JPH0510317Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、磁気デイスクや光デイスク等からな
るデイスクを超音波ないし高周波洗浄するための
デイスクの洗浄装置に関するものである。

［従来の技術］ 磁気デイスクや光デイスクは円盤状の基板の表
面に記録膜を形成してなるものであつて、この記
録膜を形成するに当つては、洗浄することによつ
て、その表面に付着している塵埃等の異物を完全
に除去する必要がある。特に、近年においては、
記録膜の薄膜化等の要請から、極めて微小な異物
をも排除しなければならず、このために超音波洗
浄や高周波洗浄が行われるようになつている。

而して、従来技術による超音波洗浄装置や高周
波洗浄装置は、純水、フレオン、フロン等の洗浄
液を入れた洗浄槽の下部に超音波発生装置や高周
波発生装置を装着し、槽内の下部から上方に向け
て超音波、高周波を発生させるようになし、この
洗浄槽内にデイスクを浸漬させて、その洗浄を行
うようにしている。しかも、デイスクの洗浄を効
率的に行うために、マガジンを用い、該マガジン
に多数のデイスクを装着させて、このマガジンを
洗浄槽内に浸漬させて洗浄を行うようにしてい
る。かかるマガジンとしては、前後の側板間に左
右と下部との３箇所にホルダバーを架設し、該各
ホルダバーにデイスクの外周縁部に係合するノツ
チを形成し、この３本のホルダバーによつてデイ
スクを立てた状態にして３点で支持することがで
きるようになつている。

［考案が解決しようとする問題点］ 前述した如く、３本のホルダバーによりデイス
クを支持させるようにしたマガジンを用いると、
多数のデイスクを安定的に支持させることができ
るようになり、効率的な洗浄が可能となる。しか
しながら、超音波発生装置や高周波発生装置は槽
の下部に設けられているので、デイスクの一部が
ホルダバーの陰となつて、この部分に超音波や高
周波の回り込まなくなるという不都合がある。こ
こで、左右に設けたホルダバーは、その位置関係
からデイスクにおける陰の部分は極めて少ないの
で、格別問題となることはないが、下部のホルダ
バー上に位置する比較的広範な部分は超音波や高
周波が及ばない陰の部分となり、当該部分におい
て洗浄むらを発生させるという欠点がある。

本考案は叙上の点に鑑みてなされたものであつ
て、マガジンにデイスクを装着して洗浄槽に浸漬
させてこのデイスクの洗浄を行わせるようにした
ものにおいて、デイスクの全面をむらなく洗浄す
ることができるようにしたデイスクの洗浄装置を
提供することをその目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 前述した目的を達成するめに、本考案は、デイ
スクを立てた状態に装着するマガジンにおける３
つの支持部材のうち、デイスクの下部を支持する
支持部材をデイスクの円周方向に揺動可能となす
と共に、この支持部材を揺動駆動手段によつて揺
動させる構成としたことをその特徴とするもので
ある。

［作用］ 前述の構成を採用することにより、マガジンに
デイスクを装着して、洗浄槽の中に浸漬させた状
態で、揺動駆動手段によつてデイスクの下部を支
持する支持部材を揺動させることにより、デイス
クの表面のうち、この支持部材により陰となる部
分の位置が変わるので、超音波や高周波が全く回
り込まない部分はなくなり、デイスクの全面を均
一に洗浄することができるようになる。

［実施例］ 以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。なお、本実施例においては、超音波洗
浄を行う洗浄装置として用いるようにしたものを
示すが、この超音波より高い周波数の波動を発生
させて高周波洗浄を行うための高周波洗浄装置と
しても用いることができることはいうまでもな
い。

まず、第１図において、１は洗浄槽を示し、該
洗浄槽１には、その下部に超音波振動子を備えた
超音波発生装置２が設けられており、また槽内に
は純水、フレオン、フロン、IPA等の洗浄液が貯
留されている。そして、この洗浄槽１に浸漬され
るデイスク３は、アルミニウム等の金属を円盤状
に形成してなる磁気デイスクやプラスチツク円盤
からなる光デイスクで、これらデイスク３はマガ
ジン４に立てた状態にして多数装着されるように
なつている。

マガジン４は、第２図に示したように、前後の
側板５，５を有し、これら側板５，５間にはデイ
スタンサロツド６，６が架設されると共に、この
側板５，５間には支持部材として３本のホルダバ
ー７ａ，７ｂ，７ｃが架設されている。これらの
ホルダバーのうち、ホルダバー７ａ，７ｂは左右
に位置し、ホルダバー７ｃは下部位置に設けられ
ている。また、各ホルダバー７ａ，７ｂ，７ｃに
は、その軸線方向に所定のピツチ間隔をもつて多
数のＶ溝またはＵ溝からなるノツチ８，８，…が
形設されている。これらのノツチ８は、第３図に
示したようにして、デイスク３の外周縁部と係合
させるためのものであつて、これによりデイスク
３はマガジン４に立てて、３点支持により安定し
た状態に位置決めして装着することができるよう
になつている。

而して、第４図に示したように、左右のホルダ
バー７ａ，７ｂは、デイスク３の中心Ｏを通る水
平線Ｈより僅かに下方位置において、このデイス
ク３の外周縁部と係合するようになつており、ま
た下部のホルダバー７ｃはデイスク３の下部位置
と係合するようになつている。そして、デイスク
３の荷重は左右のホルダバー７ａ，７ｂにより受
けるように構成され、これに対して下部のホルダ
バー７ｃはデイスク３をその板厚方向に向けて倒
れるのを防止する機能を有するものである。

そして、ホルダバー７ａ，７ｂは側板５に固定
的に設けられているが、ホルダバー７ｃは両側の
側板５にそれぞれ枢着した揺動レバー９に連結さ
れている。該揺動レバー９の側板５に対する枢着
部１０は、第４図から明らかなように、デイスク
３をマガジン４に装着したときにおいて、その中
心Ｏの位置に対応させて設けられており、これに
よつて、ホルダバー７ｃは、デイスク３の外周縁
に沿う方向に揺動可能となつている。そして、揺
動レバー９にはばね１１が作用しており、常時に
は揺動レバー９はこのばね１１により側板５に形
成したストツパ１２に当接するようになつてい
る。さらに、洗浄槽１には揺動駆動手段としての
駆動シリンダ１３が装着されており、該駆動シリ
ンダ１３のロツド１３ａを伸長させることによつ
て、揺動レバー９をばね１１に抗して回動変位さ
せることができるようになつている。

本実施例は前述のように構成されるもので、次
にその作用について説明する。

まず、マガジン４に多数のデイスク３を装着す
るが、このデイスク３は、その外周縁部をホルダ
バー７ａ，７ｂ，７ｃにおける各ノツチ８に係合
させるようにして行う。ここで、デイスク３は、
ホルダバー７ａ，７ｂにより左右の両側が支持さ
れて、該デイスク３の荷重はこれらホルダバー７
ａ，７ｂが受承するようになつており、ホルダバ
ー７ｃはデイスク３が板厚方向に向けて倒れるの
を防止するようになつているので、該デイスク３
はマガジン４に立てた状態で安定的に支持され
て、みだりに位置ずれ等を起すおそれはない。

前述のようにしてマガジン４にデイスク３が装
着されると、このマガジン４を洗浄槽１内に浸漬
し、超音波発生装置２を作動させて、超音波を発
生させる。この超音波による洗浄液の振動により
デイスク３の表面に付着する塵埃等の異物がデイ
スク３から離れて除去されることになる。ところ
で、この超音波は洗浄槽１の下部から上方に向け
て伝播していくもので、ホルダバー７ａ，７ｂ，
７ｃの上方位置には超音波が遮ぎられる部分があ
る。ここで、ホルダバー７ａ，７ｂはデイスク３
の左右に位置しているために、該デイスク３にお
いて、ホルダバー７ａ，７ｂの上方位置に超音波
が及ばない陰の部分は殆どできることはない。然
るに、ホルダバー７ｃはデイスク３の下部に位置
しているので、かなり広範な部分が超音波の陰と
なる。そこで、この超音波洗浄の継続中に、駆動
シリンダ１３を作動させて、揺動レバー９をばね
１１に抗する方向に変位させることによつて、前
述したように陰となつていた部分が超音波に曝さ
れることになり、当該部分の洗浄も行われること
になつて、デイスク３の全面を確実に洗浄するこ
とができるようになる。

ここで、駆動シリンダ１３の作動により揺動レ
バー９を揺動させたときに、該揺動レバー９に連
結したホルダバー７ｃと共にデイスク３が回転せ
しめられると、該ホルダバー７ｃの陰部分を超音
波に曝すことができなくなる。しかしながら、デ
イスク３の荷重を左右のホルダバー７ａ，７ｂに
受承させるようにしているので、ホルダバー７ｃ
が移動しても、デイスク３が回つてしまうような
ことはない。また、下部のホルダバー７ｃはデイ
スク３の倒れを防止するためのものであるから、
該ホルダバー７ｃがデイスク３の中心Ｏを通る垂
線Ｖから多少左右にずれても、デイスク３の安定
性を損なうおそれはない。而して、揺動レバー９
によるホルダバー７ｃの移動ストロークのストロ
ークエンドを前述した垂線Ｖから左右に等距離の
位置となし、また該ホルダバー７ｃの陰の部分に
超音波を及ぼすことができるようにするために、
必要最小限の距離だけ移動させるようにすれば、
洗浄中におけるデイスク３の安定性を十分に確保
することができることになる。

なお、前述した実施例においては、マガジン４
を洗浄槽１に対して着脱可能としたが、このマガ
ジンを洗浄槽１内に固定的に据え付けるようにな
し、デイスク３は適宜のハンドリング手段により
該マガジンに装着するようにしてもよい。そし
て、このように構成すれば、例えば、デイスクが
連続的に流れるラインに組み込んで、このライン
を流れるデイスクを順次マガジンに装着させると
共に、所定時間にわたつて槽内に浸漬することに
より洗浄が行われたデイスクを順次取り出して、
次工程に送ることができるようになる。また、揺
動レバー９を駆動する揺動駆動手段としては、前
述した駆動シリンダ１３以外にも、カム機構等他
の手段を用いることもできる。そして、カム機構
等を用いる場合には、その揺動レバーの往復動作
を該揺動駆動手段により行わせるようにすれば、
該揺動レバーにばねを作用させる必要はない。

［考案の効果］ 以上説明したように、本考案によれば、マガジ
ン内に立設したデイスクの下部を支持する支持部
材を該デイスクの円周方向に揺動させることがで
きるように構成したので、該支持部材によりデイ
スクの表面に超音波や高周波が伝播しない陰の部
分がなくなるので、デイスクの全面を完全に洗浄
することができるようになる。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示すもので、第１図
は洗浄槽の構成説明図、第２図はマガジンの外観
図、第３図はホルダバーの構成説明図、第４図は
ホルダバーによるデイスクの支持部分を示す説明
図である。 １……洗浄槽、２……超音波発生装置、３……
デイスク、４……マガジン、７ａ，７ｂ，７ｃ…
…ホルダバー、８……ノツチ、９……揺動レバ
ー、１０……枢着部、１３……駆動シリンダ。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 超音波または高周波の発生装置を下部に備えた
   洗浄槽と、複数のデイスクを立てた状態にして、
   その外周縁部における左右と下部との３点で支持
   する支持部材を備えたマガジンとからなり、該マ
   ガジンを前記洗浄槽内に浸漬させることによつ
   て、それに支持させたデイスクを超音波洗浄ない
   し高周波洗浄を行わせるようにしたものにおい
   て、前記マガジンにおける３つの支持部材のう
   ち、デイスクの下部を支持する支持部材をデイス
   クの円周方向に揺動可能となすと共に、この支持
   部材を揺動駆動手段によつて揺動させる構成とし
   たことを特徴とするデイスクの洗浄装置。