JPH05112470A - トラン化合物の製造方法 - Google Patents
トラン化合物の製造方法Info
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- -1 tolane compound Chemical class 0.000 title claims description 36
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 7
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 claims abstract description 4
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 claims abstract description 4
- 125000005362 aryl sulfone group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 claims description 7
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- HUMNYLRZRPPJDN-KWCOIAHCSA-N benzaldehyde Chemical group O=[11CH]C1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-KWCOIAHCSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 2
- 125000005449 2-fluoro-1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([*:2])C([H])=C(F)C([*:1])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)azanide Chemical compound CC(C)[N-]C(C)C PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N biphenylacetylene Chemical compound C1=CC=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 JRXXLCKWQFKACW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 239000007858 starting material Substances 0.000 abstract description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 13
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 3
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000015244 frankfurter Nutrition 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000007040 multi-step synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 3-chloroperbenzoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 NHQDETIJWKXCTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQNVDQZWOBPLQZ-UHFFFAOYSA-N 4-(trifluoromethoxy)benzaldehyde Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C=O)C=C1 XQNVDQZWOBPLQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLZDBBJQHWKPEW-YOCNBXQISA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)C(=CC1=CC=C(C=C1)OC(F)(F)F)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(C=C1)C(=CC1=CC=C(C=C1)OC(F)(F)F)S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 VLZDBBJQHWKPEW-YOCNBXQISA-N 0.000 description 1
- DMRVVGRBVZWNEW-JCNLHEQBSA-N C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(CBr)C=C1 Chemical compound C(CCCC)[C@@H]1CC[C@H](CC1)C1=CC=C(CBr)C=C1 DMRVVGRBVZWNEW-JCNLHEQBSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000006000 Knoevenagel condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- ZTPCADFYSLZHBE-UHFFFAOYSA-N [2-(benzenesulfonyl)-1,2-diphenylethyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(=O)C)C(S(=O)(=O)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZTPCADFYSLZHBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQIRAVWVGBTHMJ-UHFFFAOYSA-N [dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]methane;lithium Chemical compound [Li].C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C QQIRAVWVGBTHMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYJKEHKQUPSJDH-UHFFFAOYSA-N [dimethyl-(trimethylsilylamino)silyl]methane;potassium Chemical compound [K].C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FYJKEHKQUPSJDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 1
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005228 aryl sulfonate group Chemical group 0.000 description 1
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPWPJLJWUXOOAB-UHFFFAOYSA-N benzene;bromine Chemical class [Br].C1=CC=CC=C1 CPWPJLJWUXOOAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N benzene;hydron;bromide Chemical class Br.C1=CC=CC=C1 ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FABCMLOTUSCWOR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonylmethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 FABCMLOTUSCWOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMCJXXOBRCATQ-UHFFFAOYSA-N benzylsulfanylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CSC1=CC=CC=C1 LKMCJXXOBRCATQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006184 cosolvent Substances 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007269 dehydrobromination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N diltiazem Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[C@H]1[C@@H](OC(C)=O)C(=O)N(CCN(C)C)C2=CC=CC=C2S1 HSUGRBWQSSZJOP-RTWAWAEBSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N lithium tetramethylpiperidide Chemical compound [Li]N1C(C)(C)CCCC1(C)C ANYSGBYRTLOUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPRXAOPZPSAYHF-UHFFFAOYSA-N lithium;cyclohexyl(propan-2-yl)azanide Chemical compound CC(C)N([Li])C1CCCCC1 UPRXAOPZPSAYHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UODMSBYDFUPQHC-UHFFFAOYSA-M magnesium;di(propan-2-yl)azanide;bromide Chemical compound CC(C)N([Mg]Br)C(C)C UODMSBYDFUPQHC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005815 pentoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000006225 propoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/16—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C317/18—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C25/00—Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
- C07C25/24—Halogenated aromatic hydrocarbons with unsaturated side chains
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
- C07C317/14—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ジ置換またはポリ置換されたトラン化合物を
安価な、容易に入手できる出発物質から高い収率で製造
する。 【構成】 置換されたベンジルアリールスルホンを縮合
剤の存在のもとに、置換されたベンズアルデヒドと反応
させ、得られたアリールスルホンスチルベン誘導体を強
塩基で処理する。
安価な、容易に入手できる出発物質から高い収率で製造
する。 【構成】 置換されたベンジルアリールスルホンを縮合
剤の存在のもとに、置換されたベンズアルデヒドと反応
させ、得られたアリールスルホンスチルベン誘導体を強
塩基で処理する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はジ置換またはポリ置換さ
れたトラン化合物を製造するに当り、置換されたベンジ
ルアリールスルホンを、縮合剤の存在のもとに、置換さ
れたベンズアルデヒドと反応させ、そしてその得られた
アリールスルホンスチルベン誘導体を強塩基によって処
理する方法に関する。
れたトラン化合物を製造するに当り、置換されたベンジ
ルアリールスルホンを、縮合剤の存在のもとに、置換さ
れたベンズアルデヒドと反応させ、そしてその得られた
アリールスルホンスチルベン誘導体を強塩基によって処
理する方法に関する。
【0002】式Iの化合物は種々の液晶媒質の成分とし
て用いることができ、特にねじれセルの原理、ゲスト−
ホスト効果、立ちあがり相の変形の効果または動的散乱
の効果にもとづくディスプレー用として用いることがで
きる。
て用いることができ、特にねじれセルの原理、ゲスト−
ホスト効果、立ちあがり相の変形の効果または動的散乱
の効果にもとづくディスプレー用として用いることがで
きる。
【0003】
【従来の技術】従来技術(例えばドイツ特許第 37 11 3
06号)によれば、ジまたはポリ置換されたトラン化合物
が、それ相当に置換された臭化ベンゼンまたは沃化ベン
ゼン及び4−置換されたフェニルアセチレンを例えばビ
ス(トリフェニル)ホスフィンパラジウム(II)クロリド
のようなパラジウム触媒または沃化銅(I) の存在のもと
に反応させるか、または逆の方式でp−アルキル又はア
ルコキシフェニルアセチレンをそれ相当に置換された臭
化ベンゼンまたは沃化ベンゼンと反応させることによっ
て製造することができる。
06号)によれば、ジまたはポリ置換されたトラン化合物
が、それ相当に置換された臭化ベンゼンまたは沃化ベン
ゼン及び4−置換されたフェニルアセチレンを例えばビ
ス(トリフェニル)ホスフィンパラジウム(II)クロリド
のようなパラジウム触媒または沃化銅(I) の存在のもと
に反応させるか、または逆の方式でp−アルキル又はア
ルコキシフェニルアセチレンをそれ相当に置換された臭
化ベンゼンまたは沃化ベンゼンと反応させることによっ
て製造することができる。
【0004】式Iの化合物を製造するための別の可能性
は、それ相当のスチルベン化合物を臭素化し、ついで脱
ハロゲン化水素することよりなる(例えばヨーロッパ特
許第0 255 700号)。この場合にこの反応の、ここでは
詳細に説明しない公知の種々の変法を用いることができ
る。
は、それ相当のスチルベン化合物を臭素化し、ついで脱
ハロゲン化水素することよりなる(例えばヨーロッパ特
許第0 255 700号)。この場合にこの反応の、ここでは
詳細に説明しない公知の種々の変法を用いることができ
る。
【0005】更にまた、J. Otera 等:"J. Org. Che
m." (1986) 51, 3830 - 3833 は 1-アセトキシ-2-(フ
ェニルスルホニル)-1,2-ジフェニルエタンをカリウム-t
ert-ブチラートで処理することによる非置換のトラン化
合物の製造を記述している。この化合物は、またここで
も、ベンジルフェニルスルフィドのブチルリチウムによ
る -78℃における脱プロトン、引き続くベンズアルデヒ
ドとの反応及びそれに続いての無水酢酸によるアセチル
化とn−クロル過安息香酸による酸化による3段階合成
法で製造される。
m." (1986) 51, 3830 - 3833 は 1-アセトキシ-2-(フ
ェニルスルホニル)-1,2-ジフェニルエタンをカリウム-t
ert-ブチラートで処理することによる非置換のトラン化
合物の製造を記述している。この化合物は、またここで
も、ベンジルフェニルスルフィドのブチルリチウムによ
る -78℃における脱プロトン、引き続くベンズアルデヒ
ドとの反応及びそれに続いての無水酢酸によるアセチル
化とn−クロル過安息香酸による酸化による3段階合成
法で製造される。
【0006】Otera 等により記述された方法によれば、
一般にヘキサン中の自然発火しやすい希薄溶液として用
いなければならないような反応性の高い有機金属試薬で
あるn−ブチルリチウムを用いて低温度において操作し
なければならない。このような試薬に対する安全性の要
求は非常に高く、その結果生産規模による作業はそのた
めにほとんど不可能であった。
一般にヘキサン中の自然発火しやすい希薄溶液として用
いなければならないような反応性の高い有機金属試薬で
あるn−ブチルリチウムを用いて低温度において操作し
なければならない。このような試薬に対する安全性の要
求は非常に高く、その結果生産規模による作業はそのた
めにほとんど不可能であった。
【0007】例えばドイツ特許第 37 11 306号に従うよ
うな、フェニルアセチレンをパラジウム触媒の存在のも
とに臭化ベンゼンまたは沃化ベンゼンの誘導体と結合さ
せることによるトラン化合物の製造においては、一般に
その触媒によって汚染された生成物が得られ、従って非
常に慎重にクロマトグラィーによって精製しなければな
らない。この場合にしばしば大きな収率の損失が現れ
る。その上に高価な重金属触媒を用いるために、その使
用した溶媒を精製することが強く要求される。
うな、フェニルアセチレンをパラジウム触媒の存在のも
とに臭化ベンゼンまたは沃化ベンゼンの誘導体と結合さ
せることによるトラン化合物の製造においては、一般に
その触媒によって汚染された生成物が得られ、従って非
常に慎重にクロマトグラィーによって精製しなければな
らない。この場合にしばしば大きな収率の損失が現れ
る。その上に高価な重金属触媒を用いるために、その使
用した溶媒を精製することが強く要求される。
【0008】例えばヨーロッパ特許第 0 255 700号に従
うスチルベン化合物の臭素化と引き続く脱臭化水素化に
よるトラン化合物の製造においてはその用いられるスチ
ルベン化合物はしばしば多段階合成によって製造するし
かない。しかもこのような一連の反応は不満足な総合収
率しかもたらさない(ヨーロッパ特許第 0 255 700号の
例1参照:スチルベン:25g=理論値の40%、ジブロム
化合物:24.5g=理論値の 65 %、トラン:15g=理論
値の92%、総合収率:理論値の24%)。これに対して非
常に類似したトラン化合物が本発明に従う中間生成物を
用いた場合には55%と言う2倍以上高い総合収率で得ら
れる。
うスチルベン化合物の臭素化と引き続く脱臭化水素化に
よるトラン化合物の製造においてはその用いられるスチ
ルベン化合物はしばしば多段階合成によって製造するし
かない。しかもこのような一連の反応は不満足な総合収
率しかもたらさない(ヨーロッパ特許第 0 255 700号の
例1参照:スチルベン:25g=理論値の40%、ジブロム
化合物:24.5g=理論値の 65 %、トラン:15g=理論
値の92%、総合収率:理論値の24%)。これに対して非
常に類似したトラン化合物が本発明に従う中間生成物を
用いた場合には55%と言う2倍以上高い総合収率で得ら
れる。
【0009】上述した種々の方法には工業的見地から見
ると、種々の不利な点が付随している。高価であって、
しかもしばしば入手の困難な触媒の使用に加えて、一部
では特にジフルオロトランの場合に必要であるような低
温度における作業は高い装置的費用を必要とする。多く
の場合にそれら出発物質の合成も問題である。一部分で
悪い収率の多段階合成は高経費を要し、かつ時間がかか
る。
ると、種々の不利な点が付随している。高価であって、
しかもしばしば入手の困難な触媒の使用に加えて、一部
では特にジフルオロトランの場合に必要であるような低
温度における作業は高い装置的費用を必要とする。多く
の場合にそれら出発物質の合成も問題である。一部分で
悪い収率の多段階合成は高経費を要し、かつ時間がかか
る。
【0010】更にまた種々の置換トラン化合物を製造す
る方法においてはm−クロル過安息香酸のような強い酸
化剤の使用は避けなければならず、というのはこれはそ
の置換基、特にベンジル基が容易にそのような酸化剤に
よってアタックされるために種々の副反応生成物が生ず
るからである。
る方法においてはm−クロル過安息香酸のような強い酸
化剤の使用は避けなければならず、というのはこれはそ
の置換基、特にベンジル基が容易にそのような酸化剤に
よってアタックされるために種々の副反応生成物が生ず
るからである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は容易に
入手できる出発物質に基づき、しかも従来の方法の前述
のような種々の不利な点を全く示さないか、または僅か
な程度にしか示さないような、ジ置換又はポリ置換され
たトラン化合物の製造方法を見出すことである。驚くべ
きことに本発明者等は置換されたベンジルアリールスル
ホン化合物が縮合剤の存在のもとに、置換されたベンズ
アルデヒド化合物によってアリールスル9ホンスチルベ
ン誘導体を介して、さらに引き続き強塩基による処理に
よって、大きな収率の低下をもたらす副反応を生ずるこ
となく、対応するトラン化合物に導くことができること
を見出した。
入手できる出発物質に基づき、しかも従来の方法の前述
のような種々の不利な点を全く示さないか、または僅か
な程度にしか示さないような、ジ置換又はポリ置換され
たトラン化合物の製造方法を見出すことである。驚くべ
きことに本発明者等は置換されたベンジルアリールスル
ホン化合物が縮合剤の存在のもとに、置換されたベンズ
アルデヒド化合物によってアリールスル9ホンスチルベ
ン誘導体を介して、さらに引き続き強塩基による処理に
よって、大きな収率の低下をもたらす副反応を生ずるこ
となく、対応するトラン化合物に導くことができること
を見出した。
【0012】
【課題を解決するための手段】従って本発明の対象はジ
置換またはポリ置換されたトラン化合物の製造方法であ
り、置換されたベンジルアリールスルホンを縮合剤の存
在のもとに置換されたベンズアルデヒドと反応させ、そ
の後にこの得られたアリールスルホンスチルベン誘導体
を強塩基で処理するものである。特に本発明の方法によ
れば下記の式Iのジ置換またはポリ置換されたトラン化
合物が次のように製造される。
置換またはポリ置換されたトラン化合物の製造方法であ
り、置換されたベンジルアリールスルホンを縮合剤の存
在のもとに置換されたベンズアルデヒドと反応させ、そ
の後にこの得られたアリールスルホンスチルベン誘導体
を強塩基で処理するものである。特に本発明の方法によ
れば下記の式Iのジ置換またはポリ置換されたトラン化
合物が次のように製造される。
【0013】
【化10】 においてR1 とR2 とはそれぞれ互いに独立に、それぞ
れ18個までの炭素原子を有するアルキルまたはアルケ
ニルを意味し、その際非隣接の1つまたは2つのCH2-基
も -O-または -S-によって置換されていることが出来
て、基R1およびR2 のうちの一方は F、Cl、CN、CF
3 、OCF3または OCF2Hであることも意味し、A1 とA2
とはそれぞれ互いに独立に 1,4- シクロヘキシレン、1,
4-フェニレン、2-または 3- フルオロ-1,4- フェニレ
ン、2,3-ジフルオロ-1,4- フェニレン、2,6-ジフルオロ
-1,4- フェニレン、3,5-ジフルオロ-1,4- フェニレン、
ジオキサン-2,5- ジイル、ピリジン-2,5- ジイル、また
はピリミジン-2,5- ジイルを意味し、Z1 とZ2 とはそ
れぞれ互いに独立に -CH2CH2- 、-CH2O-、-OCH2-、-C≡
C-または単結合を意味し、mとpとはそれぞれ0または
1を意味し、nとoとはそれぞれ0、1または2を意味
する、ここで下記の式 II の置換されたベンジルアリル
スルホンを縮合剤の存在下で下記式III の置換されたベ
ンズアルデヒドと反応させて、この物質を強塩基で処理
するのである。すなわち式II
れ18個までの炭素原子を有するアルキルまたはアルケ
ニルを意味し、その際非隣接の1つまたは2つのCH2-基
も -O-または -S-によって置換されていることが出来
て、基R1およびR2 のうちの一方は F、Cl、CN、CF
3 、OCF3または OCF2Hであることも意味し、A1 とA2
とはそれぞれ互いに独立に 1,4- シクロヘキシレン、1,
4-フェニレン、2-または 3- フルオロ-1,4- フェニレ
ン、2,3-ジフルオロ-1,4- フェニレン、2,6-ジフルオロ
-1,4- フェニレン、3,5-ジフルオロ-1,4- フェニレン、
ジオキサン-2,5- ジイル、ピリジン-2,5- ジイル、また
はピリミジン-2,5- ジイルを意味し、Z1 とZ2 とはそ
れぞれ互いに独立に -CH2CH2- 、-CH2O-、-OCH2-、-C≡
C-または単結合を意味し、mとpとはそれぞれ0または
1を意味し、nとoとはそれぞれ0、1または2を意味
する、ここで下記の式 II の置換されたベンジルアリル
スルホンを縮合剤の存在下で下記式III の置換されたベ
ンズアルデヒドと反応させて、この物質を強塩基で処理
するのである。すなわち式II
【0014】
【化11】 においてR1、A1、Z1、mおよびnは前記の意味を有し、
更にArは非置換のフェニル、またはハロゲン、1ない
し3個の炭素原子のアルキル基またはアルコキシ基ある
いはニトロ基でモノ置換またはポリ置換されているフェ
ニルを意味し、下記の式 III
更にArは非置換のフェニル、またはハロゲン、1ない
し3個の炭素原子のアルキル基またはアルコキシ基ある
いはニトロ基でモノ置換またはポリ置換されているフェ
ニルを意味し、下記の式 III
【0015】
【化12】 においてR2、A2、Z2、oおよびpが前記の意味を有し、
次いで下記式 IV のアリルスルホニルスチルベン−誘導
体を単離する。すなわち下記の式IV
次いで下記式 IV のアリルスルホニルスチルベン−誘導
体を単離する。すなわち下記の式IV
【0016】
【化13】 においてR1 、R2 、A1 、A2 、Z1 、Z2 、m、
n、oおよびpが前記の意味を有する。
n、oおよびpが前記の意味を有する。
【0017】好ましい実施態様の一つは、反応容器中に
ある置換されたベンズアルデヒドに置換されたベンジル
アリールスルホンと塩基との混合物を加える方法であ
る。
ある置換されたベンズアルデヒドに置換されたベンジル
アリールスルホンと塩基との混合物を加える方法であ
る。
【0018】更にまた好ましい方法の一つは、反応を -
50℃と +100 ℃との間、好ましくは-20 ℃と +50℃との
間、特に0℃と 35 ℃との間の温度において実施する方
法である。
50℃と +100 ℃との間、好ましくは-20 ℃と +50℃との
間、特に0℃と 35 ℃との間の温度において実施する方
法である。
【0019】置換されたベンズアルデヒドとアリールベ
ンジルスルホン化合物との縮合には通常のクネーベナー
ゲル反応に適した縮合剤を使用することができ〔例えば
J.March; McGraw-Hill International (1977) 刊行
の "Adv. Org. Chem."第2版、第 854 -859 頁参照〕、
好ましくは種々の無機および有機塩基を使用することが
できる。
ンジルスルホン化合物との縮合には通常のクネーベナー
ゲル反応に適した縮合剤を使用することができ〔例えば
J.March; McGraw-Hill International (1977) 刊行
の "Adv. Org. Chem."第2版、第 854 -859 頁参照〕、
好ましくは種々の無機および有機塩基を使用することが
できる。
【0020】式 IV のアリールスルホニルスチルベン誘
導体を式Iの化合物へ導くためには通常の強塩基類が適
しており、好ましくは塩基として金属アルコラート、特
に第1級または第2級の金属アルコラート、あるいはカ
リウム-tert-ブチラート等、または金属アミド類、特に
ハロゲノマグネシウムジイソプロピルアミドまたはリチ
ウムジイソプロピルアミドが用いられる。
導体を式Iの化合物へ導くためには通常の強塩基類が適
しており、好ましくは塩基として金属アルコラート、特
に第1級または第2級の金属アルコラート、あるいはカ
リウム-tert-ブチラート等、または金属アミド類、特に
ハロゲノマグネシウムジイソプロピルアミドまたはリチ
ウムジイソプロピルアミドが用いられる。
【0021】本発明に従う方法においては好ましくはそ
の用いた式 IV のアリールスルホニルスチルベン誘導体
について 1.0 ないし8当量が用いられる。
の用いた式 IV のアリールスルホニルスチルベン誘導体
について 1.0 ないし8当量が用いられる。
【0022】更に、本発明の対象はまた、式 II の置換
されたベンジルアリールスルホンの製造方法であり、こ
れは下記の式 V、すなわち Ar-SO2 (-)Kat(+) ・・・・V においてAr は前記の意味を有し、Kat(+)は Li(+)、 N
a(+)、K(+)または NR4 (+) を意味し、その際 Rは1ない
し8個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。式V
のアリールスルフィン酸の塩を下記の式 VI 、すなわち
されたベンジルアリールスルホンの製造方法であり、こ
れは下記の式 V、すなわち Ar-SO2 (-)Kat(+) ・・・・V においてAr は前記の意味を有し、Kat(+)は Li(+)、 N
a(+)、K(+)または NR4 (+) を意味し、その際 Rは1ない
し8個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。式V
のアリールスルフィン酸の塩を下記の式 VI 、すなわち
【0023】
【化14】 において R1、A1、 Z1、m および nは前記の意味を有し、
そして Xは -OSO2R'(ここで R' は1ないし 12 個の炭
素原子を有するアルキル、アリール、またはパーフルオ
ロアルキルである)、Cl、BrまたはIを意味する。前記
の式VIの置換されたベンジルハロゲニドと反応させるこ
とよりなる。
そして Xは -OSO2R'(ここで R' は1ないし 12 個の炭
素原子を有するアルキル、アリール、またはパーフルオ
ロアルキルである)、Cl、BrまたはIを意味する。前記
の式VIの置換されたベンジルハロゲニドと反応させるこ
とよりなる。
【0024】本発明の更にもう一つの対象は式 II のベ
ンジルアリールスルホン化合物であって、特に下記の式
IIa
ンジルアリールスルホン化合物であって、特に下記の式
IIa
【0025】
【化15】 においてm および nは前記の意味を有し、alkyl は1な
いし8個の炭素原子を有するアルキル基を意味し、
いし8個の炭素原子を有するアルキル基を意味し、
【0026】
【化16】 は下記の式、すなわち
【0027】
【化17】 を意味し、qは零または1をそれぞれ意味する。
【0028】本発明の方法により製造される式Iのトラ
ン化合物は以下にあげる各従属式Iaないし Io の好まし
いトラン化合物を包含する:
ン化合物は以下にあげる各従属式Iaないし Io の好まし
いトラン化合物を包含する:
【0029】
【化18】
【0030】
【化19】 好ましい R1 及び R2 の基は例えば、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシルのよ
うな1ないし 12 個の炭素原子を有するアルキル基、例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、ヘキソキシ、ヘキシロキシ、ヘプチロキシ、オ
クチロキシ、ノニロキシ、デシロキシ、ウンデシロキシ
およびドデシロキシのようなアルコキシ基及び例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブ
トキシメチル、ペントキシメチル、ヘキソキシメチルあ
るいはメトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエ
チル、ブトキシエチルまたはペントキシエチルのような
オキサアルキル基である。
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オ
クチル、ノニル、デシル、ウンデシル又はドデシルのよ
うな1ないし 12 個の炭素原子を有するアルキル基、例
えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、ヘキソキシ、ヘキシロキシ、ヘプチロキシ、オ
クチロキシ、ノニロキシ、デシロキシ、ウンデシロキシ
およびドデシロキシのようなアルコキシ基及び例えばメ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブ
トキシメチル、ペントキシメチル、ヘキソキシメチルあ
るいはメトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエ
チル、ブトキシエチルまたはペントキシエチルのような
オキサアルキル基である。
【0031】R2 は好ましくは F、Cl、CN、CF3、 OCF3
または OCF2H、特に Fまたは OCF3をも意味する。
または OCF2H、特に Fまたは OCF3をも意味する。
【0032】本発明の方法の出発化合物として必要な置
換されたベンズアルデヒド化合物は公知であるか、また
は公知の方法によって容易に製造できるものである。
換されたベンズアルデヒド化合物は公知であるか、また
は公知の方法によって容易に製造できるものである。
【0033】式 II のベンジルアリールスルホン化合物
は新規であって、アリールスルホン酸塩と式 VI のベン
ジル誘導体との反応によって容易に入手することができ
る。式VI のベンジル誘導体は公知であるか、または公
知の方法によって容易に製造できるものである。
は新規であって、アリールスルホン酸塩と式 VI のベン
ジル誘導体との反応によって容易に入手することができ
る。式VI のベンジル誘導体は公知であるか、または公
知の方法によって容易に製造できるものである。
【0034】この製造方法の実施は簡単であり、その際
各出発物質を極性の、好ましくは非プロトン性溶媒、特
にジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたは
ヘキサメチル燐酸トリアミドのようなアミド、あるいは
ジメチルスルホンのようなスルホンの中で -20℃と +70
℃との間、好ましくは0℃と 35 ℃との間の温度で、常
圧のもとに互いに反応させることができる。
各出発物質を極性の、好ましくは非プロトン性溶媒、特
にジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドンまたは
ヘキサメチル燐酸トリアミドのようなアミド、あるいは
ジメチルスルホンのようなスルホンの中で -20℃と +70
℃との間、好ましくは0℃と 35 ℃との間の温度で、常
圧のもとに互いに反応させることができる。
【0035】トラン化合物製造のための本発明の製造方
法の反応の実施は簡単であり、その際各出発物質を -50
℃と 100℃との間、好ましくは -20℃と +50℃との間、
特に0℃と 35 ℃との間の温度で加圧または減圧のもと
で、好ましくは常圧において反応させることができる。
法の反応の実施は簡単であり、その際各出発物質を -50
℃と 100℃との間、好ましくは -20℃と +50℃との間、
特に0℃と 35 ℃との間の温度で加圧または減圧のもと
で、好ましくは常圧において反応させることができる。
【0036】好都合には置換されたアリールベンジルス
ルホンを不活性溶剤中に予め加えておき、これに縮合剤
を加え、次にこれに置換されたベンズアルデヒドを加え
る。本発明の方法の特に好ましい実施態様の一つは、反
応容器中に加えてあるベンズアルデヒドに置換されたベ
ンジルアリールスルホンと塩基との混合物を加えること
である。この態様においてはそのベンジルアリールスル
ホン化合物の、その既に生じている式 IV のアリールス
ルホニルスチルベン誘導体への可能なミカエル付加反応
は完全に抑制される。
ルホンを不活性溶剤中に予め加えておき、これに縮合剤
を加え、次にこれに置換されたベンズアルデヒドを加え
る。本発明の方法の特に好ましい実施態様の一つは、反
応容器中に加えてあるベンズアルデヒドに置換されたベ
ンジルアリールスルホンと塩基との混合物を加えること
である。この態様においてはそのベンジルアリールスル
ホン化合物の、その既に生じている式 IV のアリールス
ルホニルスチルベン誘導体への可能なミカエル付加反応
は完全に抑制される。
【0037】化学量論量以下の量の強塩基の存在のもと
での式 II のベンジルアリールスルホン化合物と式 III
のベンズアルデヒドとの反応において、用いたアリール
ベンジルスルホンに対して好ましくは 0.1ないし 0.9モ
ル、特に 0.15 ないし 0.7モルの塩基を用いたときに、
まず最初に式 IV のアリールスルホニルスチルベンが生
ずる。この物質は通常の後処理によって分離し、精製す
ることができるか、あるいはまた後処理することなく更
に追加量の強塩基を加えて反応させることによって式I
のトラン化合物に変換することができ、その際その縮合
反応に際して生じた水は過剰量の強塩基に結合する。
での式 II のベンジルアリールスルホン化合物と式 III
のベンズアルデヒドとの反応において、用いたアリール
ベンジルスルホンに対して好ましくは 0.1ないし 0.9モ
ル、特に 0.15 ないし 0.7モルの塩基を用いたときに、
まず最初に式 IV のアリールスルホニルスチルベンが生
ずる。この物質は通常の後処理によって分離し、精製す
ることができるか、あるいはまた後処理することなく更
に追加量の強塩基を加えて反応させることによって式I
のトラン化合物に変換することができ、その際その縮合
反応に際して生じた水は過剰量の強塩基に結合する。
【0038】この場合に式 II の化合物と式 IIIの化合
物との反応のために用いた塩基と同じ強塩基を用いるの
が好ましい。一般にこの脱離反応のためには用いた式 I
V のアリールスルホニルエテンに対して 1.0 ないし 1
0 当量、好ましくは1ないし8当量の強塩基が用いられ
る。
物との反応のために用いた塩基と同じ強塩基を用いるの
が好ましい。一般にこの脱離反応のためには用いた式 I
V のアリールスルホニルエテンに対して 1.0 ないし 1
0 当量、好ましくは1ないし8当量の強塩基が用いられ
る。
【0039】もう一つの好ましい実施態様において式 I
V の化合物はこの化合物が望ましくない副反応生成物と
容易に分離することができ、引き続いて強塩基によって
式Iのトラン化合物に変換することができるので、これ
を分離して精製する。
V の化合物はこの化合物が望ましくない副反応生成物と
容易に分離することができ、引き続いて強塩基によって
式Iのトラン化合物に変換することができるので、これ
を分離して精製する。
【0040】式 IV の化合物を強塩基で処理するための
稀釈剤としては、強塩基との種々の反応に通常に用いら
れる溶媒があげられ、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランまたはメチル-tert-ブチルエーテルのよう
なエーテル類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
ベンゾール、トルオール、キシロールまたはシクロヘキ
サンのような炭化水素類、例えばジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリ
アミドのようなアミド類あるいはこれらの溶媒の混合物
である。これらの稀釈剤には、例えばテトラメチルエチ
レンジアミン(TMEDA)、ジメチルプロピレン尿素
(DMPU)のような共溶媒、或いは例えば 18-クラウ
ン-6のようなクラウンエーテル類も加えることができ
る。その溶媒の量は重要ではないが、一般に用いた式 I
V の化合物の1モル当たり 100 ないし 5000 gの溶媒
を使用することができる。好ましい強塩基は、 例えば H
ouse著Bejamin 社刊行の "Modern Synthitic Reactio
n"、第2版 1972 の第 546 -547頁に記載されている。
稀釈剤としては、強塩基との種々の反応に通常に用いら
れる溶媒があげられ、例えばジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフランまたはメチル-tert-ブチルエーテルのよう
なエーテル類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、
ベンゾール、トルオール、キシロールまたはシクロヘキ
サンのような炭化水素類、例えばジメチルホルムアミ
ド、N−メチルピロリドンまたはヘキサメチル燐酸トリ
アミドのようなアミド類あるいはこれらの溶媒の混合物
である。これらの稀釈剤には、例えばテトラメチルエチ
レンジアミン(TMEDA)、ジメチルプロピレン尿素
(DMPU)のような共溶媒、或いは例えば 18-クラウ
ン-6のようなクラウンエーテル類も加えることができ
る。その溶媒の量は重要ではないが、一般に用いた式 I
V の化合物の1モル当たり 100 ないし 5000 gの溶媒
を使用することができる。好ましい強塩基は、 例えば H
ouse著Bejamin 社刊行の "Modern Synthitic Reactio
n"、第2版 1972 の第 546 -547頁に記載されている。
【0041】特に好ましいものは金属アルコラート類、
特に第1級、第2級および第3級のナトリウムアルコラ
ート及びカリウムアルコラート類、特にカリウム-tert-
ブチラートである。
特に第1級、第2級および第3級のナトリウムアルコラ
ート及びカリウムアルコラート類、特にカリウム-tert-
ブチラートである。
【0042】この他にリチウムジイソプロピルアミド、
リチウムシクロヘキシルイソプロピルアミド、リチウム
ジシクロヘキシルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン-1- イル- リチウム、リチウムヘキサメチルジシラ
ザン、カリウムヘキサメチルジシラザンまたはブロモマ
グネシウムジイソプロピルアミドのような有機アミド塩
基を使用することができる。
リチウムシクロヘキシルイソプロピルアミド、リチウム
ジシクロヘキシルアミド、2,2,6,6-テトラメチルピペリ
ジン-1- イル- リチウム、リチウムヘキサメチルジシラ
ザン、カリウムヘキサメチルジシラザンまたはブロモマ
グネシウムジイソプロピルアミドのような有機アミド塩
基を使用することができる。
【0043】その反応混合物の後処理およびそれら生成
物の分離は通常の方法で行われ、例えばその反応混合物
を水および/または氷、あるいは希酸に注ぎ、その後水
性相の分離後に、ジ置換またはポリ置換されたトラン化
合物を蒸留、クロマトグラフィーおよび/または結晶化
によって得る。
物の分離は通常の方法で行われ、例えばその反応混合物
を水および/または氷、あるいは希酸に注ぎ、その後水
性相の分離後に、ジ置換またはポリ置換されたトラン化
合物を蒸留、クロマトグラフィーおよび/または結晶化
によって得る。
【0044】本発明の方法によって式Iのジ置換または
ポリ置換されたトラン化合物を容易に入手できる各出発
物質から、入手の困難な触媒を用いることなく、かつ極
端な反応温度を避けて高収率で初めて製造することがで
きるようになった。
ポリ置換されたトラン化合物を容易に入手できる各出発
物質から、入手の困難な触媒を用いることなく、かつ極
端な反応温度を避けて高収率で初めて製造することがで
きるようになった。
【0045】従ってこの方法は液晶のためのトラン合成
の分野において画期的な進歩をもたらすものである。
の分野において画期的な進歩をもたらすものである。
【0046】
【実施例】以下に実施例によって本発明を説明するが、
これは本発明になんらの制限を加えるものではない。
これは本発明になんらの制限を加えるものではない。
【0047】以下の例においては下記の省略記号を用い
る: KOT: カリウム-tert-ブチラート NMP: 1-メチル-2- ピロリドン THF: テトラヒドロフラン K : 結晶性 S : スメクチック N : ネマチック I : 等方性 〔これらの記号の間に記載された数字はそれぞれの相転
位温度を℃の単位で示す〕例 1 1a) trans-4-(4- ペンチルシクロヘキシル)-ベンジルフ
ェニルスルホン 純度98%のベンゾールスルフィン酸ナトリウム塩245g
(1.46 モル) を1600mlのNMPに懸濁させ、NMP 250
ml 中に 350g(1.08モル)の trans-4-(4-ペンチルシ
クロヘキシル)-ベンジルブロミド(融点 28 - 31℃)を
溶解させた溶液とこの懸濁液を 10 - 17℃で2時間以内
に混合する。この懸濁液を室温において更に5時間後攪
拌し、1夜静置し、次に5lの水と 3.7lのトルオール
との混合物の中に攪拌しながら流し込む。下層の水性相
をトルオール懸濁液と分離し、そして各1リットルのト
ルオールで2回抽出する。合一した有機相を真空中で 4
0 ℃において蒸発濃縮し、-30℃に冷却し、吸引濾過す
る。結晶を 0.6リットルのトルオールで洗浄した後に、
この結晶を 30℃で真空中で乾燥する。収量=380 g
(理論値の 91.3 %)、 融点:152.5 - 155℃。
る: KOT: カリウム-tert-ブチラート NMP: 1-メチル-2- ピロリドン THF: テトラヒドロフラン K : 結晶性 S : スメクチック N : ネマチック I : 等方性 〔これらの記号の間に記載された数字はそれぞれの相転
位温度を℃の単位で示す〕例 1 1a) trans-4-(4- ペンチルシクロヘキシル)-ベンジルフ
ェニルスルホン 純度98%のベンゾールスルフィン酸ナトリウム塩245g
(1.46 モル) を1600mlのNMPに懸濁させ、NMP 250
ml 中に 350g(1.08モル)の trans-4-(4-ペンチルシ
クロヘキシル)-ベンジルブロミド(融点 28 - 31℃)を
溶解させた溶液とこの懸濁液を 10 - 17℃で2時間以内
に混合する。この懸濁液を室温において更に5時間後攪
拌し、1夜静置し、次に5lの水と 3.7lのトルオール
との混合物の中に攪拌しながら流し込む。下層の水性相
をトルオール懸濁液と分離し、そして各1リットルのト
ルオールで2回抽出する。合一した有機相を真空中で 4
0 ℃において蒸発濃縮し、-30℃に冷却し、吸引濾過す
る。結晶を 0.6リットルのトルオールで洗浄した後に、
この結晶を 30℃で真空中で乾燥する。収量=380 g
(理論値の 91.3 %)、 融点:152.5 - 155℃。
【0048】同様にして下記の各化合物を製造する:
【0049】
【化20】 R1 L1 L2 融点(℃) ────────────────────────── C3H7-(1,4-Cyh)- *) H H 150 - 151 CF3-O- H H 205 - 207 C2H5-O- F F 134 - 136 ────────────────────────── 註: *) C3H7-1,4- シクロヘキシレン、すなわち
【0050】
【化21】 1b) 1-[trans-4-(4-ペンチルシクロヘキシル)-フェニ
ル]-1-フェニルスルホニル-2-(4-トリフルオロメトキシ
フェニル)-エテン 3100 ml のNMPの中に 360g(0.936モル)の trans-4
-(4-ペンチルシクロヘキシル)ベンジルフェニルスルホ
ンを懸濁し、この -11℃に冷却した懸濁液の中にKOT
18 gを加える。次にこの懸濁液に18分間以内に−11
ないし−8℃において 219.4g(1.124 モル)の 4- ト
リフルオロメトキシベンズアルデヒドを加える。この反
応混合物を更に 2.2時間 -8℃において攪拌する。次に
この反応混合物を冷却しながら約 10 分間以内に 4600
mlの水中に注ぐ。この懸濁液をさらに1時間攪拌し、20
℃で吸引濾過する。結晶を 5000 mlの水で洗浄した後、
真空中、 40℃で乾燥する。得られた粗生成物(520 g)
を4000 ml のイソプロパノールから再結晶する。収量=
431g( 理論値の 82.7 %)、融点:134.7 - 139.9℃。 1c) 4-(4-ペンチルシクロヘキシル)-4'- トリフルオロ
メトキシトラン 3400 ml の乾燥THFの中に425 g(0.763モル)の 1-
[trans-4-(4- ペンチルシクロヘキシル)-フェニル]-1-
フェニルスルホニル-2-(4-トリフルオロメトキシフェニ
ル)-エテンを溶解させ、その冷却された溶液に 342.5g
(3.052 モル)のKOTを加える。次にこの反応混合物
を氷水で冷却しながら3時間攪拌し、次いでこれを 190
gの塩化ナトリウムを含んだ 1900 mlの水と 1900 mlの
トルオールとの混合物に注ぐ。水性相を分離した後にこ
れをそれぞれ 500 ml のトルオールで2回抽出する。合
一した有機相をそれぞれ 1000 mlの水で3回洗浄し、硫
酸ナトリウムの上で乾燥させ、真空中、40 ℃において蒸
発濃縮する。残渣(353 g)をイソプロパノールから2
回再結晶する。 収量=230 g( 理論値の72.7%)。 K 50 SB 134 SA 167 N 189.9I 同様にして下記の各化合物を製造する:
ル]-1-フェニルスルホニル-2-(4-トリフルオロメトキシ
フェニル)-エテン 3100 ml のNMPの中に 360g(0.936モル)の trans-4
-(4-ペンチルシクロヘキシル)ベンジルフェニルスルホ
ンを懸濁し、この -11℃に冷却した懸濁液の中にKOT
18 gを加える。次にこの懸濁液に18分間以内に−11
ないし−8℃において 219.4g(1.124 モル)の 4- ト
リフルオロメトキシベンズアルデヒドを加える。この反
応混合物を更に 2.2時間 -8℃において攪拌する。次に
この反応混合物を冷却しながら約 10 分間以内に 4600
mlの水中に注ぐ。この懸濁液をさらに1時間攪拌し、20
℃で吸引濾過する。結晶を 5000 mlの水で洗浄した後、
真空中、 40℃で乾燥する。得られた粗生成物(520 g)
を4000 ml のイソプロパノールから再結晶する。収量=
431g( 理論値の 82.7 %)、融点:134.7 - 139.9℃。 1c) 4-(4-ペンチルシクロヘキシル)-4'- トリフルオロ
メトキシトラン 3400 ml の乾燥THFの中に425 g(0.763モル)の 1-
[trans-4-(4- ペンチルシクロヘキシル)-フェニル]-1-
フェニルスルホニル-2-(4-トリフルオロメトキシフェニ
ル)-エテンを溶解させ、その冷却された溶液に 342.5g
(3.052 モル)のKOTを加える。次にこの反応混合物
を氷水で冷却しながら3時間攪拌し、次いでこれを 190
gの塩化ナトリウムを含んだ 1900 mlの水と 1900 mlの
トルオールとの混合物に注ぐ。水性相を分離した後にこ
れをそれぞれ 500 ml のトルオールで2回抽出する。合
一した有機相をそれぞれ 1000 mlの水で3回洗浄し、硫
酸ナトリウムの上で乾燥させ、真空中、40 ℃において蒸
発濃縮する。残渣(353 g)をイソプロパノールから2
回再結晶する。 収量=230 g( 理論値の72.7%)。 K 50 SB 134 SA 167 N 189.9I 同様にして下記の各化合物を製造する:
【0051】
【化22】 R1 L1 L2 R2 ──────────────────────────────────── C5H11-(1,4-Cyh)- *) F F OC2H5 K 73 N 217.1 I C3H7- F F OC2H5 K 68 I C5H11- H F Cl K 50 I C3H7-(1,4-Cyh)- *) H H F K 94 S (83) N 192.2 I C3H7-(1,4-Cyh)- *) H H OCF2H K 87 SB 108 SA 132 N 212 I C5H11-(1,4-Cyh)- *) H H OCF2H K 62 SB 123 SA 152 N 203 I C3H7-(1,4-Cyh)- *) H F OCH3 K 107 N 208.4 I C5H11- F F OC2H5 K 57 N 60.9 I C3H7-(1,4-Cyh)- *) F H OC2H5 K 84 N 228.1 I C3H7-(1,4-Cyh)- *) H H OCF3 K 88 SB 125 SA 162 N 198 I 註: *) Cyh は上記註の中の環状化合物を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 17/33 9280−4H 25/24 9280−4H 41/18 43/225 C 8619−4H 255/46 6917−4H 255/50 6917−4H 317/22 7419−4H (72)発明者 ルドルフ クルーク ドイツ連邦共和国 デー−6100 ダルムシ ユタツトフランクフルター シユトラーセ 250 (72)発明者 デトレフ パウルート ドイツ連邦共和国 デー−6100 ダルムシ ユタツトフランクフルター シユトラーセ 250 (72)発明者 フオルカー ライフエンラート ドイツ連邦共和国 デー−6100 ダルムシ ユタツトフランクフルター シユトラーセ 250 (72)発明者 エケハルト バルトマン ドイツ連邦共和国 デー−6100 ダルムシ ユタツトフランクフルター シユトラーセ 250
Claims (11)
- 【請求項1】 置換されたベンジルアリールスルホンを
縮合剤の存在のもとに置換されたベンズアルデヒドと反
応させ、その得られたアリールスルホンスチルベン誘導
体を強塩基によって処理することを特徴とするジ置換ま
たはポリ置換されたトラン化合物を製造する方法。 - 【請求項2】 式I、すなわち 【化1】 においてR1 とR2 とはそれぞれ互いに独立に、それぞ
れ18個までの炭素原子を有するアルキルまたはアルケ
ニルを意味し、その際非隣接の1つまたは2つのCH2-基
も -O-または -S-によって置換されていることが出来
て、基R1 およびR2 のうちの一方は F、Cl、CN、CF3、OCF
3 または OCF2Hであることも意味し、 A1 とA2 とはそれぞれ互いに独立に 1,4- シクロヘキ
シレン、1,4-フェニレン、2-または 3- フルオル-1,4-
フェニレン、2,3-ジフルオロ-1,4- フェニレン、2,6-ジ
フルオロ-1,4- フェニレン、3,5-ジフルオロ-1,4- フェ
ニレン、ジオキサン-2,5- ジイル、ピリジン-2,5- ジイ
ル、またはビリミジン-2,5- ジイルを意味し、 Z1 とZ2 とはそれぞれ互いに独立に -CH2CH2- 、-CH2
O-、-OCH2-、-C≡C-または単結合を意味し、 mとpとはそれぞれ0または1を意味し、 nとoとはそれぞれ0、1または2を意味する、前記の
式Iのジ置換またはポリ置換されたトラン化合物を製造
するための請求項1の方法において、式 II、すなわち 【化2】 においてR1、A1、Z1、mおよびnが前記の意味を有し、
更にArが非置換のフエニル、 またはハロゲン、1ないし3個の炭素原子を有するアル
キル基またはアルコキシ基あるいはニトロ基によってモ
ノ置換またはポリ置換されているフェニルを意味する、 前記の式IIの置換されたベンジルアリールスルホンを縮
合剤の存在のもとに、式III、すなわち 【化3】 においてR2 、A2 、Z2 、o及びpが前記の意味を有
する、前記の式III の置換されたベンズアルデヒドと反
応させ、その後に式 IV 、すなわち 【化4】 においてR1 、R2 、A1 、A2 、Z1 、Z2 、m、
n、oおよびpが前記の意味を有する、前記の式IVのア
リールスルホンスチルベン誘導体を分離し、この物質を
強塩基により処理することを特徴とする式I、すなわち 【化5】 においてR1 、R2 、A1 、A2 、Z1 、Z2 、m、
p、 nおよびoは前記の意味を有する、前記の式I のジ
置換またはポリ置換されたトラン化合物製造のための請
求項1による方法。 - 【請求項3】 反応容器中にある置換されたベンズアル
デヒドに置換されたベンジルアリールスルホンと塩基と
の混合物を加えることを特徴とする請求項1あるいは2
の少なくとも一項の方法。 - 【請求項4】 反応を -50℃と +100 ℃間の温度におい
て実施することを特徴とする請求項1ないし3の少なく
とも一項の方法。 - 【請求項5】 用いた式 IV のアリールスルホンスチル
ベンについて1.0ないし8当量を用いることを特徴とす
る請求項2ないし4の少なくとも一項の方法。 - 【請求項6】 塩基として金属アルコラートまたは金属
アミドを用いることを特徴とする請求項1ないし5の少
なくとも一項の方法。 - 【請求項7】 塩基として第1級または第2級の金属ア
ルコラートを用いることを特徴とする請求項6の方法。 - 【請求項8】 塩基としてカリウム-tert-ブチラート、
ハロゲノマグネシウムジイソプロピルアミドまたはリチ
ウムジイソプロピルアミドを用いることを特徴とする請
求項6の方法。 - 【請求項9】 式 II の置換されたベンジルアリールス
ルホンを製造するに当たり、式 V、すなわち Ar-SO2 (-)Kat(+) V においてAr は前記の意味を有し、 Kat(+)は Li(+)、 Na(+)、K(+)または NR4 (+) を意味
し、その際R は1ないし8個の炭素原子を有するアル
キル基を意味する前記の式Vベンジルアリール酸の塩を
式 VI 、すなわち 【化6】 においてR1、A1、Z1、m および nは前記の意味を有し、そ
して Xは -OSO2R'(ここで R'は1ないし 12 個の炭素
原子を有するアルキル、 アリール、またはパーフルオロ
アルキルである)、Cl、BrまたIを意味する前記の式VIの
置換されたベンジルハロゲニドと反応させることを特徴
とする式IIの置換されたベンジルアリールスルホンの製
造方法。 - 【請求項10】 前記の式 II のベンジルアリールスル
ホン化合物。 - 【請求項11】 下記の式 IIaのベンジルアリールスル
ホン化合物 【化7】 においてm および nは前記の意味を有し、 alkyl は1ないし8個の炭素原子を有するアルキル基を
意味し、 【化8】 は式、すなわち 【化9】 を意味し、 qは0または1を意味する。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4105743.0 | 1991-02-23 | ||
| DE4105743A DE4105743C1 (en) | 1991-02-23 | 1991-02-23 | Benzyl:aryl:sulphone(s) useful as LCD - are produced by reacting salt of aryl:sulphinic acid with corresp. benzyl halide |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05112470A true JPH05112470A (ja) | 1993-05-07 |
| JP3245208B2 JP3245208B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=6425752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07000092A Expired - Fee Related JP3245208B2 (ja) | 1991-02-23 | 1992-02-21 | トラン化合物の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3245208B2 (ja) |
| DE (1) | DE4105743C1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009511431A (ja) * | 2005-09-20 | 2009-03-19 | ロリク アーゲー | 官能化された光反応性化合物 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10222104A1 (de) | 2002-05-17 | 2003-12-04 | Helm Ag | Verfahren zur Herstellung von N-(4'-Cyano-3'-trifluormethyl)-3-(4"-fluorphenylsulfonyl)-2-hydroxy-2-methylpropionamid |
| DE102006021019A1 (de) | 2005-06-03 | 2006-12-07 | Merck Patent Gmbh | Tolane, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
-
1991
- 1991-02-23 DE DE4105743A patent/DE4105743C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-02-21 JP JP07000092A patent/JP3245208B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009511431A (ja) * | 2005-09-20 | 2009-03-19 | ロリク アーゲー | 官能化された光反応性化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4105743C1 (en) | 1992-10-01 |
| JP3245208B2 (ja) | 2002-01-07 |
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