JPH0510476A - 管路の敷設方法 - Google Patents

管路の敷設方法

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Publication number
JPH0510476A
JPH0510476A JP16194191A JP16194191A JPH0510476A JP H0510476 A JPH0510476 A JP H0510476A JP 16194191 A JP16194191 A JP 16194191A JP 16194191 A JP16194191 A JP 16194191A JP H0510476 A JPH0510476 A JP H0510476A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pipe
new
new pipe
grout
level
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16194191A
Other languages
English (en)
Inventor
Shizuo Inoue
静夫 井上
Yoshiki Sakurai
祥己 桜井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kubota Corp
Original Assignee
Kubota Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0510476A publication Critical patent/JPH0510476A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 不等沈下などにより不均一な勾配となった既
設管に、パイプインパイプ工法で新管を挿入した場合で
も、この新管を均一な勾配で配管可能とする。 【構成】 新管1の管壁に貫通して設けたグラウト注入
口5に、レベル調整ボルト6をねじ込む。このレベル調
整ボルト6の先端を既設管11の内面に接触させるとと
もに、そのねじ出し量を調整して、新管1をレベル調整
する。その後グラウト注入口5から既設管11と新管1
との隙間にグラウトを注入して、新管1を固定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、既設管の内部に新管を
挿入して配管するパイプインパイプ工法を利用した管路
の敷設方法に関する。
【0002】
【従来の技術】長年月にわたり地中に埋設された自然流
下系の下水管を更新する方法として、パイプインパイプ
工法がある。これは、図4に示すように、既設管路10
に沿い適当距離をおいて発進坑12と到達坑13とを形
成し、発進坑12から既設管11の内部に新管21を順
次挿入し、接続して、配管を行うものである。
【0003】この図4において、14は挿入すべき新管
21を既設管11に向けて案内するレールであり、この
レール14の上に新管21が載置される。そして、この
新管21の後端に当て板15を配置し、油圧ジャッキ1
6にてスペーサー17と当て板15とを介して新管21
を押圧することによって、この新管21が既設管11の
内部に挿入されることになる。また、新管21の先頭に
は挿入抵抗を小さくするための先導そり18が装着され
ている。この工法によると、既設管11を利用するため
新館21を埋設するための溝を掘削する必要がなく、こ
の新管21を簡便に配管することができる利点がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このパイプ
インパイプ工法を上記のように自然流下系の下水管に適
用した場合において、既設管11が不等沈下などにより
不均一な勾配となっていると、新管21の管底レベルも
既設管11のそれとほぼ同等に不均一な勾配となってし
まう。このため、新管21に敷設替えしても汚水を円滑
に流下させることができないという問題点を生じること
になる。
【0005】そこで本発明はこのような問題点を解決
し、不等沈下などによりな勾配が不均一となった既設管
に新管を挿入した場合でも、新管に均一な勾配を持たせ
ることができるようにすることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、新管の管壁を貫通して形成するグラウト注入
口を雌ねじ孔にて構成するとともに、このグラウト注入
口にレベル調整ボルトをねじ込み、このレベル調整ボル
トの先端を既設管の内面に接触させるとともにそのねじ
出し量を調整して新管のレベルを調整し、その後前記注
入口から既設管と新管との間にグラウトを注入して新管
を固定するものである。
【0007】
【作用】このようにすると、グラウト注入口を利用して
レベル調整ボルトをねじ込み、このレベル調整ボルトに
て新管のレベルを調整することにより、既設管が不均一
な勾配になっていても、新管は均一な勾配を持って配管
されることになる。
【0008】
【実施例】既設管に挿入すべき新管の構成を、図3を用
いて説明する。1はこの新管を示し、その一端には受口
2が形成されている。この受口2には、この新管1に接
続される他の新管1の他端の挿口3が挿入され、受口2
の内周に配置されたシール材4が挿口3の外周により圧
縮されて管内外がシールされる。新管1の受口2におけ
る首部の近傍には、雌ねじ孔にて構成されるグラウト注
入口5が、管壁を貫通して形成されている。
【0009】この新管1を敷設する際には、まず、図4
に示した場合と同様にして、これを既設管11に挿入す
る。次に、図1に示すように、配管した新管1のグラウ
ト注入口5にレベル調整ボルト6をねじ込み、この新管
1のレベルを測定しながら、レベル調整ボルト6の先端
を既設管の内面に接触させてそのねじ出し量を調整する
ことにより、既設管11の底面のレベルの不均一による
偏差dを調整し、この新管1の底面のレベルを均一にす
る。
【0010】新管1のレベル調整が終了した後に、その
レベルを維持しながら注入口5にニップルなどをねじ込
んで、図2に示すようにグラウト注入口5から既設管1
1と新管1との隙間にグラウト7を注入し、新管1を固
定する。
【0011】このように、レベル調整ボルト6にて新管
1のレベルを調整することにより、既設管11が不均一
な勾配になっていても新管に均一な勾配を持たせて配管
することができ、その状態でグラウト7を注入して固定
することにより、均一な勾配の配管をパイプインパイプ
工法によって得ることができる。
【0012】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、既設
管の勾配が不均一になっていても新管には均一な勾配を
持たせて配管することができ、かつレベル調整ボルトを
操作すればよいので作業が簡単でかつ確実にレベル調整
を行え、またグラウト注入口を利用して調整ボルトをね
じ込むものであるため、新管として推進管用のものをそ
のまま流用することができ、特殊な工夫や加工が必要で
なく、その結果安価に施工することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例にもとづく新管のレベル調整
状態を示す断面図である。
【図2】図1のように新管をレベル調整した後にグラウ
トを注入した状態の断面図である。
【図3】図1の工法において使用される新管の断面図で
ある。
【図4】従来のパイプインパイプ工法の施工例を示す断
面図である。
【符号の説明】
1 新管 5 グラウト注入口 6 レベル調整ボルト 7 グラウト

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 既設管の内部に新管を挿入して配管する
    パイプインパイプ工法において、新管の管壁を貫通して
    形成するグラウト注入口を雌ねじ孔にて構成するととも
    に、このグラウト注入口にレベル調整ボルトをねじ込
    み、このレベル調整ボルトの先端を既設管の内面に接触
    させるとともにそのねじ出し量を調整して新管のレベル
    を調整し、その後前記注入口から既設管と新管との間に
    グラウトを注入して新管を固定することを特徴とする管
    路の敷設方法。
JP16194191A 1991-07-03 1991-07-03 管路の敷設方法 Pending JPH0510476A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63125879A (ja) * 1986-11-17 1988-05-30 新日本製鐵株式会社 配管内鋼管布設工法
JPS6415758A (en) * 1987-07-09 1989-01-19 Mita Industrial Co Ltd Image forming device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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