JPH051075Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は半導体の製造に使用される液処理装置
の改良に関する。

〔従来の技術〕

従来より半導体製造においてウエハをエツチン
グしたり、洗浄や現像といつた液処理を施すに
は、例えば、第５図に示すような液処理装置１０
０が使用されている。該液処理装置１００では、
ウエハ１１が搭載されたキヤリア１０を、揺動体
１３の先端に設けてあるステージ１０２のキヤリ
ヤ支持部１０２ｂに支持させて液槽１４内に潜入
させ、上記揺動体１３の他端を例えば偏心カム１
３ａ等の回動をシヤフト１３ｂによつて上下運動
に変換させることで、液槽１４内においてステー
ジ１０２を上下動させながらウエハ１１に液処理
が施されている。また、上記キヤリヤ支持部１０
２ｂには適所にスリツト１０２ｃが設けられてお
り、処理液１４ｂがキヤリヤ１０内を十分に流動
できるようになつている。このような液処理装置
１００では、処理液１４ｂを循環させて使用する
ため、液槽１４から溢れ出た処理液１４ｂは液受
１４ａで受け止められ、ポンプ１５ａやフイルタ
１５ｂ等を介して再び液槽１４に戻されている。

〔考案が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上述したような液処理装置１０
０に使用されるウエハ１１を搭載したキヤリヤ１
０では、第６図にその一部を示しているように、
ステージ１０２の上下動によりウエハ１１に液処
理を施す場合に、該ウエハ１１がウエハ１１ａの
ようにウエハ溝１０ａの中央に位置されていれば
液処理には何ら問題は発生しない。しかし、ウエ
ハ１１ｂ，１１ｃのようにウエハ溝１０ａ側壁１
０ｂに接触していると、ステージ１０２の下方向
の動作によつて処理液１４ｂが実線で示す方向に
流動した時や、逆にステージ１０２の上方向の動
作によつて破線で示す方向に処理液が流動して
も、上記ウエハ１１ｂ，１１ｃが側壁１０ｂより
離れないで接触していることがある。これでは、
その接触部分の液処理が行われなかつたり、不十
分となり問題となつてくる。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は、上記問題点を解決するためになされ
たもので、ウエハを搭載したキヤリアをステージ
に支持させて、該ステージを液漕内で上下動させ
てウエハに液処理を施す液処理装置において、ス
テージはウエハ面を傾斜させる方向にキヤリアを
傾斜姿勢で支持するものであつて、その上下動に
おける下降時の速度はウエハに上方に向かう力を
付与して該ウエハの下面をキヤリアの溝内と非接
触とするにたる速度であることを特徴としてい
る。すなわち、ウエハを搭載したキヤリアを液漕
内で上下動させてステージに支持させてウエハに
液処理を施すものであつて、上記ステージはウエ
ハ面を傾斜させる方向にキヤリアを傾斜姿勢で支
持すると共に揺動体によつて上下動され、この上
下動における下降時の速度を液の流れでウエハを
押し上げて、ウエハ下面とキヤリアを非接触する
ように設定したことを特徴とする液処理装置であ
る。

〔考案の作用〕

かかる構成とすれば、ウエハを搭載してあるキ
ヤリヤが傾斜姿勢でステージ上に支持されている
ので、液槽内で該ステージを下方向に動かせる
と、処理液は傾斜姿勢のウエハ面に斜め上方に押
上げるような力を加えながら流動するため、下面
側はキヤリアの溝内と非接触となつてその面は十
分な液処理が施される。また、逆に上記ステージ
を上方向に動かせると、処理液は傾斜姿勢のウエ
ハの反対面に斜め下方に押下げるような力を加え
ながら流動するため、その力及び自重によりウエ
ハは下に押下げられその上面はキヤリアの溝内と
非接触となつてその面は十分な液処理が施される
ことになる。このように、絶えず処理液がウエハ
の両面に接しながら流動されるので、ウエハ面で
液処理の不十分な部分がなくなり、液処理も迅速
に行われるようになる。

〔実施例〕

以下、図面を参照して本考案の実施例を説明す
る。

第１図は本考案の液処理装置に使用されるステ
ージ１２の一実施例の斜視図である。図に示すよ
うにステージ１２は、ウエハ１１を搭載したキヤ
リヤ１０の支持部１２ｂと、キヤリヤ止め１２ａ
および側壁１２ｃから構成されている。上記支持
部１２ｂはキヤリヤ１０が傾斜姿勢で支持される
ように、次第にその厚さが薄くなつて傾斜が付け
られており、最薄部に上記キヤリヤ止め１２ａが
設けられている。さらに、上記支持部１２ｂに
は、処理液がキヤリヤ１０内に十分に流動するよ
うに複数箇所にスリツト１２ｄ…が設けられてい
る。このスリツト１２ｄはキヤリヤ１０の下部開
口と同一形状寸法に形成されてもよい。このよう
なステージ１２に支持されたキヤリヤ１０は、第
２図に示すように液槽１４に浸されて、揺動体１
３の上下動によつて搭載したウエハ１１に液処理
が施される。図において、第１図に示したステー
ジ１２の構造を除いて、第５図と同様な構成であ
るので同一部分に同一符号を付してその説明は省
略する。

さらに、第３図に他のステージの実施例を示す
と、このステージ１２′は水平な支持部１２b′の
複数箇所にスリツト１２d′…が設けられている。
さらに、キヤリヤ１０が傾斜姿勢で液槽１４に潜
入できるように、キヤリヤ止め１２ａと反対方向
の支持部１２′上に台１２ｅが設けられている。
これにより、キヤリヤ１０は液槽１４内で傾斜姿
勢を維持することができる。その他の構成は前記
実施例と同様であるため説明は省略する。

さて、次に上述したような構造のステージ１
２，１２′に傾斜姿勢で支持されたキヤリヤ１０
に搭載されたウエハ１１に液処理が施されている
状態を第４図を用いて説明する。同図ａは液槽１
４内でキヤリヤ１０を下方に動作させている状態
を示している。この時処理液は矢印で示すように
傾斜姿勢のウエハ面１１ａを斜め上方に押上げる
ような力を加えながら流動するため、搭載された
ウエハ１１の全ウエハ面１１ａ…に十分な液処理
を施すことができる。また、逆に同図ｂに示すよ
うに、キヤリヤ１０を上方向に動かせると、処理
液は矢印で示すように傾斜姿勢のウエハ面１１ｂ
を斜め下方に押下げるような力を加えながら流動
するため、全ウエハ面１１ｂ…に十分な液処理が
施されることになる。このような動作が繰り返さ
れ絶えず処理液がウエハの両面に触れながら流動
されるので、ウエハ１１の全面に万遍なく迅速に
液処理が施されることなる。

〔考案の効果〕

以上の説明から明らかなように、本考案の液処
理装置では、キヤリヤに搭載されたウエハの全面
に十分な液処理を行うことができ、また処理液が
絶えずウエハ全面に接するので迅速に液処理が行
える。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の液処理装置に使用されるステ
ージの一実施例の斜視図、第２図は上記ステージ
を用いた本考案の液処理装置の要部の一部断面
図、第３図は他の実施例におけるステージを用い
た本考案の液処理装置の要部の一部断面図、第４
図ａ，ｂはそれぞれ処理液の流動によるウエハの
状態を示した図、第５図は従来の液処理装置の要
部の一部断面図、第６図は従来の処理液の流動に
よるウエハの状態を示した図である。 １……液処理装置、１０……キヤリヤ、１１…
…ウエハ、１２，１２′……ステージ、１４……
液槽。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. ウエハを搭載したキヤリアを液漕内で上下動さ
   せるステージに支持させてウエハに液処理を施す
   ものであつて、上記ステージはウエハ面を傾斜さ
   せる方向にキヤリアを傾斜姿勢で支持すると共に
   揺動体によつて上下動され、この上下動における
   下降時の速度を液の流れでウエハを押し上げて、
   ウエハ下面とキヤリアを非接触するように設定し
   たことを特徴とする液処理装置。