JPH0497231A - 非線形光学素子 - Google Patents
非線形光学素子Info
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- JPH0497231A JPH0497231A JP21195690A JP21195690A JPH0497231A JP H0497231 A JPH0497231 A JP H0497231A JP 21195690 A JP21195690 A JP 21195690A JP 21195690 A JP21195690 A JP 21195690A JP H0497231 A JPH0497231 A JP H0497231A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nonlinear optical
- optical element
- polyvinyl alcohol
- carbon atoms
- straight chain
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- Pending
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、有機非線形光学材料を用いて光導波路を形成
した非線形光学素子に関するものである。
した非線形光学素子に関するものである。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題]有機非
線形光学材料は、LiNbO3やKTPなどのような無
機結晶に比べ10倍以上の大きな非線形光学定数を示す
ものが多く、2−メチル4−ニトロアニリンなどの結晶
が2次の非線形光学材料としてよく知られている。また
、非局在化π電子系により大きな2次の非線形光学効果
を示す材料は大きな電気光学効果を示すこともよく知ら
れている。
線形光学材料は、LiNbO3やKTPなどのような無
機結晶に比べ10倍以上の大きな非線形光学定数を示す
ものが多く、2−メチル4−ニトロアニリンなどの結晶
が2次の非線形光学材料としてよく知られている。また
、非局在化π電子系により大きな2次の非線形光学効果
を示す材料は大きな電気光学効果を示すこともよく知ら
れている。
一方、光導波路型非線形光学素子の特徴としては光が狭
い空間に閉し込められるので非線形光学効果が現れ易く
、また、電気光学素子の特徴としては、低電圧で高速動
作できるなどがある。このような特徴をより活かすため
、非線形光学効果、電気光学効果の大きな材料を光導波
路型光学素子へ応用することが研究されている。
い空間に閉し込められるので非線形光学効果が現れ易く
、また、電気光学素子の特徴としては、低電圧で高速動
作できるなどがある。このような特徴をより活かすため
、非線形光学効果、電気光学効果の大きな材料を光導波
路型光学素子へ応用することが研究されている。
しかしながら、有機結晶で実用に供されるほど大きなも
のが得られているものは数が少なく、また構成分子が大
きな2次の分子分極率βを有していても結晶中の分子配
列が反転対称性を有するために、結晶化しても波長変換
が不可能である場合が多かった。さらに、有機結晶を光
導波型光学素子に応用するには、ファイバー形状あるい
は薄膜形状に加工する必要があるが、これに成功してい
る例はさらに少ない。このように有機結晶の形で、大き
な2次の分子分極率βを有する有機分子を用いて実用に
耐え得る光学素子を作製することは困難であった。
のが得られているものは数が少なく、また構成分子が大
きな2次の分子分極率βを有していても結晶中の分子配
列が反転対称性を有するために、結晶化しても波長変換
が不可能である場合が多かった。さらに、有機結晶を光
導波型光学素子に応用するには、ファイバー形状あるい
は薄膜形状に加工する必要があるが、これに成功してい
る例はさらに少ない。このように有機結晶の形で、大き
な2次の分子分極率βを有する有機分子を用いて実用に
耐え得る光学素子を作製することは困難であった。
結晶材料以外に、非線形光学活性な有機分子を有機高分
子にドープした分散形高分子材料や有機高分子の側鎖に
化学結合を介して非線形光学活性な構造が導入された側
鎖修飾系高分子材料をその分子集合状態に非線形光学効
果の発現に必要な配列をもたせた側鎖修飾系高分子材料
が考案されている。分子集合状態に規則性を与える方法
としては、ガラス転移温度(Tg)付近に加熱した状態
で、外部電界を印加し、非線形光学活性部位を電界に沿
って配列させ、7g以下に冷却し、その配列状態を固定
する方法などが知られている。配向した高分子非線形光
学材料の2次の非線形光学定数dは、 d=N−fω−fω−f2ω−β’<CO3’θ〉N:
単位面積当りの非線形活性部位の個数(個/c−J) β:非線形光学活性部位の2次分子分極率θ:電界方向
と分極βのなす角 fω、f2ω:波長ω、2ωに対する修正因子なる式で
表わされる。非線形光学定数を大きくするためにはN、
βを大きく、そしてθを小さくすることが必要である。
子にドープした分散形高分子材料や有機高分子の側鎖に
化学結合を介して非線形光学活性な構造が導入された側
鎖修飾系高分子材料をその分子集合状態に非線形光学効
果の発現に必要な配列をもたせた側鎖修飾系高分子材料
が考案されている。分子集合状態に規則性を与える方法
としては、ガラス転移温度(Tg)付近に加熱した状態
で、外部電界を印加し、非線形光学活性部位を電界に沿
って配列させ、7g以下に冷却し、その配列状態を固定
する方法などが知られている。配向した高分子非線形光
学材料の2次の非線形光学定数dは、 d=N−fω−fω−f2ω−β’<CO3’θ〉N:
単位面積当りの非線形活性部位の個数(個/c−J) β:非線形光学活性部位の2次分子分極率θ:電界方向
と分極βのなす角 fω、f2ω:波長ω、2ωに対する修正因子なる式で
表わされる。非線形光学定数を大きくするためにはN、
βを大きく、そしてθを小さくすることが必要である。
有機高分子材料は、作製上の自由度が大きい反面、室温
で配列が緩和して非線形光学効果が消失してしまう問題
、あるいはNを大きくすると非線形光学活性部位が会合
して透明性が悪化するなどの問題を発生する場合がある
。
で配列が緩和して非線形光学効果が消失してしまう問題
、あるいはNを大きくすると非線形光学活性部位が会合
して透明性が悪化するなどの問題を発生する場合がある
。
前者の問題に対してはTgを高温化する方法や架橋反応
を利用する方法などが検討されているが、これらの方法
では実用的な非線形光学素子に利用することができる有
機高分子材料は数少ない。
を利用する方法などが検討されているが、これらの方法
では実用的な非線形光学素子に利用することができる有
機高分子材料は数少ない。
従って、本発明の目的は、非線形光学効果及び電場配向
性に優れた光導波路型非線形光学素子を提供することに
ある。
性に優れた光導波路型非線形光学素子を提供することに
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、下記一般式(I)で表される構造を構成成分
として有するアセタール化ポリビニルアルコールを含有
して成る高分子有機非線形光学材料を用いて光導波路を
形成したことを特徴とする非線形光学素子を提供するこ
とにより上記目的を一千−CH−CH,−CH−CH1
−トCH。
として有するアセタール化ポリビニルアルコールを含有
して成る高分子有機非線形光学材料を用いて光導波路を
形成したことを特徴とする非線形光学素子を提供するこ
とにより上記目的を一千−CH−CH,−CH−CH1
−トCH。
〔但し、R3は水素原子、炭素数1〜6の直鎖若しくは
分岐状アルキル基のいずれか1種、R2は水素原子、炭
素数1〜6の直鎖若しくは分岐状アルキル基、炭素数1
〜6の直鎖若しくは分岐状アルコキシ基、ヒドロキシ基
、ニド四基、ハロゲン原子のいずれか1種を表す] 本発明における一般式(I)で表されるアセタール化ポ
リビニルアルコールは、下記一般式(II)で表される
4−ニトロフェニルアミノアセトアルデヒドアセタール
とポリビニルアルコールとを反応させることにより合成
される。以下に、合成法の一例を説明する。
分岐状アルキル基のいずれか1種、R2は水素原子、炭
素数1〜6の直鎖若しくは分岐状アルキル基、炭素数1
〜6の直鎖若しくは分岐状アルコキシ基、ヒドロキシ基
、ニド四基、ハロゲン原子のいずれか1種を表す] 本発明における一般式(I)で表されるアセタール化ポ
リビニルアルコールは、下記一般式(II)で表される
4−ニトロフェニルアミノアセトアルデヒドアセタール
とポリビニルアルコールとを反応させることにより合成
される。以下に、合成法の一例を説明する。
バ2
但し、上記一般式(II)におけるR3、R4は、水素
原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状アルキル基の
いずれか一種を表している。
原子、炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状アルキル基の
いずれか一種を表している。
ポリビニルアルコールを適当な)各課に)容かしておき
、原料アセタールを1〜・5倍モル好ましくは2〜3倍
モル加え、アセタールと等モルの酸を加えて加熱撹拌を
行い、沈殿したポリマーを再沈殿等で精製することによ
りアセタール化ポリビニルアルコールが得られる。
、原料アセタールを1〜・5倍モル好ましくは2〜3倍
モル加え、アセタールと等モルの酸を加えて加熱撹拌を
行い、沈殿したポリマーを再沈殿等で精製することによ
りアセタール化ポリビニルアルコールが得られる。
用いるポリビニルアルコールは重合度500〜2400
のものであればよく、立体規則性もランダム、アイソタ
クチック、ヘテロタクチック、シンジオタクチックのい
ずれでもよい。
のものであればよく、立体規則性もランダム、アイソタ
クチック、ヘテロタクチック、シンジオタクチックのい
ずれでもよい。
溶媒はポリビニルアルコールを溶かすものであればよい
が、好ましくは水が用いられる。また、添ガ「する酸と
しては、塩酸、硫酸、酢酸、I)−トルエンスルホン酸
等が挙げられる。添加量は原料アセクールの1〜5倍モ
ル、好ましくは1〜2倍モルである。反応は0〜100
’C2好ましくは50〜80°Cで加熱撹拌すること
により行う。
が、好ましくは水が用いられる。また、添ガ「する酸と
しては、塩酸、硫酸、酢酸、I)−トルエンスルホン酸
等が挙げられる。添加量は原料アセクールの1〜5倍モ
ル、好ましくは1〜2倍モルである。反応は0〜100
’C2好ましくは50〜80°Cで加熱撹拌すること
により行う。
アセタール化ポリビニルアルコール中のアセタールの側
鎖導入率Xは原料のモル比及び反応温度により制御する
ことができる。
鎖導入率Xは原料のモル比及び反応温度により制御する
ことができる。
また、本発明に用いられる高分子有機非線形光学材料は
、−C式(I)で表される構造を構成成分として有する
アセタール化ポリビニルアルコールを含有してしておれ
ば−ポリビニルアルコールの共重合体であってもよく、
該共重合体の組成としてはビニルアルコール構造、ビニ
ルエーテル構造、ビニルエステル構造、アセタール構造
などポリビニルアルコールから誘導される構造であれば
特に制限はなく、二種以上の構造が共重合組成として含
まれていてもよく〜また、共重合体の形態もランダム、
アイツタクツチク、ヘテロタクチック、シンジオタクチ
ッのいずれでもよい。また、その側鎖導入率は10〜1
00%の間であればいずれでもよい。
、−C式(I)で表される構造を構成成分として有する
アセタール化ポリビニルアルコールを含有してしておれ
ば−ポリビニルアルコールの共重合体であってもよく、
該共重合体の組成としてはビニルアルコール構造、ビニ
ルエーテル構造、ビニルエステル構造、アセタール構造
などポリビニルアルコールから誘導される構造であれば
特に制限はなく、二種以上の構造が共重合組成として含
まれていてもよく〜また、共重合体の形態もランダム、
アイツタクツチク、ヘテロタクチック、シンジオタクチ
ッのいずれでもよい。また、その側鎖導入率は10〜1
00%の間であればいずれでもよい。
得られた非線形光学ポリマーは、電場または磁場配向さ
せることにより、第2次高調波(S HG)を発生ずる
が、電場配向の場合、通常200KVZ1もの高電圧を
印加して配向させなけらばならない。
せることにより、第2次高調波(S HG)を発生ずる
が、電場配向の場合、通常200KVZ1もの高電圧を
印加して配向させなけらばならない。
本発明に用いられる高分子有機非線形光学材料は、30
KV/cmと比較的低電圧で電場方向に配向し、比較的
容易に配向処理ができるという有用性に優れている。
KV/cmと比較的低電圧で電場方向に配向し、比較的
容易に配向処理ができるという有用性に優れている。
また、本発明における高分子有機非線形光学材料のポリ
ビニルアルコールの水酸基残基の親水性を利用して、水
面上に単分子膜(LB膜)として展開し、基板にすくい
取ることによっても配向させることができる。
ビニルアルコールの水酸基残基の親水性を利用して、水
面上に単分子膜(LB膜)として展開し、基板にすくい
取ることによっても配向させることができる。
上記一般式(II)で表される4−ニトロフェニルアミ
ノアセトアルデヒドアセタールの合成法は種々あるが、
その−例を概説する。即ち、4−ニトロフルオロベンゼ
ン誘導体とアミノアセタールとを塩基の存在下反応させ
ることによって得られる。反応溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン、DMSOlDMF、NMP、ク
ロロホルム、塩化メチレン、エチルアルコール、メチル
アルコール、エーテル、THF、ヘキサン、シクロヘキ
サン等原料を溶かすものならばいずれでもよく、原料が
液体の場合には無溶媒でもよい。用られる塩基としては
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩が挙げられ
る。これらは無水物でも結晶水を含んでいてもよい。有
機塩基を用いる場合には、ピリジン、ピリミジン、ピペ
ラジン、トリアジン、ルチジン、モルホリン、ピロリジ
ン等を用いることができる。これらの塩基はアセタール
基が反応により生成するフッ化水素酸によりアルデヒド
に分解しないように添加する。反応は室温または加熱に
より進行し、用いる原料により異なる。アミノアセター
ルは4−ニトロフルオロベンゼンの1〜5倍、好ましく
は1〜2倍当量で反応を行わせる。
ノアセトアルデヒドアセタールの合成法は種々あるが、
その−例を概説する。即ち、4−ニトロフルオロベンゼ
ン誘導体とアミノアセタールとを塩基の存在下反応させ
ることによって得られる。反応溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン、DMSOlDMF、NMP、ク
ロロホルム、塩化メチレン、エチルアルコール、メチル
アルコール、エーテル、THF、ヘキサン、シクロヘキ
サン等原料を溶かすものならばいずれでもよく、原料が
液体の場合には無溶媒でもよい。用られる塩基としては
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸
マグネシウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩が挙げられ
る。これらは無水物でも結晶水を含んでいてもよい。有
機塩基を用いる場合には、ピリジン、ピリミジン、ピペ
ラジン、トリアジン、ルチジン、モルホリン、ピロリジ
ン等を用いることができる。これらの塩基はアセタール
基が反応により生成するフッ化水素酸によりアルデヒド
に分解しないように添加する。反応は室温または加熱に
より進行し、用いる原料により異なる。アミノアセター
ルは4−ニトロフルオロベンゼンの1〜5倍、好ましく
は1〜2倍当量で反応を行わせる。
而して、本発明の先導波路型非線形光学素子は、その形
態として、例えば、光フアイバー形状のもの、基体上に
薄膜形状に塗布したものなどがある。
態として、例えば、光フアイバー形状のもの、基体上に
薄膜形状に塗布したものなどがある。
光フアイバー形状の光導波路型非線形光学素子は、例え
ば、コア(クラッド)に上記アセタール化ポリビニルア
ルコールを含有して成る高分子有機非線形光学材料を用
い、クラッド(コア)コア(クラッド)よりも屈曲率の
低い(高い)材料を用いることによって形成することが
できる。この場合、上記高分子有機非線形光学材料を溶
融状態で石英ガラスのキャピラリ中に注入し、7g以上
に加熱して外部電場を印加することにより側鎖の大きな
分子分極率βを示す部位を一方向に配列された後、冷却
固化することにより高分子有機非線形光学材料をコアに
、石英ガラスをクラッドにした非線形光学素子を得るこ
とができる。
ば、コア(クラッド)に上記アセタール化ポリビニルア
ルコールを含有して成る高分子有機非線形光学材料を用
い、クラッド(コア)コア(クラッド)よりも屈曲率の
低い(高い)材料を用いることによって形成することが
できる。この場合、上記高分子有機非線形光学材料を溶
融状態で石英ガラスのキャピラリ中に注入し、7g以上
に加熱して外部電場を印加することにより側鎖の大きな
分子分極率βを示す部位を一方向に配列された後、冷却
固化することにより高分子有機非線形光学材料をコアに
、石英ガラスをクラッドにした非線形光学素子を得るこ
とができる。
また、上記高分子有機非線形光学材料より屈折率の大き
なガラスファイバーの外周に上記高分子有機非線形光学
材料の溶液又は融液を塗布した後、電場中を通しながら
固化させることによりガラスをコア、該有機非線形光学
材料をクラッドとする光フアイバー型の非線形光学素子
を得ることができる。
なガラスファイバーの外周に上記高分子有機非線形光学
材料の溶液又は融液を塗布した後、電場中を通しながら
固化させることによりガラスをコア、該有機非線形光学
材料をクラッドとする光フアイバー型の非線形光学素子
を得ることができる。
また、上記高分子有機非線形光学材料を薄膜形状として
用いる場合には、該高分子有機非線形光学材料の溶液を
咳高分子より屈折率の低い基体上にスピンコード法、デ
イプ法などで均一に塗布し、次いで、加温して溶媒を除
くことにより先導波路とすることができる。これを上記
高分子有機非線形光学材料のTg付近に加熱して外部電
界を印加し、側鎖の非線形光学活性部位を一方向に配列
させることにより薄板形状の非線形光学素子を得ること
ができる。尚、この際、脱媒処理と配向処理は同時に行
うことができることはいうまでもない。
用いる場合には、該高分子有機非線形光学材料の溶液を
咳高分子より屈折率の低い基体上にスピンコード法、デ
イプ法などで均一に塗布し、次いで、加温して溶媒を除
くことにより先導波路とすることができる。これを上記
高分子有機非線形光学材料のTg付近に加熱して外部電
界を印加し、側鎖の非線形光学活性部位を一方向に配列
させることにより薄板形状の非線形光学素子を得ること
ができる。尚、この際、脱媒処理と配向処理は同時に行
うことができることはいうまでもない。
また、この配向処理の温度は、側鎖修飾系高分子である
上記高分子有機非線形光学材料の7g以上であることが
好ましく、より好ましくはTg+40°C程度、さらに
好ましくはTg+20°C程度である。印加する電界の
強度は、側鎖に十分な配向を付与することができる強度
であればよく、そのためには該高分子有機非線形光学材
料あるいは光導波路型非線形光学素子の耐圧範囲内で、
できるだて高い方が好ましい。
上記高分子有機非線形光学材料の7g以上であることが
好ましく、より好ましくはTg+40°C程度、さらに
好ましくはTg+20°C程度である。印加する電界の
強度は、側鎖に十分な配向を付与することができる強度
であればよく、そのためには該高分子有機非線形光学材
料あるいは光導波路型非線形光学素子の耐圧範囲内で、
できるだて高い方が好ましい。
本発明に用いられる高分子有機非線形光学材料は、一般
式(I)で表わされる構造を構成成分として有するアセ
タール化ポリビニルアルコールを高分子素材として単独
で用いてもよいし、他のポリマーマトリックスとの複合
系で用いてもよい。
式(I)で表わされる構造を構成成分として有するアセ
タール化ポリビニルアルコールを高分子素材として単独
で用いてもよいし、他のポリマーマトリックスとの複合
系で用いてもよい。
用いられるポリマーマトリックスは光損傷の小さいポリ
マーであることが好ましく、このようなものとしては、
例えば、ポリ−ε−カプロラクトン、ポリブチレンセバ
ケート、ポリへキサメチレンアジベ−1・などのエステ
ル類、ポリエチレンオキサイド、ポリメタクリレート、
ナイロン、セルロース、更には、エポキシレジン、フェ
ノールノボラック、クレゾールノボラックなどを挙げる
ことができる。
マーであることが好ましく、このようなものとしては、
例えば、ポリ−ε−カプロラクトン、ポリブチレンセバ
ケート、ポリへキサメチレンアジベ−1・などのエステ
ル類、ポリエチレンオキサイド、ポリメタクリレート、
ナイロン、セルロース、更には、エポキシレジン、フェ
ノールノボラック、クレゾールノボラックなどを挙げる
ことができる。
また、本発明に用いられる高分子有機非線形光学材料は
、電界配向処理もしくは非線形光学活性部位を一方向に
揃える同等の作用を発揮する処理を施すことにより発現
する非線形光学効果を利用した本発明の光導波路型非線
形光学素子の他、複屈折性、電気光学効果、熱効果を利
用した各素子についても適用することができる。
、電界配向処理もしくは非線形光学活性部位を一方向に
揃える同等の作用を発揮する処理を施すことにより発現
する非線形光学効果を利用した本発明の光導波路型非線
形光学素子の他、複屈折性、電気光学効果、熱効果を利
用した各素子についても適用することができる。
本発明によれば、光導波路における光に対して非線形光
学効果、電気光学効果等を発揮することができる。
学効果、電気光学効果等を発揮することができる。
以下に、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は
これに何ら限定されるものではない。
これに何ら限定されるものではない。
実施例1
4−ニトロフェニルメチルアミノアセトアルデヒドでア
セタール化されたポリビニルアルコール(p−NAn−
PVA)(一般式(I)における側鎖導入率x=0.8
8)をジメチルホルムアミドに溶解し、6.6%溶液と
した。この溶液をパイレックス基板上に雰囲気温度85
°C1回転数70゜rpmでスピンコードした後、11
0°C130分、そして160°C160分加熱し乾燥
させる。参照物に同一基板を用いたときの分光透過率を
第1図に示し、また、屈折率波長分散を第2図に示した
。
セタール化されたポリビニルアルコール(p−NAn−
PVA)(一般式(I)における側鎖導入率x=0.8
8)をジメチルホルムアミドに溶解し、6.6%溶液と
した。この溶液をパイレックス基板上に雰囲気温度85
°C1回転数70゜rpmでスピンコードした後、11
0°C130分、そして160°C160分加熱し乾燥
させる。参照物に同一基板を用いたときの分光透過率を
第1図に示し、また、屈折率波長分散を第2図に示した
。
この結果、この状態で光導波路として使用できることが
判った。波長0.789μmの半導体レーザ光をプリズ
ム結合法で導波させたところ伝搬損失は10db/an
以下であることが判った。
判った。波長0.789μmの半導体レーザ光をプリズ
ム結合法で導波させたところ伝搬損失は10db/an
以下であることが判った。
実施例2
SiNxの入出力結合用グレーディングを設けたS i
Ox / S i基板上に、実施例1と同様な手順で
P−NAn−PVA導波路を作製し、その上に周M20
μmのCr櫛型電極付きガラス基板をPMMAの光学ハ
ンファ層を介し接着し、140°Cに加熱した状態で5
i−Cr電極間に400■の電圧を15分間かけ配向処
理を行い電気光学素子を作製した。この電気光学素子に
波長0.825μmの半導体レーザ光をTMモードで導
波させ、5i−Cr電極間に電圧を印加したところ、周
期20μmでの回折光位置に印加電圧に対応する回折光
強度変化が観察され(第3図参照)、この光導波路での
電気光学効果が確認され、数日経過してもこの特性に変
化のないことが判った。
Ox / S i基板上に、実施例1と同様な手順で
P−NAn−PVA導波路を作製し、その上に周M20
μmのCr櫛型電極付きガラス基板をPMMAの光学ハ
ンファ層を介し接着し、140°Cに加熱した状態で5
i−Cr電極間に400■の電圧を15分間かけ配向処
理を行い電気光学素子を作製した。この電気光学素子に
波長0.825μmの半導体レーザ光をTMモードで導
波させ、5i−Cr電極間に電圧を印加したところ、周
期20μmでの回折光位置に印加電圧に対応する回折光
強度変化が観察され(第3図参照)、この光導波路での
電気光学効果が確認され、数日経過してもこの特性に変
化のないことが判った。
本発明の光導波路型非線形光学素子は、非線形光学効果
及び電場配向性に優れたものである。
及び電場配向性に優れたものである。
第1図は参照物に同一基板を用いたときの分光透過率を
示すグラフ、第2図は屈折率波長分散を示すグラフ、第
3図はTMモード導波光の回折効率と印加電圧の関係を
示すグラフである。
示すグラフ、第2図は屈折率波長分散を示すグラフ、第
3図はTMモード導波光の回折効率と印加電圧の関係を
示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で表される構造を構成成分として有
するアセタール化ポリビニルアルコールを含有して成る
高分子有機非線形光学材料を用いて光導波路を形成した
ことを特徴とする光導波路型非線形光学素子。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔但し、R_1は水素原子、炭素数1〜6の直鎖もしく
は分岐状アルキル基のいずれか一種、R_2は水素原子
、炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐状アルキル基、炭素
数1〜6の直鎖もしくは分岐状アルコキシ基、ヒドロキ
シ基、ニトロ基、ハロゲン原子のいずれか一種を表す〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21195690A JPH0497231A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 非線形光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21195690A JPH0497231A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 非線形光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0497231A true JPH0497231A (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=16614487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21195690A Pending JPH0497231A (ja) | 1990-08-10 | 1990-08-10 | 非線形光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0497231A (ja) |
-
1990
- 1990-08-10 JP JP21195690A patent/JPH0497231A/ja active Pending
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