有機金属化合物を含浸した
ものに対して不融化処理を行うことも可能である。不融
化処理とは有機金属ポリマーの表面および/あるいは内
部を酸化性ガス中において通常100℃〜400℃、好
ましくは150〜300℃に加熱することによって達成
され、ポリマーの塑性流動なしにセラミックス化処理す
る効果を有する。
この他に硫酸等の脱水性薬品中において加熱処理を行っ
たり、紫外線あるいは電子線あるいは放射線等の照射に
より表面を硬化する方法も選択することが出来る。ある
いは有機金属ポリマー中あるいは表面に熱硬化性、紫外
線硬化性ポリマーを混合あるいは塗布しこれを硬化する
方法も選択でき、ポリマー中に酸素を混入することなし
に不融化することができる。
たり、紫外線あるいは電子線あるいは放射線等の照射に
より表面を硬化する方法も選択することが出来る。ある
いは有機金属ポリマー中あるいは表面に熱硬化性、紫外
線硬化性ポリマーを混合あるいは塗布しこれを硬化する
方法も選択でき、ポリマー中に酸素を混入することなし
に不融化することができる。
上記セラミックス化処理の後に、緻密なセラミックス材
料を得る目的で、Ar、Xe、He。
料を得る目的で、Ar、Xe、He。
Ne等の不活性ガス雰囲気下で熱処理を行い、セラミッ
クスを結晶化させることもでき、この場合でも粒成長が
起きず、強度が低下しない。具体的には例えば上記の不
活性雰囲気下、雰囲気炉中で温度通常500〜3000
℃、好ましくは1000〜2500℃、熱処理時間通常
10分〜25日、好ましくは5〜20時間の条件で行う
ことができる。
クスを結晶化させることもでき、この場合でも粒成長が
起きず、強度が低下しない。具体的には例えば上記の不
活性雰囲気下、雰囲気炉中で温度通常500〜3000
℃、好ましくは1000〜2500℃、熱処理時間通常
10分〜25日、好ましくは5〜20時間の条件で行う
ことができる。
本発明においては、セラミックス化処理に次いで酸化雰
囲気下での熱処理を行う。
囲気下での熱処理を行う。
該酸化雰囲気下での熱処理の条件は、目的や使用する有
機金属化合物の種類に応じて適宜選択されるが、例えば
オートクレーブを用い、空気中で通常500〜1500
℃、好ましくは800〜1350℃で通常10分〜30
日、好ましくは0.5〜120時間熱処理すればよい。
機金属化合物の種類に応じて適宜選択されるが、例えば
オートクレーブを用い、空気中で通常500〜1500
℃、好ましくは800〜1350℃で通常10分〜30
日、好ましくは0.5〜120時間熱処理すればよい。
また、セラミックス材料を酸化雰囲気下でしかも高温で
使用する場合には、該酸化雰囲気下での熱処理を省略し
て使用し、使用とともに熱処理を行ってもよい。
使用する場合には、該酸化雰囲気下での熱処理を省略し
て使用し、使用とともに熱処理を行ってもよい。
本発明で得られたセラミックス材料が、前述のセラミッ
クス化処理および酸化雰囲気下における熱処理の工程で
生成したSiC(21R)を均一に含有すると、セラミ
ックス材料の耐熱性がさらに向上するために好ましい。
クス化処理および酸化雰囲気下における熱処理の工程で
生成したSiC(21R)を均一に含有すると、セラミ
ックス材料の耐熱性がさらに向上するために好ましい。
ただし、セラミックス化処理および酸化雰囲気下におけ
る熱処理の工程でSiC(21R)を生成しない種類の
有機金属化合物にSiC(21R)の粉末を添加した後
にセラミックス化処理および酸化雰囲気下における熱処
理を行ってセラミックス材料中にSiC(21R)を含
有させても効果はほとんど得られない。
る熱処理の工程でSiC(21R)を生成しない種類の
有機金属化合物にSiC(21R)の粉末を添加した後
にセラミックス化処理および酸化雰囲気下における熱処
理を行ってセラミックス材料中にSiC(21R)を含
有させても効果はほとんど得られない。
ここでいうSiC(21R)とは、特定の菱面体晶系の
構造を有するSiCのことでありエンジニアリングセラ
ミックス:技報堂出版株式会社、p18、表−2,9)
、X線回折装置とASTM22−1319を併用するこ
とにより存在が確認される。
構造を有するSiCのことでありエンジニアリングセラ
ミックス:技報堂出版株式会社、p18、表−2,9)
、X線回折装置とASTM22−1319を併用するこ
とにより存在が確認される。
本発明により得られたセラミックス材料の耐酸化性をさ
らに向上させる目的で、表面にセラミックスを被覆させ
ることもできる。
らに向上させる目的で、表面にセラミックスを被覆させ
ることもできる。
被覆材料としては、例えば炭化物セラミックス、窒化物
セラミックスおよび酸化物セラミックスよりなる群から
選ばれる少なくとも1種のセラミックスが好ましく、ま
た被覆法としてはCVD、PVD、プラズマスプレー等
が好ましい。また被覆に先だって材料表面を改質してお
くことも可能であり、金属、有機金属ガスの拡散反応、
イオン注入、エピタキシャル被覆層、人口格子層の導入
等も有効である。
セラミックスおよび酸化物セラミックスよりなる群から
選ばれる少なくとも1種のセラミックスが好ましく、ま
た被覆法としてはCVD、PVD、プラズマスプレー等
が好ましい。また被覆に先だって材料表面を改質してお
くことも可能であり、金属、有機金属ガスの拡散反応、
イオン注入、エピタキシャル被覆層、人口格子層の導入
等も有効である。
(発明の効果)
本発明により得られるセラミックス材料は、耐酸化性、
耐熱性に非常に優れ、広範囲の用途が期待できる材料で
ある。
耐熱性に非常に優れ、広範囲の用途が期待できる材料で
ある。
特に、セラミックス化処理および酸化雰囲気下における
熱処理の工程で生成したSiC(21R)を構造の少な
くとも一部とするセラミックス材料は、耐酸化性、耐熱
性がさらに優れている。
熱処理の工程で生成したSiC(21R)を構造の少な
くとも一部とするセラミックス材料は、耐酸化性、耐熱
性がさらに優れている。
しかしながらセラミックス化処理および酸化雰囲気下に
おける熱処理の工程でSiC(21R)を生成しない種
類の有機金属化合物にSiC(21R)の粉末を添加し
てセラミックス化処理および酸化雰囲気下における熱処
理を行い、セラミックス材料中にSiC(21R)を含
有させても、本発明による効果はほとんど得られない。
おける熱処理の工程でSiC(21R)を生成しない種
類の有機金属化合物にSiC(21R)の粉末を添加し
てセラミックス化処理および酸化雰囲気下における熱処
理を行い、セラミックス材料中にSiC(21R)を含
有させても、本発明による効果はほとんど得られない。
実施例
以下に実施例をあげ、本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した下記式(I)に示され
るポリシラスチレン(分子量MN=3080、MW=4
240、軟化点238℃、フェニル基含有量43、3v
j%)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中
で10−2Torrに減圧しながら260℃に加熱して
融解し、Arガスによって10kg1/c&に加圧した
後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごとHIP
装置において、室温から200℃まで2時間で昇温しつ
つ、Arガスにより]000kg1/dに加圧し、さら
に圧力を保ちながら200℃から600℃まで5時間で
昇温し、600℃から800℃まで1.5時間で昇温し
、800℃で1時間保つことによりセラミックス化処理
した。
るポリシラスチレン(分子量MN=3080、MW=4
240、軟化点238℃、フェニル基含有量43、3v
j%)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中
で10−2Torrに減圧しながら260℃に加熱して
融解し、Arガスによって10kg1/c&に加圧した
後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごとHIP
装置において、室温から200℃まで2時間で昇温しつ
つ、Arガスにより]000kg1/dに加圧し、さら
に圧力を保ちながら200℃から600℃まで5時間で
昇温し、600℃から800℃まで1.5時間で昇温し
、800℃で1時間保つことによりセラミックス化処理
した。
空孔径0.1μm以上のボアのないガラス状のセラミッ
クスが得られ、セラミックスの収率は72.6%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
クスが得られ、セラミックスの収率は72.6%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶化させ、β−SiC(3C)を主成分とし、α−3
i C(2H) 、S io2 (α−クリストバライ
ト)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成長は
殆ど見られず、0.1μm以下の微粒子からなる緻密な
セラミックスを得た。
結晶化させ、β−SiC(3C)を主成分とし、α−3
i C(2H) 、S io2 (α−クリストバライ
ト)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成長は
殆ど見られず、0.1μm以下の微粒子からなる緻密な
セラミックスを得た。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところ(第1図)α−8iC(2
1R)のピークがA37M22−1319を用いて確認
された。
線回折装置で測定したところ(第1図)α−8iC(2
1R)のピークがA37M22−1319を用いて確認
された。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
D時間保持しても重量変化は+0.9%で微少な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
D時間保持しても重量変化は+0.9%で微少な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験前の
95%であり、劣化は極めて小さかった。
0時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験前の
95%であり、劣化は極めて小さかった。
実施例2
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した下記式(II)に示さ
れるポリカルボシラン(分子量MN=2500、MW=
4310、軟化点106℃、フェニル基含有量9.6%
)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中で1
0−2Torrに減圧しながら150℃に加熱して融解
し、Arガスによって10kgf/CiIに加圧した後
に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごとHIP装
置において、室温から2D℃まで2時間で昇温しつつ、
ArガスによりIOQt1kgl/alに加圧し、さら
に圧力を保ちながら200℃から600℃まで5時間で
昇温し、600℃から800℃まで1.5時間で昇温し
、800℃で1時間保つことによりセラミックス化処理
した。
れるポリカルボシラン(分子量MN=2500、MW=
4310、軟化点106℃、フェニル基含有量9.6%
)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中で1
0−2Torrに減圧しながら150℃に加熱して融解
し、Arガスによって10kgf/CiIに加圧した後
に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごとHIP装
置において、室温から2D℃まで2時間で昇温しつつ、
ArガスによりIOQt1kgl/alに加圧し、さら
に圧力を保ちながら200℃から600℃まで5時間で
昇温し、600℃から800℃まで1.5時間で昇温し
、800℃で1時間保つことによりセラミックス化処理
した。
空孔径0.1μm以上のボアのないガラス状のセラミッ
クスが得られ、セラミックスの収率は71.8%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
クスが得られ、セラミックスの収率は71.8%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶化させ、β−3iC(3C)を主成分、α−8iC
(2H)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成
長は殆ど見られず、0.1 μm以下の微粒子からなる
緻密なセラミックスを得た。
結晶化させ、β−3iC(3C)を主成分、α−8iC
(2H)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成
長は殆ど見られず、0.1 μm以下の微粒子からなる
緻密なセラミックスを得た。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところ(第2図)α−8iC(2
1R)のピークがA37M22−1319を用いて確認
された。
線回折装置で測定したところ(第2図)α−8iC(2
1R)のピークがA37M22−1319を用いて確認
された。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持しても重量変化は+4.1%で微少な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
0時間保持しても重量変化は+4.1%で微少な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験前の
88%であって、劣化は極めて小さかった。
0時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験前の
88%であって、劣化は極めて小さかった。
実施例3
ピッチ成分を91tt%含有するポリカルボシラン(分
子量MN=3090、MW=6580、軟化点174℃
)を乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕してアルミナ製容器の
中に入れ、オートクレーヴ中で1O−2Torrに減圧
しながら150℃に加熱して融解し、Arガスによって
10kgf /adに加圧した後に室温まで冷却した。
子量MN=3090、MW=6580、軟化点174℃
)を乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕してアルミナ製容器の
中に入れ、オートクレーヴ中で1O−2Torrに減圧
しながら150℃に加熱して融解し、Arガスによって
10kgf /adに加圧した後に室温まで冷却した。
次いでアルミナ容器ごとHIP装置において、室温から
200℃まで2時間で昇湿しツツ、Arガスにより10
0100O/CiCミニし、さらに圧力を保ちながら2
00℃から6(10℃まで5時間で昇温し、600℃か
ら800℃まで1,5時間で昇温し、800℃で1時間
保つことによりセラミックス化処理した。
200℃まで2時間で昇湿しツツ、Arガスにより10
0100O/CiCミニし、さらに圧力を保ちながら2
00℃から6(10℃まで5時間で昇温し、600℃か
ら800℃まで1,5時間で昇温し、800℃で1時間
保つことによりセラミックス化処理した。
空孔径0.1μm以上のボアのないガラス状のセラミッ
クスが得られ、セラミックスの収率は72.2%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
クスが得られ、セラミックスの収率は72.2%で、組
成はアモルファスSiCが主成分であり、アモルファス
Cを少量含んでいた。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分、α−8iC
(2H)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成
長は殆ど見られず、0.1μm以下の微粒子からなる緻
密なセラミックスを得た。
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分、α−8iC
(2H)を少量含むセラミックスとした。この際の粒成
長は殆ど見られず、0.1μm以下の微粒子からなる緻
密なセラミックスを得た。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350T:に昇
温し200時間保持してセラミックス材料を得た。
温し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところα−SiC(21R)のピ
ークがA S T M22−13]9を用いて確認され
た。
線回折装置で測定したところα−SiC(21R)のピ
ークがA S T M22−13]9を用いて確認され
た。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間加熱試験をしても重量変化は十〇、4%で微少な
量であり、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなか
った。
0時間加熱試験をしても重量変化は十〇、4%で微少な
量であり、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなか
った。
比較例1
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した下記式(III)に示
されるポリカルボシラン(日本カーボン製−分子量M
N = 2990、MW=4990.軟化点232℃、
)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中で1
O−2Torrに減圧しながら、260 ℃に加熱して
融解し、Arガスによって10 kgf /”alに加
圧した後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごと
HIP装置において、室温から200 ℃まで2時間で
昇温しつつ、Arガスにより100100O/adに加
圧し、さらに圧力を保ちながら200 ℃から600℃
まで5時間で昇温し、600℃から800 ℃まで1.
5時間で昇温し、800℃で1時間保つことによりセラ
ミックス化処理した。
されるポリカルボシラン(日本カーボン製−分子量M
N = 2990、MW=4990.軟化点232℃、
)をアルミナ製容器の中に入れ、オートクレーヴ中で1
O−2Torrに減圧しながら、260 ℃に加熱して
融解し、Arガスによって10 kgf /”alに加
圧した後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ごと
HIP装置において、室温から200 ℃まで2時間で
昇温しつつ、Arガスにより100100O/adに加
圧し、さらに圧力を保ちながら200 ℃から600℃
まで5時間で昇温し、600℃から800 ℃まで1.
5時間で昇温し、800℃で1時間保つことによりセラ
ミックス化処理した。
得られたセラミックスの収率は72.6%で、組成はア
モルファスSiCが主成分であり、アモルファスCを少
量含んでいた。また得られたセラミックスはガラス状で
空孔径100μm〜300μmの閉空孔を多量に含有し
ていた。
モルファスSiCが主成分であり、アモルファスCを少
量含んでいた。また得られたセラミックスはガラス状で
空孔径100μm〜300μmの閉空孔を多量に含有し
ていた。
さらにAr常圧雰囲気下において1700’Cに加熱し
て結晶化させ、β−SiC(3C)を主成分とし、α−
8iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結
晶化の際に粒成長は生じ、1〜5μmの粒子の集合体と
なった。
て結晶化させ、β−SiC(3C)を主成分とし、α−
8iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結
晶化の際に粒成長は生じ、1〜5μmの粒子の集合体と
なった。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところ(第3図)SiO□ (α
−クリストバライト、α−石英)が多量成長しており、
α−8iC(21R)は生成しなかった。
線回折装置で測定したところ(第3図)SiO□ (α
−クリストバライト、α−石英)が多量成長しており、
α−8iC(21R)は生成しなかった。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持したところ、重量変化は+2.6%であった
。
0時間保持したところ、重量変化は+2.6%であった
。
次に得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の172以下まで低下し、劣化は大きかった。
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の172以下まで低下し、劣化は大きかった。
比較例2
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した前記式(m)に示され
るポリカルボシラン(分子量M N = 2980、M
W=6400、軟化点99℃、)をアルミナ製容器の中
に入れ、オートクレーヴ中で10−27artに減圧し
ながら150℃に加熱して融解し、Arガスによって1
0kg!/alに加圧した後に室温まで冷却した。次い
でアルミナ容器ごとHIP装置において、室温から20
0℃まで2時間で昇温しつつ、Arガスにより1001
00O/Ciに加圧し、さらに圧力を保ちながら200
℃から600℃まで5時間で昇温し、600℃から80
0℃まで1.5時間で昇温し、800℃で1時間保つこ
とによりセラミックス化処理した。
るポリカルボシラン(分子量M N = 2980、M
W=6400、軟化点99℃、)をアルミナ製容器の中
に入れ、オートクレーヴ中で10−27artに減圧し
ながら150℃に加熱して融解し、Arガスによって1
0kg!/alに加圧した後に室温まで冷却した。次い
でアルミナ容器ごとHIP装置において、室温から20
0℃まで2時間で昇温しつつ、Arガスにより1001
00O/Ciに加圧し、さらに圧力を保ちながら200
℃から600℃まで5時間で昇温し、600℃から80
0℃まで1.5時間で昇温し、800℃で1時間保つこ
とによりセラミックス化処理した。
得られたセラミックスの収率は69.7%で、組成はア
モルファスSiCが主成分であった。また得られたセラ
ミックスはガラス状で空孔径0,1 μm以上のボアは
なかった。
モルファスSiCが主成分であった。また得られたセラ
ミックスはガラス状で空孔径0,1 μm以上のボアは
なかった。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−8
iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶
化の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体とな
った。
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−8
iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶
化の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体とな
った。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところSiC2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、α−SiC(21
R)は生成しなかった。
線回折装置で測定したところSiC2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、α−SiC(21
R)は生成しなかった。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持したところ、重量変化は+14.1%と、大
きかった。
0時間保持したところ、重量変化は+14.1%と、大
きかった。
次に得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約
200時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験
前の172以下まで低下し、劣化は大きかった。
200時間加熱試験し、強度を調べたところ、加熱試験
前の172以下まで低下し、劣化は大きかった。
比較例3
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した下記式(TV)ポリシ
ラザン(チッソ■製、分子量MN=3170、MW=4
390、軟化点87℃)をアルミナ製容器の中に入れ、
オートクレーヴ中で10−27orrに減圧しながら、
120℃に加熱し融解し、Arガスによって10kg!
/aIrに加圧した後に室温まで冷却した。
ラザン(チッソ■製、分子量MN=3170、MW=4
390、軟化点87℃)をアルミナ製容器の中に入れ、
オートクレーヴ中で10−27orrに減圧しながら、
120℃に加熱し融解し、Arガスによって10kg!
/aIrに加圧した後に室温まで冷却した。
次いでアルミナ容器ごとHIP装置において、室温から
200℃まで2時間で昇温しつつ、Arガスにより10
0100O/Ciに加圧し、さらに圧力を保ちながら2
00℃から600℃まで5時間で昇温し、600℃から
800℃で1.5時間で昇温し、800℃まで1時間保
つことによりセラミックス化処理した。
200℃まで2時間で昇温しつつ、Arガスにより10
0100O/Ciに加圧し、さらに圧力を保ちながら2
00℃から600℃まで5時間で昇温し、600℃から
800℃で1.5時間で昇温し、800℃まで1時間保
つことによりセラミックス化処理した。
得られたセラミックスの収率は74,0%で、組成はア
モルファスSi、N4およびSiCが主成分であった。
モルファスSi、N4およびSiCが主成分であった。
また得られたセラミックスはガラス状で空孔径100μ
m〜300μm閉空孔を多量に含有していた。
m〜300μm閉空孔を多量に含有していた。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−S
iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶
化の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体とな
った。
結晶化させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−S
iC(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶
化の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体とな
った。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところ5in2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、α−8iC(21
R)は生成しなかった。
線回折装置で測定したところ5in2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、α−8iC(21
R)は生成しなかった。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持したところ、重量変化は+14,1%と、大
きかった。
0時間保持したところ、重量変化は+14,1%と、大
きかった。
また得られたセラミックス材料は非常に脆く、形状を維
持できずに粉々となった。
持できずに粉々となった。
H3H
比較例4
乾燥アルゴン雰囲気中で粉砕した前記式(III)に示
されるポリカルボシラン(分子量M N = 2980
、MW=6400、軟化点99℃)を、まずTHFに溶
かし、これにSiC(21R)粉末(平均粒径20μm
)をポリカルボシランに対して5重量部加え、ホモミキ
サーで混合した。さらにロータリーエバポレーターで乾
燥したのち、アルミナ製容器の中に入れ、オートクレー
ヴ中で10−27orrに減圧しながら、150℃に加
熱し融解し、Arガスによって10Kgf/c!Lrに
加圧した後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ご
とHIP装置においてArガスにより100100O/
alに加圧し、8oO℃で1時間保つことによりセラミ
ックス化処理した。
されるポリカルボシラン(分子量M N = 2980
、MW=6400、軟化点99℃)を、まずTHFに溶
かし、これにSiC(21R)粉末(平均粒径20μm
)をポリカルボシランに対して5重量部加え、ホモミキ
サーで混合した。さらにロータリーエバポレーターで乾
燥したのち、アルミナ製容器の中に入れ、オートクレー
ヴ中で10−27orrに減圧しながら、150℃に加
熱し融解し、Arガスによって10Kgf/c!Lrに
加圧した後に室温まで冷却した。次いでアルミナ容器ご
とHIP装置においてArガスにより100100O/
alに加圧し、8oO℃で1時間保つことによりセラミ
ックス化処理した。
得られたセラミックスの収率は75.7%で、組成はア
モルファスSiCが主成分であった。また得られたセラ
ミックスはガラス状で空孔径0.1 μm以上のボアは
なかった。
モルファスSiCが主成分であった。また得られたセラ
ミックスはガラス状で空孔径0.1 μm以上のボアは
なかった。
さらにAr常圧雰囲気下において1700℃に加熱して
結晶させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−5f
C(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶化
の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体となっ
た。
結晶させ、β−8iC(3C)を主成分とし、α−5f
C(2H)を少量含むセラミックスとした。この結晶化
の際に粒成長が生じ、1〜5μmの粒子の集合体となっ
た。
上記セラミックスを、さらに空気中で1350℃に昇温
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
し200時間保持してセラミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし、X
線回折装置で測定したところ5iO2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、またα−3iC(
21R)は残留していた。
線回折装置で測定したところ5iO2(α−クリストバ
ライト、α−石英)が生成しており、またα−3iC(
21R)は残留していた。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持したところ、重量変化は+13.1%と、大
きかった。
0時間保持したところ、重量変化は+13.1%と、大
きかった。
次に得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の172以下に低下し、劣化は大きかった。
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の172以下に低下し、劣化は大きかった。
実施例4
実施例1で使用したのと同じポリシラスチレンのTHF
溶液を濃縮し、常温で直径10μ(ミクロン)のピッチ
系炭素繊維の2000本束の3次元直交織物に含浸し、
乾燥後、さらに60℃で真空乾燥した。
溶液を濃縮し、常温で直径10μ(ミクロン)のピッチ
系炭素繊維の2000本束の3次元直交織物に含浸し、
乾燥後、さらに60℃で真空乾燥した。
次いでアルミナ製容器の中に入れ、排気機構付HIP装
置においてArガスにより100100O/aIrに加
圧し、1.58m 3/hrで排気しながら、400℃
まで0,5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温しで
セラミックス化処理することにより、空隙率20%の炭
素/セラミックス複合材料が得られた。
置においてArガスにより100100O/aIrに加
圧し、1.58m 3/hrで排気しながら、400℃
まで0,5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温しで
セラミックス化処理することにより、空隙率20%の炭
素/セラミックス複合材料が得られた。
続いて上記ポリシラスチレンを含浸し、排気機構付HI
P装置においてArガスによりIO00Kgl/dに加
圧し、1000℃のおいてセラミックス化処理を行い、
炭素/セラミックス複合材料を緻密化した。
P装置においてArガスによりIO00Kgl/dに加
圧し、1000℃のおいてセラミックス化処理を行い、
炭素/セラミックス複合材料を緻密化した。
さらに空気中で1000℃に昇温し2時間保持してセラ
ミックス材料を得た。
ミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料を走査型電子顕微鏡で観察し
たところ、同複合材料の空隙にセラミックス・マトリッ
クスがよく充填されており、マトリックスの剥離などは
観察されなかった。
たところ、同複合材料の空隙にセラミックス・マトリッ
クスがよく充填されており、マトリックスの剥離などは
観察されなかった。
また得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし
、X線回折装置で測定したところα−8iC(21R)
(7)ピーク力A S T M22−1319を用いて
確認された。
、X線回折装置で測定したところα−8iC(21R)
(7)ピーク力A S T M22−1319を用いて
確認された。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で約20
0時間保持しても重量変化は+0.3%と微小な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
0時間保持しても重量変化は+0.3%と微小な量であ
り、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
さらに得られたセラミックス材料を空気中1350℃で
約200時間加熱試験し、強度の変化を調べたところ加
熱試験前の90%と、劣化は極めて小さかった。
約200時間加熱試験し、強度の変化を調べたところ加
熱試験前の90%と、劣化は極めて小さかった。
実施例5
実施例2で使用したのと同じポリカルボシランをオート
クレーブ中、10−27orrの減圧下、190℃で溶
融し、直径10μ(ミクロン)のピッチ系炭素繊維の2
000本束の3次元直交織物に含浸し、さらにArガス
によって9.8kg1/cdに加圧した後に室温まで冷
却した。
クレーブ中、10−27orrの減圧下、190℃で溶
融し、直径10μ(ミクロン)のピッチ系炭素繊維の2
000本束の3次元直交織物に含浸し、さらにArガス
によって9.8kg1/cdに加圧した後に室温まで冷
却した。
次いでアルミナ製容器の中に入れ、排気機構付HIP装
置においてArガスにより100100O/carに加
圧し、1.58m ’ /hrで排気しながら、400
℃まで0.5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温し
でセラミックス化処理することにより、空隙率17%の
セラミックスが得られた。
置においてArガスにより100100O/carに加
圧し、1.58m ’ /hrで排気しながら、400
℃まで0.5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温し
でセラミックス化処理することにより、空隙率17%の
セラミックスが得られた。
続いて上記ポリカルボシランを含浸し、排気機構付HI
P装置においてArガスにより100100O/dに加
圧し、1000℃においてセラミックス化処理を行い、
上記セラミックスを緻密化した。
P装置においてArガスにより100100O/dに加
圧し、1000℃においてセラミックス化処理を行い、
上記セラミックスを緻密化した。
さらに空気中で1000℃に昇温し2時間保持してセラ
ミックス材料を得た。
ミックス材料を得た。
得られたセラミックス材料を走査型電子顕微鏡で観察し
たところ、同複合材料の空隙にセラミックス・マトリッ
クスがよく充填されており、マトリックスの剥離などは
観察されなかった。
たところ、同複合材料の空隙にセラミックス・マトリッ
クスがよく充填されており、マトリックスの剥離などは
観察されなかった。
また得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし
、X線回折装置で測定したところα−8iC(21R)
のピークがA S 7M22−1319を用いて確認さ
れた。
、X線回折装置で測定したところα−8iC(21R)
のピークがA S 7M22−1319を用いて確認さ
れた。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で200
時間保持しても重量変化は+1.1%と、微少な量であ
り、またセラミックス材料の寸法変化はほとんどなかっ
た。
時間保持しても重量変化は+1.1%と、微少な量であ
り、またセラミックス材料の寸法変化はほとんどなかっ
た。
さらに得られたセラミックス材料を空気中1350℃で
約200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験
前の85%と、劣化は小さかった。
約200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験
前の85%と、劣化は小さかった。
実施例6
実施例3で使用したのと同じポリカルボシランをトルエ
ンに溶融し、直径10μ(ミクロン)のピッチ系炭素繊
維の211[1[1本束の3次元直交織物を浸漬して、
90℃で減圧蒸留することにより、含浸および溶媒の除
去を行った。
ンに溶融し、直径10μ(ミクロン)のピッチ系炭素繊
維の211[1[1本束の3次元直交織物を浸漬して、
90℃で減圧蒸留することにより、含浸および溶媒の除
去を行った。
次いでアルミナ製容器の中に入れ、排気機構付HIP装
置においてArガスにより100100O/alに加圧
し、1.58m 3/brで排気しながら、400℃ま
で0.5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温してセ
ラミックス化処理することにより、空隙率18%のセラ
ミックスが得られた。
置においてArガスにより100100O/alに加圧
し、1.58m 3/brで排気しながら、400℃ま
で0.5℃/分、1000℃まで2℃/分で昇温してセ
ラミックス化処理することにより、空隙率18%のセラ
ミックスが得られた。
続いて上記ポリカルボシランを含浸し、排気機構付HI
P装置においてArガスにより100100O/dに加
圧し、1000℃においてセラミックス化処理を行い、
セラミックスを緻密化した。
P装置においてArガスにより100100O/dに加
圧し、1000℃においてセラミックス化処理を行い、
セラミックスを緻密化した。
さらに四塩化珪素、水素、アルゴンの混合ガス中で13
00℃で加熱処理し表面を改質した。続いてCVD処理
により表面にSfCコーティングを施し、空気中100
0℃で2000時間熱処理してセラミックス材料を得た
。
00℃で加熱処理し表面を改質した。続いてCVD処理
により表面にSfCコーティングを施し、空気中100
0℃で2000時間熱処理してセラミックス材料を得た
。
また得られたセラミックス材料の一部をサンプリングし
、X線回折装置で測定したところα−SiC(21R)
のピークがA S T M22−1319を用いて確認
された。
、X線回折装置で測定したところα−SiC(21R)
のピークがA S T M22−1319を用いて確認
された。
得られたセラミックス材料を空気中1350℃で200
時間保持しても重量変化は+0.1%と微少な量であり
、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
時間保持しても重量変化は+0.1%と微少な量であり
、セラミックス材料の寸法変化はほとんどなかった。
さらに得られたセラミックス材料を空気中1350℃で
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の97%であり、劣化は極めて小さかった。
200時間加熱試験し、強度を調べたところ加熱試験前
の97%であり、劣化は極めて小さかった。
第1図は実施例1、第2図は実施例2、第3図は比較例
1のセラミックス材料のX線回折図である。
1のセラミックス材料のX線回折図である。
Claims (3)
- (1)主鎖あるいは側鎖部分に、熱処理により黒鉛構造
あるいは炭素六員環構造に変化する基を有する炭化珪素
セラミックス前駆体を含有する有機金属化合物を、解放
型容器内に充填し、熱間静水圧加圧装置において熱処理
し、さらに酸化雰囲気下で熱処理することを特徴とする
セラミックス材料の製造法。 - (2)セラミックス材料の構造の少なくとも一部がSi
C(21R)であることを特徴とする請求項第1項に記
載のセラミックス材料の製造法。 - (3)請求項第1項のセラミックス材料が耐熱繊維と複
合化されたことを特徴とするセラミックスの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2207690A JPH0492861A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | セラミックス材料の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2207690A JPH0492861A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | セラミックス材料の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0492861A true JPH0492861A (ja) | 1992-03-25 |
Family
ID=16543965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2207690A Pending JPH0492861A (ja) | 1990-08-07 | 1990-08-07 | セラミックス材料の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0492861A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013535647A (ja) * | 2010-07-28 | 2013-09-12 | マーティン ゲーエムベーハー フュール ウムヴェルト ウント エネルギテクニック | 蒸気ボイラー設備の熱交換管保護方法、成形物、熱交換管及び蒸気ボイラー設備 |
-
1990
- 1990-08-07 JP JP2207690A patent/JPH0492861A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013535647A (ja) * | 2010-07-28 | 2013-09-12 | マーティン ゲーエムベーハー フュール ウムヴェルト ウント エネルギテクニック | 蒸気ボイラー設備の熱交換管保護方法、成形物、熱交換管及び蒸気ボイラー設備 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| 岡村清人 et al. | SiC-based ceramic fibers prepared via organic-to-inorganic conversion process-a review | |
| Renlund et al. | Silicon oxycarbide glasses: Part I. Preparation and chemistry | |
| EP0438117B1 (en) | Preparation of substantially crystalline silicon carbide fibers from polycarbosilane | |
| US5268336A (en) | Preparation of substantially polycrystalline silicon carbide fibers from methylpolydisilylazanes | |
| US5851942A (en) | Preparation of boron-doped silicon carbide fibers | |
| US5725828A (en) | Ceramic matrix composites using modified hydrogen silsesquioxane resin | |
| Takeda et al. | Thermal stability of SiC fiber prepared by an irradiation-curing process | |
| Hasegawa | New curing method for polycarbosilane with unsaturated hydrocarbons and application to thermally stable SiC fibre | |
| Baldus et al. | Studies on SiBN (C)-ceramics: Oxidation-and CrystallizationBehavior Lead the Way to Applications | |
| Suttor et al. | Fiber‐reinforced ceramic‐matrix composites with a polysiloxane/boron‐derived matrix | |
| JPH05254965A (ja) | セラミックマトリックスコンポジット及びその製法 | |
| CA2067145C (en) | Process for forming crack-free pyrolytic boron nitride on a carbon structure and article | |
| Dong et al. | C/C–SiC composites derived from single‐source poly (silylene–acetylene) precursors | |
| Shim et al. | The effect of temperature and atmospheric-pressure on mechanical and electrical properties of polymer-derived SiC fibers | |
| Gong et al. | Rapid curing of liquid polycarbosilane and its conversion into protective coating | |
| CN104327275B (zh) | 一种含铝聚碳硅烷的合成方法 | |
| JPH1017382A (ja) | 炭化珪素成形体の製造方法 | |
| JP2892849B2 (ja) | プレセラミック重合体を不融化する方法 | |
| CN118221449B (zh) | 一种碳晶须增强多孔玻璃碳材料及其制备方法 | |
| JPH0492861A (ja) | セラミックス材料の製造法 | |
| Okamura et al. | Silicon‐Based Ceramic Fibers | |
| Zhang et al. | Polymer‐derived SiC–ZrC composite ceramic fiber prepared by the BCl3‐curing process | |
| CA2141043A1 (en) | Black glss ceramic from rapid pyrolysis in oxygen-containing atmospheres | |
| Istomina et al. | Fabrication of Carbon–Silicon Carbide Core–Shell Composite Fibers | |
| US5863848A (en) | Preparation of substantially crystalline silicon carbide fibers from borosilazanes |