JPH049682A - 集積回路の導電路上の電位測定方法 - Google Patents
集積回路の導電路上の電位測定方法Info
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- JPH049682A JPH049682A JP2410042A JP41004290A JPH049682A JP H049682 A JPH049682 A JP H049682A JP 2410042 A JP2410042 A JP 2410042A JP 41004290 A JP41004290 A JP 41004290A JP H049682 A JPH049682 A JP H049682A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 25
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
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-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
- G01R31/305—Contactless testing using electron beams
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［０００１１
【産業上の利用分野］
本発明は、特許請求の範囲の請求項１の前段に記載した
型式の電位測定方法及びこの方法を使用する装置に関す
るものである。 ［０００２］ 【従来の技術】 集積回路の電位測定に電子ビームを用いる方法は、公知
である。その方法では電子ビームを測定しようとする導
電路（トラック）の１点に当て、その結果生じる２次電
子信号を測定制御してその値を求めている。 ［０００３） 集積回路の小形化及びこれに対応するその導電路の幅の
縮小化が進むにつれてその電位の測定が妨害を受けるに
至った。その原因は、例えば、該回路内の接続ワイヤや
高圧導線などから発生する電磁界である。これらの妨害
により、１次電子ビームが対象とする導電路上に静止し
ないで偏向され、その導電路から滑り落ちることさえあ
る。これは、電位の測定に極めて悪い影響を与え、場合
によっては測定が不可能となる。 ［０００４］
型式の電位測定方法及びこの方法を使用する装置に関す
るものである。 ［０００２］ 【従来の技術】 集積回路の電位測定に電子ビームを用いる方法は、公知
である。その方法では電子ビームを測定しようとする導
電路（トラック）の１点に当て、その結果生じる２次電
子信号を測定制御してその値を求めている。 ［０００３） 集積回路の小形化及びこれに対応するその導電路の幅の
縮小化が進むにつれてその電位の測定が妨害を受けるに
至った。その原因は、例えば、該回路内の接続ワイヤや
高圧導線などから発生する電磁界である。これらの妨害
により、１次電子ビームが対象とする導電路上に静止し
ないで偏向され、その導電路から滑り落ちることさえあ
る。これは、電位の測定に極めて悪い影響を与え、場合
によっては測定が不可能となる。 ［０００４］
したがって、本発明の課題は、請求項１の前段に記載し
た方法を更に改良して集積回路の導電路上の電位測定に
おける電気的及び（又は）磁気的妨害を補償することで
ある。 ［０００５］
た方法を更に改良して集積回路の導電路上の電位測定に
おける電気的及び（又は）磁気的妨害を補償することで
ある。 ［０００５］
本発明は、上記の課題を請求項１の後段に記載した構成
によって解決した。 他の請求項には、本発明のその他の特徴を記載した。 ［０００６］
によって解決した。 他の請求項には、本発明のその他の特徴を記載した。 ［０００６］
以下、図面により本発明を具体的に説明する。
図１は、集積回路をライン毎に走査したときに生じる論
理像（イメージ）の例を示す説明図である。 ［０００７］ 図１に示すものは、集積回路２の２次元的な論理像１で
ある。これを得るため電子ビームのパルスを集積回路２
の上に集束させる。導電路３上の電位を測定するため、
集積回路２をプログラムで動作させると、プログラム・
ループが周期的に終了する間に特定の時点に発生する論
理状態４，５が電子ビームにより２次元的論理像として
表示される。この場合、電子ビームはプログラム・ルー
プの繰返し周波数でパルス化し、その位相を連続的に移
相する。その結果、時間（１）の軸を有する２次元的な
（ｘｙ軸の）論理像が生じる。こうして、集積回路２の
表面構造が精確に再現される。 ［０００８］ いま、導電路３上の特定点Ａの電位をもっと精確に測定
したいと仮定する。 まず、プログラムの特定の時間範囲Δｔの間に、点Ａを
含むＩＩ−ＩＩ線のみ、すなわち時間軸ｔに直角のライ
ンのみに沿って電子ビームにより集積回路２を走査し、
補助的測定を行う。 ［０００９］ 図２は、上記ＩＩ−ＩＩ線に沿って１ラインの走査をし
たとき現われる論理像を示す。 ［００１０］ 図２に示す論理像１′ は、表示（デイスプレィ）装置
に現われるものである。 この２次元的表示は、一方において位置Ｘが、他方にお
いて時間ｔがプロットされている。図１のＸ座標ＸＡを
もつ点Ａは、図２では、全測定時間範囲Δｔにわたる導
電路３′のＸ座標ハで示される。また、各導電路（トラ
ック）上の電位発生状態を示す論理状態４’ 、 ５
’ は、白と黒で対照的に示す。しかし、図２に示すよ
うな直線的に延びる導電路３′の表示は、理想的な状態
、すなわち電気的及び（又は）磁気的妨害が全くない場
合にのみ生じるものである。
理像（イメージ）の例を示す説明図である。 ［０００７］ 図１に示すものは、集積回路２の２次元的な論理像１で
ある。これを得るため電子ビームのパルスを集積回路２
の上に集束させる。導電路３上の電位を測定するため、
集積回路２をプログラムで動作させると、プログラム・
ループが周期的に終了する間に特定の時点に発生する論
理状態４，５が電子ビームにより２次元的論理像として
表示される。この場合、電子ビームはプログラム・ルー
プの繰返し周波数でパルス化し、その位相を連続的に移
相する。その結果、時間（１）の軸を有する２次元的な
（ｘｙ軸の）論理像が生じる。こうして、集積回路２の
表面構造が精確に再現される。 ［０００８］ いま、導電路３上の特定点Ａの電位をもっと精確に測定
したいと仮定する。 まず、プログラムの特定の時間範囲Δｔの間に、点Ａを
含むＩＩ−ＩＩ線のみ、すなわち時間軸ｔに直角のライ
ンのみに沿って電子ビームにより集積回路２を走査し、
補助的測定を行う。 ［０００９］ 図２は、上記ＩＩ−ＩＩ線に沿って１ラインの走査をし
たとき現われる論理像を示す。 ［００１０］ 図２に示す論理像１′ は、表示（デイスプレィ）装置
に現われるものである。 この２次元的表示は、一方において位置Ｘが、他方にお
いて時間ｔがプロットされている。図１のＸ座標ＸＡを
もつ点Ａは、図２では、全測定時間範囲Δｔにわたる導
電路３′のＸ座標ハで示される。また、各導電路（トラ
ック）上の電位発生状態を示す論理状態４’ 、 ５
’ は、白と黒で対照的に示す。しかし、図２に示すよ
うな直線的に延びる導電路３′の表示は、理想的な状態
、すなわち電気的及び（又は）磁気的妨害が全くない場
合にのみ生じるものである。
【００１月
前述のように、集積回路２の小形化及びその導電路３の
幅の縮小化が進むにっれて、その電位の測定が妨害を受
けるようになった。これらの妨害は、測定個所の近くの
接続ワイヤや高圧導線から発生して電子ビームを偏向さ
せる電界及び（又は）磁界が含まれている。図３は、集
積回路の１ライン走査において該ラインが電界及び（又
は）磁界によって妨害された場合の論理像を示す。図３
の論理像１″では、正常時は直線的である導電路３″が
時間範囲ΔｔＶにおいて側方に（空間的に）Δｘだけ変
位している。 ［００１２］ 信号を量的に測定する場合は、電子ビームで点Ａを含む
ＩＩ−ＩＩ線全体を走査せず、点Ａに静止して電子ビー
ムを当てる。しかし、そうすると、電気的及び（又は）
磁気的妨害が大きく、したがって変位Δｘが大きい場合
、電子ビームが偏向されて導電路から滑り落ち、測定が
全く不可能となる。 ［００１３］ 本発明の方法では、この妨害を防ぐためにまず、対象点
Ａを含むＩＩ−ＩＩ線又は時間軸に直角な他のラインに
沿う１ライン走査による前述の補助測定を行い、論理像
１″内に生じ電気的及び（又は）磁気的妨害によって起
こる導電路３“の空間的変位Δｘを時間に応じて検出、
測定して図示しない装置に記憶させる。 ［００１４］ 次に、補助測定と同じプログラムの特定時間範囲△ｔに
、主測定を行う。この測定において、電子に一ムを導電
路３の点Ａ（図１）の上に当てて静止させる。 上記の記憶装置より、補助測定で値を求め記憶した変位
（空間的及び時間的に変化する。）を補正値として電子
ビーム偏向装置に供給し、電気的及び（又は）磁気的妨
害が生じる時間範囲Δｔ において電子ビームがこれに
対応して補正され■ 直線をなすようにする。補正値を決めるため、論理像１
″の連続するライン像は例えば相関法を用いて値を求め
る。この場合、１．２又は３次元的な相互相関及び自己
相関計算法を、個々の又は連続する数個のデータ範囲内
の実際の空間又はフーリエ空間に適用する。 ［００１５］ このようにして、集積回路の個々の、特に関心のある点
の高電位の量的測定を電気的及び（又は）磁気的妨害に
影響されることなく行うことができる。 ［００１６］ 補正値を補正電流又は電圧の形で供給される電子ビーム
偏向装置は、従来のように偏向コイル又は偏向コンデン
サによって構成することができる。 ［００１７］ 本発明による補助測定は、主測定を行う同じ導電路に対
して行う必要はない。 補助測定は、主測定において調べたい導電路と同じ状態
（変位に関し）が生じる導電路に対して行えば十分であ
る。 ［００１８］ 【発明の効果】 以上述べたとおり、本発明によれば、集積回路の導電路
上の電位測定において受ける電気的及び（又は）磁気的
妨害の影響を補正することができる。
幅の縮小化が進むにっれて、その電位の測定が妨害を受
けるようになった。これらの妨害は、測定個所の近くの
接続ワイヤや高圧導線から発生して電子ビームを偏向さ
せる電界及び（又は）磁界が含まれている。図３は、集
積回路の１ライン走査において該ラインが電界及び（又
は）磁界によって妨害された場合の論理像を示す。図３
の論理像１″では、正常時は直線的である導電路３″が
時間範囲ΔｔＶにおいて側方に（空間的に）Δｘだけ変
位している。 ［００１２］ 信号を量的に測定する場合は、電子ビームで点Ａを含む
ＩＩ−ＩＩ線全体を走査せず、点Ａに静止して電子ビー
ムを当てる。しかし、そうすると、電気的及び（又は）
磁気的妨害が大きく、したがって変位Δｘが大きい場合
、電子ビームが偏向されて導電路から滑り落ち、測定が
全く不可能となる。 ［００１３］ 本発明の方法では、この妨害を防ぐためにまず、対象点
Ａを含むＩＩ−ＩＩ線又は時間軸に直角な他のラインに
沿う１ライン走査による前述の補助測定を行い、論理像
１″内に生じ電気的及び（又は）磁気的妨害によって起
こる導電路３“の空間的変位Δｘを時間に応じて検出、
測定して図示しない装置に記憶させる。 ［００１４］ 次に、補助測定と同じプログラムの特定時間範囲△ｔに
、主測定を行う。この測定において、電子に一ムを導電
路３の点Ａ（図１）の上に当てて静止させる。 上記の記憶装置より、補助測定で値を求め記憶した変位
（空間的及び時間的に変化する。）を補正値として電子
ビーム偏向装置に供給し、電気的及び（又は）磁気的妨
害が生じる時間範囲Δｔ において電子ビームがこれに
対応して補正され■ 直線をなすようにする。補正値を決めるため、論理像１
″の連続するライン像は例えば相関法を用いて値を求め
る。この場合、１．２又は３次元的な相互相関及び自己
相関計算法を、個々の又は連続する数個のデータ範囲内
の実際の空間又はフーリエ空間に適用する。 ［００１５］ このようにして、集積回路の個々の、特に関心のある点
の高電位の量的測定を電気的及び（又は）磁気的妨害に
影響されることなく行うことができる。 ［００１６］ 補正値を補正電流又は電圧の形で供給される電子ビーム
偏向装置は、従来のように偏向コイル又は偏向コンデン
サによって構成することができる。 ［００１７］ 本発明による補助測定は、主測定を行う同じ導電路に対
して行う必要はない。 補助測定は、主測定において調べたい導電路と同じ状態
（変位に関し）が生じる導電路に対して行えば十分であ
る。 ［００１８］ 【発明の効果】 以上述べたとおり、本発明によれば、集積回路の導電路
上の電位測定において受ける電気的及び（又は）磁気的
妨害の影響を補正することができる。
【図１】
集積回路の全ラインの走査により生じる論理像の例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図２】
図１のＩＩ−ＩＩ線に沿って１ラインの走査をしたとき
現われる論理像を示す説明図である。
現われる論理像を示す説明図である。
【図３】
集積回路の１ライン走査において該ラインが電界及び（
又は）磁界によって妨害された場合の論理像を示す説明
図である。
又は）磁界によって妨害された場合の論理像を示す説明
図である。
特許請求の範囲において図示の実施例に対応する構成要
素に符号を付記して示したので、重複託載を省略する。
素に符号を付記して示したので、重複託載を省略する。
【同口
【図２】
図面
【図３】
Ｇ ０１
３１／３１Ｂ
Claims (3)
- 【請求項１】プログラム・ループの繰返し周波数でパル
ス化されその位相が連続的に移相される電子ビームを用
い、該プログラム・ループが周期的に終了する間に特定
の時点に発生する論理状態（４、５）、（４′、５′）
が２次元的な論理像として表示される如き、プログラム
制御される集積回路（２）の導電路（３）、（３′）上
の電位測定方法において、ａ）まず、上記プログラムの
特定の時間範囲（Δｔ）の間に、少なくとも１つの導電
路（３）を横切るただ１つの走査ラインを電子ビームに
より走査し、その間に、電気的及び（又は）磁気的妨害
によって論理像（１″）に生じる空間的変位（Δｘ）を
時間に従って測定し、これを記憶させる補助測定を行い
、ｂ）次に、上記補助測定と同じ上記プログラムの特定
時間範囲（Δｔ）の間に、電子ビームを測定しようとす
る導電路（３）の上に当てて静止させ、その間に、上記
補助測定で決定した上記の時間に依存する空間的変位（
Δｘ）を、電気的及び（又は）磁気的妨害によって起き
る電子ビームの偏向を補正する補正値として使用する主
測定を行う ことを特徴とする集積回路の導電路上の電位測定方法。 - 【請求項２】上記空間的変位（Δｘ）の決定及び量的解
析を、多次元的な相互相関及び自己相関計算法の如き相
関法により上記論理像（１″）の連続するラインの値を
求めることによって行うことを特徴とする請求項１の方
法。 - 【請求項３】次の各手段を有する如き、プログラム制御
される集積回路の導電路上の電位測定装置において、 ａ）位相を制御できるパルス化された電子ビームを発生
する手段、ｂ）該電子ビームを集積回路上に集束させる
手段、ｃ）該集積回路をライン毎に走査するために電子
ビームを偏向させる手段、ｄ）発生する２次放射線を検
出しその値を求めるための測定及び制御手段、ｅ）特定
の時点に生じる論理状態を２次元的な論理像として表わ
す表示手段、更に次の手段を具えることを特徴とする集
積回路の導電路上の電位測定装置ｆ）上記論理像に示さ
れる導電路の、電気的及び（又は）磁気的妨害によって
生じる空間的時間的変位の値を求め、これを記憶する手
段、ｇ）上記の記憶した変位値を補正値として上記偏向
手段に加える手段。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3941889A DE3941889A1 (de) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | Verfahren und vorrichtung zur potentialmessung auf leiterbahnen einer programmgesteuerten integrierten schaltung |
| DE3941889.8 | 1989-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH049682A true JPH049682A (ja) | 1992-01-14 |
| JP3334891B2 JP3334891B2 (ja) | 2002-10-15 |
Family
ID=6395790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41004290A Expired - Fee Related JP3334891B2 (ja) | 1989-12-19 | 1990-12-11 | 集積回路の導電路上の電位測定方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5231350A (ja) |
| EP (1) | EP0433680B1 (ja) |
| JP (1) | JP3334891B2 (ja) |
| DE (2) | DE3941889A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9446632B2 (en) | 2010-12-21 | 2016-09-20 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Inner safety wheel, tire with inner safety wheel, and vehicle equipped with tires with inner safety wheel |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3941889A1 (de) | 1989-12-19 | 1991-06-20 | Integrated Circuit Testing | Verfahren und vorrichtung zur potentialmessung auf leiterbahnen einer programmgesteuerten integrierten schaltung |
| GB2283825B (en) * | 1993-11-09 | 1997-07-02 | Advantest Corp | IC fault analysis system |
| US6573735B2 (en) * | 2000-06-22 | 2003-06-03 | Qualcomm Incorporated | Reliability of vias and diagnosis by e-beam probing |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2814049A1 (de) * | 1978-03-31 | 1979-10-18 | Siemens Ag | Verfahren zur beruehrungslosen messung des potentialverlaufs in einem elektronischen bauelement und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens |
| US4420691A (en) * | 1978-12-28 | 1983-12-13 | Fujitsu Limited | Method of aligning electron beam apparatus |
| DE3110140A1 (de) * | 1981-03-16 | 1982-09-23 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung und verfahren fuer eine rasche interne logikpruefung an integrierten schaltungen |
| DE3235484A1 (de) * | 1982-09-24 | 1984-03-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur unterdrueckung einer stoerung bei der messung von signalverlaeufen mit einer korpuskularsonde und vorrichtung zur durchfuehrung eines solchen verfahrens |
| US4442361A (en) * | 1982-09-30 | 1984-04-10 | Storage Technology Partners (Through Stc Computer Research Corporation) | System and method for calibrating electron beam systems |
| US4516253A (en) * | 1983-03-15 | 1985-05-07 | Micronix Partners | Lithography system |
| DE3570324D1 (en) * | 1984-09-04 | 1989-06-22 | Siemens Ag | Process for the automatic positioning of a curpuscular probe |
| JPH0646550B2 (ja) * | 1985-08-19 | 1994-06-15 | 株式会社東芝 | 電子ビ−ム定位置照射制御方法および電子ビ−ム定位置照射制御装置 |
| US4803644A (en) * | 1985-09-20 | 1989-02-07 | Hughes Aircraft Company | Alignment mark detector for electron beam lithography |
| JPS62277724A (ja) * | 1986-05-27 | 1987-12-02 | Fujitsu Ltd | 電子ビ−ム露光装置 |
| US4812661A (en) * | 1986-08-20 | 1989-03-14 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for hybrid I.C. lithography |
| AT393925B (de) * | 1987-06-02 | 1992-01-10 | Ims Ionen Mikrofab Syst | Anordnung zur durchfuehrung eines verfahrens zum positionieren der abbildung der auf einer maske befindlichen struktur auf ein substrat, und verfahren zum ausrichten von auf einer maske angeordneten markierungen auf markierungen, die auf einem traeger angeordnet sind |
| DE3733823A1 (de) * | 1987-10-07 | 1989-04-20 | Zeiss Carl Fa | Verfahren zur kompensation des einflusses von umweltparametern auf die abbildungseigenschaften eines optischen systems |
| EP0392035B1 (de) * | 1989-04-11 | 1994-06-22 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für HalbleiterprÀ¼ftechnik mbH | Verfahren zur Aufzeichnung oder Abbildung zeitabhängiger Potentiale in Bauelementen der Mikroelektronik |
| DE3941889A1 (de) | 1989-12-19 | 1991-06-20 | Integrated Circuit Testing | Verfahren und vorrichtung zur potentialmessung auf leiterbahnen einer programmgesteuerten integrierten schaltung |
-
1989
- 1989-12-19 DE DE3941889A patent/DE3941889A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-11-19 EP EP90122104A patent/EP0433680B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-19 DE DE59008638T patent/DE59008638D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-11 JP JP41004290A patent/JP3334891B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-13 US US07/626,944 patent/US5231350A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9446632B2 (en) | 2010-12-21 | 2016-09-20 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Inner safety wheel, tire with inner safety wheel, and vehicle equipped with tires with inner safety wheel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0433680A2 (de) | 1991-06-26 |
| EP0433680B1 (de) | 1995-03-08 |
| DE59008638D1 (de) | 1995-04-13 |
| US5231350A (en) | 1993-07-27 |
| DE3941889A1 (de) | 1991-06-20 |
| EP0433680A3 (en) | 1992-06-03 |
| JP3334891B2 (ja) | 2002-10-15 |
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