JPH049721Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 技術分野 この考案は半導体装置のホトリソグラフイー工
程におけるアライメント装置の発光源として用い
られる複数の新しい高圧水銀ランプをエージング
する高圧水銀ランプのエージング装置に関する。

(ロ) 従来技術 半導体装置を製造する上で最も重要な工程の一
つであるホトリソグラフイーの精度をあげるため
にはこれに使用される発光源としての高圧水銀ラ
ンプの照度が一定している必要がある。

しかしながら、この種の装置に用いられる高圧
水銀ランプは、その寿命がほぼ千時間程度である
が、使用開始から150〜250時間の間にその照度が
約10％低下し、以後一定の照度を保持する。その
ため従来、新しい水銀ランプを用いた場合、使用
開始当初は頻繁に照度チエツクを行いホトリソグ
ラフイーの条件が一定になるように調整してい
る。このような調整の間、アライメント装置は作
業停止しなければならないので前記照度チエツク
作業によりホトリソグラフイー工程の作業能率が
低下するという問題がある。

(ハ) 目的 この考案は、複数の新しい高圧水銀ランプの照
度を安定化させるエージング装置を提供すること
を目的としている。

(ニ) 構成 この考案に係る高圧水銀ランプのエージング装
置は、複数の新しい高圧水銀ランプに対して同時
にエージングを行う高圧水銀ランプのエージング
装置であつて、内部に水銀ランプが１個ずつ収容
され且つ一体形成された複数のエージング室と、
各水銀ランプに高電圧を与えると共に、タイマー
によつてオン・オフ制御される複数の電源を設け
た電源部とを具備し、且つ、各エージング室に
は、エージング室内を冷却する冷却フアンと、高
圧水銀ランプの照射光が外部へ放出されないよう
にする遮光手段とを備えている。

(ホ) 実施例 第１図はこの考案に係る高圧水銀ランプのエー
ジング装置の一実施例を略示した斜視図である。
１０はエージング箱であり、このエージング箱１
０は水銀ランプを発光可能に収納する複数のエー
ジング室１１を有している。第２図は前記エージ
ング室１１内の内部構造を略示した断面図であ
る。同図に於いて３０は水銀ランプである。この
水銀ランプ３０は電極１３によつて高電圧が印加
されるとともに、その両端部が電極１３によつて
支持されている。電極１３は絶縁スタツド１２に
よつてエージング室１１の隔壁に取りつけ固定さ
れている。電極１３の一端にはリード線１４が接
続され、このリード線１４はエージング室外へ導
出され後述する電源部２０に接続される。１５は
エージング室内を冷却する手段としての冷却フア
ンである。この冷却フアン１５はエージング室１
１の下部にとりつけられ、エージングされる水銀
ランプ３０に向けて下方より風を送る。１６は水
銀ランプ３０の上方に取り外し自在に載置される
遮光手段としての遮光板である。この遮光板１６
はエージング中に水銀ランプから照射される光が
外部へ漏れて作業者の目を損傷することがないよ
うに設けられるものである。１７はエージング室
１１の上方に回転自在にとりつけられる扉であ
る。この扉１７は冷却フアン１５による風を流通
させるためにパンチング板若しくは金網され、そ
の一端部には取つ手が取りつけられている。１８
は扉１７の開閉を検出するためのマイクロスイツ
チである。このマイクロスイツチ１８はエージン
グ中に扉１７が開かれた場合に水銀ランプ３０に
与えられる高圧電圧を遮断することによつて作業
者の安全を確保するために設けられる。

２０はエージングされる水銀ランプ３０に高電
圧を与えるための電源部である。この電源部２０
は、前記エージング室１１に収納される水銀ラン
プ３０にそれぞれ高電圧を与えるための複数の電
源２１を備えている。この電源２１はタイマ２２
によつてオン・オフ制御される。なお、２３は複
数の電源２１を収納する収納ケースである。

つぎに、上述した装置の使用方法について説明
する。未使用の水銀ランプ３０はエージング室１
１内の電極１３に取りつけられる。そしてタイマ
２２の時間を水銀ランプ３０がほぼ一定の照度に
なる時間、例えば100時間にセツトされる。この
セツト時間中、水銀ランプ３０がエージングされ
ることによりエージング後にアライメント装置に
取つけられ、使用される水銀ランプ３０は一定の
照度を保持する。

上述の実施例ではエージング室を６個備えたエ
ージング装置について説明したがこの考案はこれ
に限られるものでなくエージング室の数は任意に
設定選択されるものである。

(ヘ) 効果 この考案に係る高圧水銀ランプのエージング装
置は、アライメント装置に取りつけられる以前
に、未使用の水銀ランプをその照度が一定になる
時間だけエージングするからアライメント装置取
りつけ後の水銀ランプの照度は一定する。そのた
めこの考案によれば、水銀ランプ取りつけ後に於
いて頻繁にその照度チエツクをする必要がないの
でホトリソグラフイー工程の作業能率をあげるこ
とができる。またこの考案によればホトリソグラ
フイーの条件が一定化するので、ホトリソグラフ
イー工程における品質をも向上させることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案に係る高圧水銀ランプのエー
ジング装置の一実施例を略示した斜視図、第２図
はエージング室１１の内部構造を略示した説明図
である。 １０……エージング箱、１１……エージング
室、１５……冷却フアン、１６……遮光板、２０
……電源部、２１……電源、２２……タイマ、３
０……水銀ランプ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 複数の新しい高圧水銀ランプに対して同時にエ
   ージングを行う高圧水銀ランプのエージング装置
   であつて、 内部に水銀ランプが１個ずつ収容され且つ一体
   形成された複数のエージング室と、 各水銀ランプに高電圧を与えると共に、タイマ
   ーによつてオン・オフ制御される複数の電源を設
   けた電源部とを具備し、且つ、 各エージング室には、エージング室内を冷却す
   る冷却フアンと、高圧水銀ランプの照射光が外部
   へ放出されないようにする遮光手段とを備えたこ
   とを特徴とする高圧水銀ランプのエージング装
   置。