JPH05109517A - 金属磁性粉末の製造方法および磁気記録媒体用塗膜 - Google Patents
金属磁性粉末の製造方法および磁気記録媒体用塗膜Info
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- JPH05109517A JPH05109517A JP3298261A JP29826191A JPH05109517A JP H05109517 A JPH05109517 A JP H05109517A JP 3298261 A JP3298261 A JP 3298261A JP 29826191 A JP29826191 A JP 29826191A JP H05109517 A JPH05109517 A JP H05109517A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に少なくと
もニッケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有す
る混合物層を被覆した後、該針状晶粒子を実質的に脱水
孔の存在しないフェライトと化し、次いで該フェライト
を加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方
法、および該金属磁性粉末を含有する磁気記録媒体用塗
膜。 【効果】本発明の製造方法によれば、より高い保磁力、
保磁力分布の狭い金属磁性粉末が得られる。また、この
ような金属磁性粉末を用いることにより、耐酸化性が一
段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れた磁気記録媒体用塗
膜を製造することができる。
もニッケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有す
る混合物層を被覆した後、該針状晶粒子を実質的に脱水
孔の存在しないフェライトと化し、次いで該フェライト
を加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方
法、および該金属磁性粉末を含有する磁気記録媒体用塗
膜。 【効果】本発明の製造方法によれば、より高い保磁力、
保磁力分布の狭い金属磁性粉末が得られる。また、この
ような金属磁性粉末を用いることにより、耐酸化性が一
段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れた磁気記録媒体用塗
膜を製造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録に用いられる金
属磁性粉末の製造方法および該方法により得られる金属
磁性粉末を含有する磁気記録媒体用塗膜に関する。更に
詳しくは、製造工程中に少なくともニッケル化合物を含
む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆した
後に、実質的に脱水孔の存在しないフェライトを形成さ
せることにより、比表面積が大きく高保磁力、高分散性
であり、更に耐食性の優れた金属磁性粉末を製造する方
法に関するものであり、またそのような金属磁性粉末を
用いた耐食性に優れ、かつ磁気特性に優れた磁気記録媒
体用塗膜に関する。
属磁性粉末の製造方法および該方法により得られる金属
磁性粉末を含有する磁気記録媒体用塗膜に関する。更に
詳しくは、製造工程中に少なくともニッケル化合物を含
む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆した
後に、実質的に脱水孔の存在しないフェライトを形成さ
せることにより、比表面積が大きく高保磁力、高分散性
であり、更に耐食性の優れた金属磁性粉末を製造する方
法に関するものであり、またそのような金属磁性粉末を
用いた耐食性に優れ、かつ磁気特性に優れた磁気記録媒
体用塗膜に関する。
【0002】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】近年、各
種の記録方式の発展は著しいものがあるが、中でも磁気
記録再生装置の小型軽量化の進歩は顕著である。これに
つれて磁気テープ・磁気ディスク等の磁気記録媒体に対
する高性能化の要求が大きくなってきている。
種の記録方式の発展は著しいものがあるが、中でも磁気
記録再生装置の小型軽量化の進歩は顕著である。これに
つれて磁気テープ・磁気ディスク等の磁気記録媒体に対
する高性能化の要求が大きくなってきている。
【0003】磁気記録に対するこのような要求を満足す
るためには高い保磁力と高い飽和磁化を有する磁性粉末
が必要である。従来、磁気記録用の磁性粉末として一般
には針状のマグネタイトやマグヘマイト又はこれらの磁
性酸化鉄粉末をコバルトで変性したいわゆるコバルト含
有酸化鉄が用いられているが、より高出力の媒体を得る
ためにはより高い保磁力・飽和磁化を持つ強磁性の金属
磁性粉末が用いられ始めている。
るためには高い保磁力と高い飽和磁化を有する磁性粉末
が必要である。従来、磁気記録用の磁性粉末として一般
には針状のマグネタイトやマグヘマイト又はこれらの磁
性酸化鉄粉末をコバルトで変性したいわゆるコバルト含
有酸化鉄が用いられているが、より高出力の媒体を得る
ためにはより高い保磁力・飽和磁化を持つ強磁性の金属
磁性粉末が用いられ始めている。
【0004】このような金属磁性粉末の製造方法として
は種々の方法が提案されているが、経済的な優位性から
一般的には、針状のゲーサイトまたはこれを加熱脱水し
て得られる酸化鉄粒子を水素等の還元性ガス雰囲気中で
加熱して金属鉄にまで還元する方法が用いられている。
しかし、この方法では還元を高温で行うため、粒子の融
着、形状の崩壊等を生じ易く充分に満足できる性能が得
られないため種々の提案がなされている。
は種々の方法が提案されているが、経済的な優位性から
一般的には、針状のゲーサイトまたはこれを加熱脱水し
て得られる酸化鉄粒子を水素等の還元性ガス雰囲気中で
加熱して金属鉄にまで還元する方法が用いられている。
しかし、この方法では還元を高温で行うため、粒子の融
着、形状の崩壊等を生じ易く充分に満足できる性能が得
られないため種々の提案がなされている。
【0005】その一例は、ゲーサイトにケイ素化合物を
付着処理して空気中で加熱処理した後、水素気流中で還
元を行う方法(特開昭63−61413号公報)が報告
されている。しかし、この提案では空気中で加熱脱水を
行うため、脱水時に脱水孔が生じやすく、脱水孔の存在
したままで還元メタル化を行うことになる。そのためメ
タル化時に粒子の切断が生じ、得られる金属磁性粉末の
磁気特性が低下するという問題が指摘されている。
付着処理して空気中で加熱処理した後、水素気流中で還
元を行う方法(特開昭63−61413号公報)が報告
されている。しかし、この提案では空気中で加熱脱水を
行うため、脱水時に脱水孔が生じやすく、脱水孔の存在
したままで還元メタル化を行うことになる。そのためメ
タル化時に粒子の切断が生じ、得られる金属磁性粉末の
磁気特性が低下するという問題が指摘されている。
【0006】また、微粒子の金属磁性粉末においてはも
う一つの問題が存在する。すなわち、金属磁性粉末は化
学的に不安定であり時間の経過と共に飽和磁化が減少す
るという欠点があるが、粒子が小さくなるほどこの欠点
が目立ってくる。この欠点の解決のために種々提案がな
されており、本発明者らも表面遷移金属層の形成により
耐酸化性が向上することを見いだし特許出願済みである
(特開昭63−62205号公報、特開平1−1640
06号公報)が、これらの解決法は比較的粒子径の大き
い場合には顕著な効果を示すが、微粒子ではこれらの処
理の無いものに比べると優れた耐酸化性を示すものの十
分満足できる効果を得るには至っていない。また、耐腐
食性についても十分なものとはいえない。
う一つの問題が存在する。すなわち、金属磁性粉末は化
学的に不安定であり時間の経過と共に飽和磁化が減少す
るという欠点があるが、粒子が小さくなるほどこの欠点
が目立ってくる。この欠点の解決のために種々提案がな
されており、本発明者らも表面遷移金属層の形成により
耐酸化性が向上することを見いだし特許出願済みである
(特開昭63−62205号公報、特開平1−1640
06号公報)が、これらの解決法は比較的粒子径の大き
い場合には顕著な効果を示すが、微粒子ではこれらの処
理の無いものに比べると優れた耐酸化性を示すものの十
分満足できる効果を得るには至っていない。また、耐腐
食性についても十分なものとはいえない。
【0007】このように高い保磁力、飽和磁化を有する
金属磁性粉末の開発が当業界では望まれているが、特に
微粒子の金属磁性粉末については未だ十分な性能を有す
るものは得られていないのが実情である。本発明の目的
はこのような微粒子の金属磁性粉末の製造段階における
粒子の切断および粒子同士の焼結を防止し、優れた磁気
特性を示すと共に、耐酸化性に優れ、かつ、腐食性ガス
雰囲気下、特に塩素ガス気流中における耐腐食性にも優
れた金属磁性粉末の製造方法及びこの方法により得られ
る金属磁性粉末を用いた磁気記録媒体用塗膜を提供する
ことにある。
金属磁性粉末の開発が当業界では望まれているが、特に
微粒子の金属磁性粉末については未だ十分な性能を有す
るものは得られていないのが実情である。本発明の目的
はこのような微粒子の金属磁性粉末の製造段階における
粒子の切断および粒子同士の焼結を防止し、優れた磁気
特性を示すと共に、耐酸化性に優れ、かつ、腐食性ガス
雰囲気下、特に塩素ガス気流中における耐腐食性にも優
れた金属磁性粉末の製造方法及びこの方法により得られ
る金属磁性粉末を用いた磁気記録媒体用塗膜を提供する
ことにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために針状晶の含水酸化鉄粒子から、金属
磁性粉末を得る過程について検討を行った。その結果、
針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に少なくともニッケ
ル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物
層を被覆した後に、該含水酸化鉄粒子を不活性ガス気流
中で高温加熱することにより実質的に脱水孔の存在しな
いフェライトを形成させ、次いで該フェライトを加熱還
元することにより、還元時の焼結および切断の防止、形
状維持が容易となり、高い保磁力、保磁力分布の狭い金
属磁性粉末が得られること、および、得られた金属磁性
粉末の耐酸化性が一段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れ
ることを見出し、本発明の完成に至った。
題を解決するために針状晶の含水酸化鉄粒子から、金属
磁性粉末を得る過程について検討を行った。その結果、
針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に少なくともニッケ
ル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物
層を被覆した後に、該含水酸化鉄粒子を不活性ガス気流
中で高温加熱することにより実質的に脱水孔の存在しな
いフェライトを形成させ、次いで該フェライトを加熱還
元することにより、還元時の焼結および切断の防止、形
状維持が容易となり、高い保磁力、保磁力分布の狭い金
属磁性粉末が得られること、および、得られた金属磁性
粉末の耐酸化性が一段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れ
ることを見出し、本発明の完成に至った。
【0009】即ち、本発明の要旨は、(1)針状晶の含
水酸化鉄粒子の粒子表面に少なくともニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆し
た後、該針状晶粒子を実質的に脱水孔の存在しないフェ
ライトと化し、次いで該フェライトを加熱還元すること
を特徴とする金属磁性粉末の製造方法、(2)前記
(1)により得られる金属磁性粉末を含有することを特
徴とする磁気記録媒体用塗膜に関する。
水酸化鉄粒子の粒子表面に少なくともニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆し
た後、該針状晶粒子を実質的に脱水孔の存在しないフェ
ライトと化し、次いで該フェライトを加熱還元すること
を特徴とする金属磁性粉末の製造方法、(2)前記
(1)により得られる金属磁性粉末を含有することを特
徴とする磁気記録媒体用塗膜に関する。
【0010】本発明に用いられる針状含水酸化鉄の軸
比、大きさは一般的に金属磁性粉末の原料として通常用
いられるもので有れば良く、特に制限はない。しかし、
前記のように一般に粒子径が小さくなる程化学的に不安
定になるが、本発明の製造方法によるとそのような微粒
子であっても優れた性能を有するので、粒子径の小さい
ものについて本発明の方法によらないものと比較して本
発明の効果が特に顕著にみられる。
比、大きさは一般的に金属磁性粉末の原料として通常用
いられるもので有れば良く、特に制限はない。しかし、
前記のように一般に粒子径が小さくなる程化学的に不安
定になるが、本発明の製造方法によるとそのような微粒
子であっても優れた性能を有するので、粒子径の小さい
ものについて本発明の方法によらないものと比較して本
発明の効果が特に顕著にみられる。
【0011】本発明の方法においては、針状晶の含水酸
化鉄粒子の粒子表面に通常少なくともニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆し
た後になされる。2価の遷移金属化合物としては、ニッ
ケルの他にCo,Fe,Zn,Cu,Crなどが挙げら
れ、特に制限されるものではない。
化鉄粒子の粒子表面に通常少なくともニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層を被覆し
た後になされる。2価の遷移金属化合物としては、ニッ
ケルの他にCo,Fe,Zn,Cu,Crなどが挙げら
れ、特に制限されるものではない。
【0012】ニッケル化合物を含む2価の遷移金属化合
物とともに混合物層を構成する他の化合物としては、通
常ケイ素、アルミニウム、スズ、チタンなどの公知の化
合物が用いられ、例えばニッケル化合物とケイ素化合物
の混合物からなる層、ニッケル化合物とアルミニウム化
合物の混合物からなる層、あるいはニッケル化合物、ケ
イ素化合物およびアルミニウム化合物の3種の化合物の
混合物からなる層などが挙げられる。ニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層の量は、
2価の遷移金属化合物がゲーサイト中の鉄原子に対する
重量比として、通常3〜25%、好ましくは7〜20%
を含有している。これは、2価の遷移金属の量が多すぎ
ても少なすぎても所望の特性が得られなくなるためであ
る。
物とともに混合物層を構成する他の化合物としては、通
常ケイ素、アルミニウム、スズ、チタンなどの公知の化
合物が用いられ、例えばニッケル化合物とケイ素化合物
の混合物からなる層、ニッケル化合物とアルミニウム化
合物の混合物からなる層、あるいはニッケル化合物、ケ
イ素化合物およびアルミニウム化合物の3種の化合物の
混合物からなる層などが挙げられる。ニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物を含有する混合物層の量は、
2価の遷移金属化合物がゲーサイト中の鉄原子に対する
重量比として、通常3〜25%、好ましくは7〜20%
を含有している。これは、2価の遷移金属の量が多すぎ
ても少なすぎても所望の特性が得られなくなるためであ
る。
【0013】また、混合物層を構成する他の化合物であ
るケイ素化合物、アルミニウム化合物などのケイ素およ
びアルミニウム原子は、同様にゲーサイト中の鉄原子に
対する重量比として、通常0.2〜2%、好ましくは
0.5〜1%を含有している。また、2価の遷移金属化
合物と混合物層を構成する他の化合物との原子重量比
は、通常10:1〜20:0.5である。
るケイ素化合物、アルミニウム化合物などのケイ素およ
びアルミニウム原子は、同様にゲーサイト中の鉄原子に
対する重量比として、通常0.2〜2%、好ましくは
0.5〜1%を含有している。また、2価の遷移金属化
合物と混合物層を構成する他の化合物との原子重量比
は、通常10:1〜20:0.5である。
【0014】このようなニッケル化合物を含む2価の遷
移金属化合物を含有する混合物層の針状含水酸化鉄粒子
表面への形成は、溶液状態からの不溶物の析出、コロイ
ド状化合物等の沈着等に用いられる公知の方法により行
なわれる。その具体例としては、例えばニッケル化合物
とケイ素化合物の混合物からなる層を形成させるには、
3号ケイソーを添加後、硫酸ニッケル水溶液にて系のp
Hを7付近とし、ニッケル化合物とアルミニウム化合物
の混合物からなる層を形成させるには、硫酸アルミニウ
ム水溶液と硫酸ニッケル水溶液を同時添加した後、アル
カリ水溶液にて系のpHを7付近とし、またニッケル化
合物、ケイ素化合物およびアルミニウム化合物の3種の
化合物の混合物からなる層を形成させるには、3号ケイ
ソーを添加後、硫酸ニッケルおよび硫酸アルミニウム水
溶液にて系のpHを7とし、その後アルカリ水溶液にて
系のpHを10とするなど、通常、ゲーサイトのスラリ
ーに硫酸塩等の酸性水溶性化合物水溶液を加え、次いで
アルカリ性水溶液により系のpHを調節することにより
不溶性酸化物ないし水和酸化物を析出させる方法が挙げ
られる。
移金属化合物を含有する混合物層の針状含水酸化鉄粒子
表面への形成は、溶液状態からの不溶物の析出、コロイ
ド状化合物等の沈着等に用いられる公知の方法により行
なわれる。その具体例としては、例えばニッケル化合物
とケイ素化合物の混合物からなる層を形成させるには、
3号ケイソーを添加後、硫酸ニッケル水溶液にて系のp
Hを7付近とし、ニッケル化合物とアルミニウム化合物
の混合物からなる層を形成させるには、硫酸アルミニウ
ム水溶液と硫酸ニッケル水溶液を同時添加した後、アル
カリ水溶液にて系のpHを7付近とし、またニッケル化
合物、ケイ素化合物およびアルミニウム化合物の3種の
化合物の混合物からなる層を形成させるには、3号ケイ
ソーを添加後、硫酸ニッケルおよび硫酸アルミニウム水
溶液にて系のpHを7とし、その後アルカリ水溶液にて
系のpHを10とするなど、通常、ゲーサイトのスラリ
ーに硫酸塩等の酸性水溶性化合物水溶液を加え、次いで
アルカリ性水溶液により系のpHを調節することにより
不溶性酸化物ないし水和酸化物を析出させる方法が挙げ
られる。
【0015】本発明で言うフェライトとは酸化鉄を主と
した酸化物であり、面間隔2.97±0.05、2.5
3±0.05、2.10±0.05オングストロームに
相当する位置にX線回析の主要ピークを有する状態をさ
している。一般に、ゲーサイトを空気中で加熱脱水する
と脱水孔が生じやすくなるが、この脱水孔は電子顕微鏡
により観察することができる。脱水孔の有無を簡単に判
断する方法としては、流動式比表面積自動測定装置(フ
ローソーブ2300形、島津製作所製)により測定され
た粒子の比表面積値と脱水孔の有無とは相関がみられる
ので、脱水孔の有無を比表面積値から得られる減少率を
用いて判断することができる。即ち、本発明で言う実質
的に脱水孔の存在しないフェライトとは、高温加熱処理
する前後での粒子の比表面積の減少率が10%以上のフ
ェライトであり、10%未満のものは脱水孔がみられる
ものである。ここで減少率は次式により求められる。 減少率=(熱処理前の比表面積−熱処理後の比表面積)
/熱処理前の比表面積
した酸化物であり、面間隔2.97±0.05、2.5
3±0.05、2.10±0.05オングストロームに
相当する位置にX線回析の主要ピークを有する状態をさ
している。一般に、ゲーサイトを空気中で加熱脱水する
と脱水孔が生じやすくなるが、この脱水孔は電子顕微鏡
により観察することができる。脱水孔の有無を簡単に判
断する方法としては、流動式比表面積自動測定装置(フ
ローソーブ2300形、島津製作所製)により測定され
た粒子の比表面積値と脱水孔の有無とは相関がみられる
ので、脱水孔の有無を比表面積値から得られる減少率を
用いて判断することができる。即ち、本発明で言う実質
的に脱水孔の存在しないフェライトとは、高温加熱処理
する前後での粒子の比表面積の減少率が10%以上のフ
ェライトであり、10%未満のものは脱水孔がみられる
ものである。ここで減少率は次式により求められる。 減少率=(熱処理前の比表面積−熱処理後の比表面積)
/熱処理前の比表面積
【0016】本発明の方法において、このような実質的
に脱水孔の存在しないフェライトを形成させるには、針
状晶の含水酸化鉄粒子を不活性ガス気流中で含水酸化鉄
粒子を高温加熱処理することにより容易になし得る。こ
の処理は、針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に前記の
ようにして少なくともニッケル化合物を含む2価の遷移
金属化合物を含有する混合物層を被覆した後になされ
る。この場合、不活性ガスとしては特に制限されること
はなく、通常窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられる
が、安価である点から好ましくは窒素ガス気流中で行う
のが良い。
に脱水孔の存在しないフェライトを形成させるには、針
状晶の含水酸化鉄粒子を不活性ガス気流中で含水酸化鉄
粒子を高温加熱処理することにより容易になし得る。こ
の処理は、針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に前記の
ようにして少なくともニッケル化合物を含む2価の遷移
金属化合物を含有する混合物層を被覆した後になされ
る。この場合、不活性ガスとしては特に制限されること
はなく、通常窒素ガス、アルゴンガスなどが用いられる
が、安価である点から好ましくは窒素ガス気流中で行う
のが良い。
【0017】高温加熱処理の温度範囲は、通常400〜
700℃であり、好ましくは450〜600℃である。
400℃より低いとヘマタイトのままであるため、不活
性ガス気流中の処理であっても脱水孔が生じやすくな
り、700℃より高いと粒子が融着を起こしやすくなる
ので、好ましくない。加熱時間は、加熱温度にもよるが
通常0.5〜4時間、好ましくは1〜2時間である。
700℃であり、好ましくは450〜600℃である。
400℃より低いとヘマタイトのままであるため、不活
性ガス気流中の処理であっても脱水孔が生じやすくな
り、700℃より高いと粒子が融着を起こしやすくなる
ので、好ましくない。加熱時間は、加熱温度にもよるが
通常0.5〜4時間、好ましくは1〜2時間である。
【0018】このような、高温加熱処理を特開昭63−
61413号公報に記載されているように空気中で行う
とフェライトは形成されず、脱水孔の残ったヘマタイト
を形成するに留まり、水素気流中での還元時に切断が生
じてしまい針状性を保持しなくなり、目的とする性能を
もつ金属磁性粉末を得ることができなくなる恐れがある
ので注意を要する。
61413号公報に記載されているように空気中で行う
とフェライトは形成されず、脱水孔の残ったヘマタイト
を形成するに留まり、水素気流中での還元時に切断が生
じてしまい針状性を保持しなくなり、目的とする性能を
もつ金属磁性粉末を得ることができなくなる恐れがある
ので注意を要する。
【0019】本発明の方法においては、少なくともニッ
ケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有する混合
物層を被覆した後に行われ、必要に応じて該混合物層と
は別にその他の化合物による被覆をも形成した後に行う
こともできる。例えば、加熱還元時において金属磁性粉
末の粒子間の焼結を防止するため、粒子の最外殻にケイ
素、アルミニウムなどの公知の化合物を沈着させること
ができる。最外層であるケイ素化合物層、アルミニウム
化合物層は単独あるいは両者の併用の形で形成される
が、なかでも、ケイ素化合物層形成後、アルミニウム化
合物層を形成すると最終的に得られる金属磁性粉末の性
能が優れる。
ケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を含有する混合
物層を被覆した後に行われ、必要に応じて該混合物層と
は別にその他の化合物による被覆をも形成した後に行う
こともできる。例えば、加熱還元時において金属磁性粉
末の粒子間の焼結を防止するため、粒子の最外殻にケイ
素、アルミニウムなどの公知の化合物を沈着させること
ができる。最外層であるケイ素化合物層、アルミニウム
化合物層は単独あるいは両者の併用の形で形成される
が、なかでも、ケイ素化合物層形成後、アルミニウム化
合物層を形成すると最終的に得られる金属磁性粉末の性
能が優れる。
【0020】この場合のケイ素および/またはアルミニ
ウム化合物層の形成はゲーサイト中の鉄原子に対するケ
イ素および/またはアルミニウムの合計の重量比として
1〜10%、好ましくは2〜6%である。これは、ケイ
素、アルミニウムの合計が10%よりも多すぎると得ら
れる金属磁性粉体の飽和磁化がかえって低くなり望まし
くないためである。また、1%未満では最外層としてこ
れらの被覆を行った効果が得られないからである。
ウム化合物層の形成はゲーサイト中の鉄原子に対するケ
イ素および/またはアルミニウムの合計の重量比として
1〜10%、好ましくは2〜6%である。これは、ケイ
素、アルミニウムの合計が10%よりも多すぎると得ら
れる金属磁性粉体の飽和磁化がかえって低くなり望まし
くないためである。また、1%未満では最外層としてこ
れらの被覆を行った効果が得られないからである。
【0021】このようにして得たニッケル化合物を含む
2価の遷移金属化合物を含有する混合物層、ケイ素また
はアルミニウム化合物層を有するゲーサイトを前記のよ
うに不活性ガスとして、例えば窒素気流中で400〜7
00℃に加熱すると実質的に脱水孔の存在しないフェラ
イトに変換できる。その後の加熱還元は、水素気流中で
通常350〜550℃に、通常2時間以上保つことによ
って緻密で形状の優れた金属磁性粉末を製造することが
できる。
2価の遷移金属化合物を含有する混合物層、ケイ素また
はアルミニウム化合物層を有するゲーサイトを前記のよ
うに不活性ガスとして、例えば窒素気流中で400〜7
00℃に加熱すると実質的に脱水孔の存在しないフェラ
イトに変換できる。その後の加熱還元は、水素気流中で
通常350〜550℃に、通常2時間以上保つことによ
って緻密で形状の優れた金属磁性粉末を製造することが
できる。
【0022】上述のようにして得られる耐酸化性、耐腐
食性、磁気特性に優れた金属磁性粉末を含有する本発明
の磁気記録媒体用塗膜の製造は、常法に準じて行なう。
例えば、この金属磁性粉末を、結合剤樹脂、有機溶剤お
よびその他の必要成分とともに分散混合して磁性塗料を
調製し、この磁性塗料をポリエステルフイルムなどの基
体上に、ドクターブレード法、グラビア、リバース法、
ロール塗りなど任意の手段で塗布し、必要により磁場配
向後、乾燥するなどの方法で行う。
食性、磁気特性に優れた金属磁性粉末を含有する本発明
の磁気記録媒体用塗膜の製造は、常法に準じて行なう。
例えば、この金属磁性粉末を、結合剤樹脂、有機溶剤お
よびその他の必要成分とともに分散混合して磁性塗料を
調製し、この磁性塗料をポリエステルフイルムなどの基
体上に、ドクターブレード法、グラビア、リバース法、
ロール塗りなど任意の手段で塗布し、必要により磁場配
向後、乾燥するなどの方法で行う。
【0023】ここで、結合剤樹脂としては、ポリ塩化ビ
ニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維
素系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹
脂、イソシアネート化合物など従来から汎用されている
結合剤樹脂がいずれも用いられる。
ニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、繊維
素系樹脂、ブチラール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテル系樹
脂、イソシアネート化合物など従来から汎用されている
結合剤樹脂がいずれも用いられる。
【0024】また、有機溶剤としては、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素系溶剤、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル系溶剤など、使用する結合剤樹脂を溶解するのに
適した溶剤が、特に制限されることなく単独または二種
以上混合して使用される。
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族
炭化水素系溶剤、ジメチルスルホキシドなどのスルホキ
シド系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル系溶剤など、使用する結合剤樹脂を溶解するのに
適した溶剤が、特に制限されることなく単独または二種
以上混合して使用される。
【0025】なお、磁性塗料中には通常使用されている
各種添加剤、例えば、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤など
を適宜に添加してもよい。このようにして形成された磁
気記録媒体用塗膜は、用途に応じてテープ状あるいはデ
ィスク状にカットし、組み上げることにより、信頼性の
高い高性能磁気記録媒体として使用し得るものである。
各種添加剤、例えば、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤など
を適宜に添加してもよい。このようにして形成された磁
気記録媒体用塗膜は、用途に応じてテープ状あるいはデ
ィスク状にカットし、組み上げることにより、信頼性の
高い高性能磁気記録媒体として使用し得るものである。
【0026】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例により何等制限され
るものではない。 実施例1 反応層の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径:0.18μm、軸比:8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物141gを1000ml
のイオン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下
して、表面にSi/Ni混合物層を被着せしめた後、残
りの硫酸ニッケル水溶液を滴下し、1.2mol/l−
NaOH水溶液を滴下し、pHを10とした。その後、
イオン交換水を用いて洗浄液の電気電導度が100μS
/cm以下になるまで洗浄した。さらに、これにポイズ
530(15g)を加え再分散し、3号ケイソー(Si
O2 分29%)69gを加え、1時間後希硝酸を滴下
し、pHを6.5にして、ケイ素化合物層を被着せしめ
た。最後に、この懸濁液に濃度2NのNaOH水溶液1
72mlを添加した後、ただちに、硫酸バンド(Al2
O3 分9.3%)34gをイオン交換水165gに溶解
した水溶液を滴下し、アルミニウムの水酸化物を被着せ
しめ、この沈澱を水洗、濾過、乾燥した。
明するが、本発明はこれらの実施例により何等制限され
るものではない。 実施例1 反応層の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径:0.18μm、軸比:8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物141gを1000ml
のイオン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下
して、表面にSi/Ni混合物層を被着せしめた後、残
りの硫酸ニッケル水溶液を滴下し、1.2mol/l−
NaOH水溶液を滴下し、pHを10とした。その後、
イオン交換水を用いて洗浄液の電気電導度が100μS
/cm以下になるまで洗浄した。さらに、これにポイズ
530(15g)を加え再分散し、3号ケイソー(Si
O2 分29%)69gを加え、1時間後希硝酸を滴下
し、pHを6.5にして、ケイ素化合物層を被着せしめ
た。最後に、この懸濁液に濃度2NのNaOH水溶液1
72mlを添加した後、ただちに、硫酸バンド(Al2
O3 分9.3%)34gをイオン交換水165gに溶解
した水溶液を滴下し、アルミニウムの水酸化物を被着せ
しめ、この沈澱を水洗、濾過、乾燥した。
【0027】以上のようにして得たメタル前駆体を48
〜64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガ
ス線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温
加熱処理を行った。次いで水素気流中500℃で6時間
加熱還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃と
した後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppm
のN2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末1を
得た。高温加熱処理後サンプルの比表面積と減少率を表
1に示す。
〜64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガ
ス線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温
加熱処理を行った。次いで水素気流中500℃で6時間
加熱還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃と
した後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppm
のN2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末1を
得た。高温加熱処理後サンプルの比表面積と減少率を表
1に示す。
【0028】次いで、下記塗料配合の配合物をバッチ式
サンドミルで6時間混合後、混合物にコロネートL(日
本ポリウレタン工業株式会社製)2.5重量部を添加
し、さらに15分間混合を行った後、濾過してガラスビ
ーズを分離し、磁性塗料を調製した。この塗料を10μ
m厚のPETフイルム上に乾燥膜厚が3μmになるよう
に塗布し、磁場配向処理後乾燥してPETフイルム上に
磁性層を形成した。次いで、カレンダー処理により鏡面
加工して塗膜1を得た。金属磁性粉末1および塗膜1の
静磁気特性としてHc(保磁力)、σs(飽和磁化)、
σr/σs、σs’(60℃/90%RH保存1週間後
のσs)、Bs(飽和磁束密度)、Br/Bs(角型
比)、Bs’(60℃/90%RH保存30日間後のB
s)、Bs’/Bs、Bs”(Cl2 ガス0.5ppm
/30℃/80%RH保存1週間後のBs)、Bs”/
Bsを常法により求めた。その結果を表2および表3に
示す。
サンドミルで6時間混合後、混合物にコロネートL(日
本ポリウレタン工業株式会社製)2.5重量部を添加
し、さらに15分間混合を行った後、濾過してガラスビ
ーズを分離し、磁性塗料を調製した。この塗料を10μ
m厚のPETフイルム上に乾燥膜厚が3μmになるよう
に塗布し、磁場配向処理後乾燥してPETフイルム上に
磁性層を形成した。次いで、カレンダー処理により鏡面
加工して塗膜1を得た。金属磁性粉末1および塗膜1の
静磁気特性としてHc(保磁力)、σs(飽和磁化)、
σr/σs、σs’(60℃/90%RH保存1週間後
のσs)、Bs(飽和磁束密度)、Br/Bs(角型
比)、Bs’(60℃/90%RH保存30日間後のB
s)、Bs’/Bs、Bs”(Cl2 ガス0.5ppm
/30℃/80%RH保存1週間後のBs)、Bs”/
Bsを常法により求めた。その結果を表2および表3に
示す。
【0029】 塗料配合 金属磁性粉末 100重量部 レシチン 2 〃 カーボンブラック 3 〃 γ−アルミナ 5 〃 VAGH*1 15 〃 ニッポラン2304*2 10 〃 メチルエチルケトン 150 〃 トルエン 50 〃 シクロヘキサノン 75 〃 (註)*1:ユニオンカーバイド社製塩化ビニル/酢酸
ビニル/ポリビニルアルコール共重合体 *2:日本ポリウレタン工業株式会社製のポリウレタン
樹脂
ビニル/ポリビニルアルコール共重合体 *2:日本ポリウレタン工業株式会社製のポリウレタン
樹脂
【0030】実施例2 反応層の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物70.5gおよび硫酸コ
バルト七水和物74.2gを1000mlのイオン交換
水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下して、表面に
Si/Ni/Co混合物層を被着せしめた後、残りの硫
酸ニッケルおよび硫酸コバルト混合水溶液を滴下し、
1.2mol/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを1
0とした。その後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気
電導度が100μS/cm以下になるまで洗浄した。さ
らに、これに、ポイズ530(15g)を加え再分散
し、3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、
1時間後希硝酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素
化合物層を被着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2
NのNaOH水溶液172mlを添加した後、ただち
に、硫酸バンド(Al2 O3 分9.3%)34gをイオ
ン交換水165gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニ
ウムの水酸化物を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、
乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆体を48〜
64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガス
線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温加
熱処理を行なった。次いで水素気流中500℃で6時間
還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃とした
後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppmのN
2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末2を得、
さらに塗膜2を得た。高温加熱処理後サンプルの比表面
積と減少率を表1に示す。金属磁性粉末2および塗膜2
の静磁気特性について実施例1と同様に行い、その結果
を表2および表3に示す。
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物70.5gおよび硫酸コ
バルト七水和物74.2gを1000mlのイオン交換
水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下して、表面に
Si/Ni/Co混合物層を被着せしめた後、残りの硫
酸ニッケルおよび硫酸コバルト混合水溶液を滴下し、
1.2mol/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを1
0とした。その後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気
電導度が100μS/cm以下になるまで洗浄した。さ
らに、これに、ポイズ530(15g)を加え再分散
し、3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、
1時間後希硝酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素
化合物層を被着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2
NのNaOH水溶液172mlを添加した後、ただち
に、硫酸バンド(Al2 O3 分9.3%)34gをイオ
ン交換水165gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニ
ウムの水酸化物を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、
乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆体を48〜
64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガス
線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温加
熱処理を行なった。次いで水素気流中500℃で6時間
還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃とした
後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppmのN
2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末2を得、
さらに塗膜2を得た。高温加熱処理後サンプルの比表面
積と減少率を表1に示す。金属磁性粉末2および塗膜2
の静磁気特性について実施例1と同様に行い、その結果
を表2および表3に示す。
【0031】実施例3 反応層の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物70.5gおよび硫酸コ
バルト七水和物149.8gを1000mlのイオン交
換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下して、表面
にSi/Ni/Co混合物層を被着せしめた後、残りの
硫酸ニッケルおよび硫酸コバルト混合水溶液を滴下し、
1.2mol/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを1
0とした。その後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気
電導度が100μS/cm以下になるまで洗浄した。さ
らに、これに、ポイズ530(15g)を加え再分散
し、3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、
1時間後希硝酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素
化合物層を被着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2
NのNaOH水溶液172mlを添加した後、ただち
に、硫酸バンド(Al2 O3 分9.3%)34gをイオ
ン交換水165gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニ
ウムの水酸化物を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、
乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆体を48〜
64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガス
線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温加
熱処理を行なった。次いで水素気流中500℃で6時間
還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃とした
後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppmのN
2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末3を得、
さらに塗膜3を得た。高温加熱処理後サンプルの比表面
積と減少率を表1に示す。金属磁性粉末3および塗膜3
の静磁気特性について実施例1と同様に行い、その結果
を表2および表3に示す。
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸ニッケル六水和物70.5gおよび硫酸コ
バルト七水和物149.8gを1000mlのイオン交
換水に溶解した水溶液をpH6.5まで滴下して、表面
にSi/Ni/Co混合物層を被着せしめた後、残りの
硫酸ニッケルおよび硫酸コバルト混合水溶液を滴下し、
1.2mol/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを1
0とした。その後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気
電導度が100μS/cm以下になるまで洗浄した。さ
らに、これに、ポイズ530(15g)を加え再分散
し、3号ケイソー(SiO2 分29%)69gを加え、
1時間後希硝酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素
化合物層を被着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2
NのNaOH水溶液172mlを添加した後、ただち
に、硫酸バンド(Al2 O3 分9.3%)34gをイオ
ン交換水165gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニ
ウムの水酸化物を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、
乾燥した。以上のようにして得たメタル前駆体を48〜
64メッシュに整粒し、内径62mmの流動層炉でガス
線速度7cm/秒の窒素気流中550℃で2時間高温加
熱処理を行なった。次いで水素気流中500℃で6時間
還元した。還元終了後窒素気流中で冷却し50℃とした
後、ガス線速度7cm/秒で酸素濃度250ppmのN
2 ガスを通気して表面を酸化して金属磁性粉末3を得、
さらに塗膜3を得た。高温加熱処理後サンプルの比表面
積と減少率を表1に示す。金属磁性粉末3および塗膜3
の静磁気特性について実施例1と同様に行い、その結果
を表2および表3に示す。
【0032】比較例1 反応層の外部にパイプライン型分散機マイルダー(荏原
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸コバルト七水和物149.8gを1000
mlのイオン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで
滴下して、表面にSi/Co混合物層を被着せしめた
後、残りの硫酸コバルト水溶液を滴下し、1.2mol
/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを10とした。そ
の後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気電導度が10
0μS/cm以下になるまで洗浄した。さらに、これ
に、ポイズ530(15g)を加え再分散し、3号ケイ
ソー(SiO2 分29%)69gを加え、1時間後希硝
酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素化合物層を被
着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2NのNaOH
水溶液172mlを添加した後、ただちに、硫酸バンド
(Al2 O3 分9.3%)34gをイオン交換水165
gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニウムの水酸化物
を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、乾燥した。以上
のようにして得たメタル前駆体を48〜64メッシュに
整粒し、内径62mmの流動層炉でガス線速度7cm/
秒の窒素気流中550℃で2時間高温加熱処理を行なっ
た。次いで水素気流中500℃で6時間還元した。還元
終了後窒素気流中で冷却し50℃とした後、ガス線速度
7cm/秒で酸素濃度250ppmのN2 ガスを通気し
て表面を酸化して金属磁性粉末4を得、さらに塗膜4を
得た。高温加熱処理後サンプルの比表面積と減少率を表
1に示す。金属磁性粉末4および塗膜4の静磁気特性に
ついて実施例1と同様に行い、その結果を表2および表
3に示す。
製作所製)を設置した循環ラインを設けた装置を用い、
ゲーサイト(長軸径;0.18μm 、軸比;8)500
gを、ポイズ530(花王株式会社製)15g(対粉3
%)をイオン交換水10リットルに添加した溶液に約1
時間分散した。マイルダーによる分散を続けながら、3
号ケイソー(SiO2 分29%)17.2gを加えた。
ついで、硫酸コバルト七水和物149.8gを1000
mlのイオン交換水に溶解した水溶液をpH6.5まで
滴下して、表面にSi/Co混合物層を被着せしめた
後、残りの硫酸コバルト水溶液を滴下し、1.2mol
/l−NaOH水溶液を滴下し、pHを10とした。そ
の後、イオン交換水を用いて洗浄液の電気電導度が10
0μS/cm以下になるまで洗浄した。さらに、これ
に、ポイズ530(15g)を加え再分散し、3号ケイ
ソー(SiO2 分29%)69gを加え、1時間後希硝
酸を滴下し,pHを6.5にして、ケイ素化合物層を被
着せしめた。最後に、この懸濁液に濃度2NのNaOH
水溶液172mlを添加した後、ただちに、硫酸バンド
(Al2 O3 分9.3%)34gをイオン交換水165
gに溶解した水溶液を滴下し、アルミニウムの水酸化物
を被着せしめ、この沈澱を水洗、濾過、乾燥した。以上
のようにして得たメタル前駆体を48〜64メッシュに
整粒し、内径62mmの流動層炉でガス線速度7cm/
秒の窒素気流中550℃で2時間高温加熱処理を行なっ
た。次いで水素気流中500℃で6時間還元した。還元
終了後窒素気流中で冷却し50℃とした後、ガス線速度
7cm/秒で酸素濃度250ppmのN2 ガスを通気し
て表面を酸化して金属磁性粉末4を得、さらに塗膜4を
得た。高温加熱処理後サンプルの比表面積と減少率を表
1に示す。金属磁性粉末4および塗膜4の静磁気特性に
ついて実施例1と同様に行い、その結果を表2および表
3に示す。
【0033】比較例2 実施例1において得たメタル前駆体を、加熱処理せずに
ただちに水素気流中500℃で還元すること以外は実施
例1と同様にして金属磁性粉末5、さらに塗膜5を得
た。金属磁性粉末5および塗膜5の静磁気特性について
実施例1と同様に行い、その結果を表2および表3に示
す。
ただちに水素気流中500℃で還元すること以外は実施
例1と同様にして金属磁性粉末5、さらに塗膜5を得
た。金属磁性粉末5および塗膜5の静磁気特性について
実施例1と同様に行い、その結果を表2および表3に示
す。
【0034】比較例3 実施例1において得たメタル前駆体を、窒素気流中30
0℃で2時間加熱すること以外は実施例1と同様にして
金属磁性粉末6、さらに塗膜6を得た。高温加熱処理後
サンプルの比表面積と減少率を表1に示す。金属磁性粉
末6および塗膜6の静磁気特性について実施例1と同様
に行い、その結果を表2および表3に示す。
0℃で2時間加熱すること以外は実施例1と同様にして
金属磁性粉末6、さらに塗膜6を得た。高温加熱処理後
サンプルの比表面積と減少率を表1に示す。金属磁性粉
末6および塗膜6の静磁気特性について実施例1と同様
に行い、その結果を表2および表3に示す。
【0035】比較例4 実施例1において得たメタル前駆体を、空気気流中55
0℃で2時間加熱すること以外は実施例1と同様にして
金属磁性粉末7、さらに塗膜7を得た。高温加熱処理後
サンプルの比表面積と減少率を表1に示す。金属磁性粉
末7および塗膜7の静磁気特性について実施例1と同様
に行い、その結果を表2および表3に示す。
0℃で2時間加熱すること以外は実施例1と同様にして
金属磁性粉末7、さらに塗膜7を得た。高温加熱処理後
サンプルの比表面積と減少率を表1に示す。金属磁性粉
末7および塗膜7の静磁気特性について実施例1と同様
に行い、その結果を表2および表3に示す。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
【表3】
【0039】以上の結果から、実施例1〜3により得ら
れた金属磁性粉末1〜3においては、高温加熱処理後、
比表面積の減少率が10%以上のフェライトであるた
め、還元時の焼結、切断が防止でき、形状維持が可能と
なり、高保磁力(Hc)、高角型比(σr/σs)をも
つ金属磁性粉末が得られた。また、Si/NiまたはS
i/Ni/Co混合物層を形成させたこれらの金属磁性
粉末を用いた塗膜1〜3の耐腐食性については、Cl2
ガス0.5ppm/30℃/80%RH雰囲気下で1週
間保存後のBsは高く、優れていた。
れた金属磁性粉末1〜3においては、高温加熱処理後、
比表面積の減少率が10%以上のフェライトであるた
め、還元時の焼結、切断が防止でき、形状維持が可能と
なり、高保磁力(Hc)、高角型比(σr/σs)をも
つ金属磁性粉末が得られた。また、Si/NiまたはS
i/Ni/Co混合物層を形成させたこれらの金属磁性
粉末を用いた塗膜1〜3の耐腐食性については、Cl2
ガス0.5ppm/30℃/80%RH雰囲気下で1週
間保存後のBsは高く、優れていた。
【0040】一方、比較例2により得られた金属磁性粉
末5の構造はヘマタイト(α−Fe2 O3 )であり、ま
た比較例3および4により得られた金属磁性粉末6,7
も、熱処理後、比表面積の減少率が10%未満でかつ、
その構造はヘマタイトであるため、還元時の焼結、切断
が起こり、形状維持が困難となり、それらの金属磁性粉
末の磁気特性および耐酸化性は低く、満足できるもので
はなかった。また、含水酸化鉄粒子表面上への付着がニ
ッケル化合物を含まないSi/Co混合物層である比較
例1では、得られた金属磁性粉末4の磁気特性には優れ
るものの塗膜4の耐腐食性(Cl2 ガス/30℃/80
%RH雰囲気下で1週間保存後のBs)がやや劣ってい
た。
末5の構造はヘマタイト(α−Fe2 O3 )であり、ま
た比較例3および4により得られた金属磁性粉末6,7
も、熱処理後、比表面積の減少率が10%未満でかつ、
その構造はヘマタイトであるため、還元時の焼結、切断
が起こり、形状維持が困難となり、それらの金属磁性粉
末の磁気特性および耐酸化性は低く、満足できるもので
はなかった。また、含水酸化鉄粒子表面上への付着がニ
ッケル化合物を含まないSi/Co混合物層である比較
例1では、得られた金属磁性粉末4の磁気特性には優れ
るものの塗膜4の耐腐食性(Cl2 ガス/30℃/80
%RH雰囲気下で1週間保存後のBs)がやや劣ってい
た。
【0041】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、含水酸化鉄
粒子に少なくともニッケル化合物を含む2価の遷移金属
化合物を含有する混合物層を形成した後に、該針状晶粒
子を不活性ガス気流中で高温加熱することにより実質的
に脱水孔の存在しないフェライトを形成させ、次いで該
フェライトの加熱還元を行うと、より高い保磁力、保磁
力分布の狭い金属磁性粉末が得られる。また、このよう
にして得られた金属磁性粉末を用いることにより、耐酸
化性が一段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れた磁気記録
媒体用塗膜を製造することができる。
粒子に少なくともニッケル化合物を含む2価の遷移金属
化合物を含有する混合物層を形成した後に、該針状晶粒
子を不活性ガス気流中で高温加熱することにより実質的
に脱水孔の存在しないフェライトを形成させ、次いで該
フェライトの加熱還元を行うと、より高い保磁力、保磁
力分布の狭い金属磁性粉末が得られる。また、このよう
にして得られた金属磁性粉末を用いることにより、耐酸
化性が一段と優れ、かつ、耐腐食性にも優れた磁気記録
媒体用塗膜を製造することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に少
なくともニッケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を
含有する混合物層を被覆した後、該針状晶粒子を実質的
に脱水孔の存在しないフェライトと化し、次いで該フェ
ライトを加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の
製造方法。 - 【請求項2】 針状晶の含水酸化鉄粒子の粒子表面に少
なくともニッケル化合物を含む2価の遷移金属化合物を
含有する混合物層を被覆した後、該針状晶粒子を不活性
ガス気流中で高温加熱することにより、実質的に脱水孔
の存在しないフェライトを形成し、次いで該フェライト
を加熱還元することを特徴とする金属磁性粉末の製造方
法。 - 【請求項3】 混合物層が少なくともニッケル化合物を
含む2価の遷移金属化合物と、ケイ素化合物および/ま
たはアルミニウム化合物からなる請求項1または2記載
の金属磁性粉末の製造方法。 - 【請求項4】 請求項1〜3いずれか記載の製造方法に
より得られる金属磁性粉末を含有することを特徴とする
磁気記録媒体用塗膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3298261A JPH05109517A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 金属磁性粉末の製造方法および磁気記録媒体用塗膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3298261A JPH05109517A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 金属磁性粉末の製造方法および磁気記録媒体用塗膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109517A true JPH05109517A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17857339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3298261A Pending JPH05109517A (ja) | 1991-10-16 | 1991-10-16 | 金属磁性粉末の製造方法および磁気記録媒体用塗膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05109517A (ja) |
-
1991
- 1991-10-16 JP JP3298261A patent/JPH05109517A/ja active Pending
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