JPH05112686A - 安定化されたポリマー混合物 - Google Patents

安定化されたポリマー混合物

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JPH05112686A
JPH05112686A JP4059491A JP5949192A JPH05112686A JP H05112686 A JPH05112686 A JP H05112686A JP 4059491 A JP4059491 A JP 4059491A JP 5949192 A JP5949192 A JP 5949192A JP H05112686 A JPH05112686 A JP H05112686A
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carbon atoms
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styrene
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JP4059491A
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Bernard Dr Gilg
ギルグ ベルナルド
Andre Schmitter
シユミツター アンドレ
Gerhard Rytz
リツツ ゲルハルト
Werner Stauffer
スタウフエル ヴエルナー
Margot Dr Clauss
クラウス マルゴツト
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Ciba Geigy AG
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/04—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L9/00—Compositions of homopolymers or copolymers of conjugated diene hydrocarbons
    • C08L9/06—Copolymers with styrene

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光による分解に対して安定化されたポリマー
混合物を得る。 【構成】 （ａ）スチレンまたはα−メチルスチレン及
び少なくとも１個のコモノマーから作られる共重合体
で、該共重合体は立体障害性アミンの不飽和誘導体の共
重合により変性された架橋エラストマー粒子を含むも
の、及び（ｂ）熱可塑性ポリマーからなるポリマー混合
物、該ポリマー混合物の製造方法、及び光分解に対して
ポリマーを安定化するため、上記成分（ａ）を使用する
方法。 【効果】 上記（ａ）成分は、立体障害アミンにより安
定化することができない熱可塑性ポリマー（例えば、ポ
リカーボネート）であっても有効に安定化することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光安定化ポリマー混合
物に関する。光による分解に対してポリマーを安定化す
るため、光安定剤、特に立体障害性アミンを使用するこ
とは、幾つかの出版物に記載されている。しかし、立体
障害性アミンが、塩基に対するある種のポリマーの反応
性のため、そのようなポリマーの光安定化に不適当であ
ることもまた、公知である。立体障害性アミンにより安
定化されることができないポリマーの公知な例は、ポリ
カーボネートである。
【０００２】
【従来の技術】驚いたことに、立体障害性アミンが適当
な形態であり、そしてこの形態で安定化されるべきポリ
マーと混合されるとき、塩基に対して反応活性なポリマ
ーでさえ、立体障害性アミンによる光分解に対して安定
化されうることが見い出された。この形態のアミンは、
立体障害性アミンにより慣用の方法で保護されうるポリ
マーを安定化するために使用されうる。
【０００３】
【課題を解決するための手段】それゆえ、本発明は、
（ａ）スチレンまたはα−メチルスチレン及び少なくと
も１個のコモノマーから作られる共重合体で、該共重合
体は立体障害性アミンの不飽和誘導体の共重合により変
性された架橋エラストマー粒子を含むもの、及び（ｂ）
熱可塑性ポリマーからなるポリマー混合物に関する。
【０００４】本発明はまた、本発明によるポリマー混合
物の製造方法、及び光分解に対してポリマーを安定化す
るため、上記成分（ａ）を使用する方法に関する。
【０００５】本発明のポリマー混合物における成分
（ａ）は、ＥＰ−Ａ−３３７４３１号に開示されてお
り、好ましくは変性された架橋エラストマーにスチレン
またはα−メチルスチレン及び少なくとも１個のコモノ
マーのグラフト共重合体である。
【０００６】コモノマーはいずれの重合可能な不飽和化
合物、例えば、アクリル酸、メタクリル酸またはマレイ
ン酸誘導体またはスチレン誘導体でもよい。好ましいコ
モノマーはアクリロニトリル、及びアルキル部分に１な
いし４個の炭素原子を有するアルキルアクリレート及び
アルキルメタクリレート、特にメチルアクリレート及び
メチルメタクリレートである。２個のコモノマー、例え
ば、アクリロニトリル及びメチルメタクリレートの混合
物、またはアクリロニトリルまたはメチルメタクリレー
ト及び少量のビニルアセテート、ブチルアクリレートま
たはマレートの混合物を使用できる。
【０００７】共重合体は好ましくは、スチレン及びアク
リロニトリルまたはスチレン及びメチルメタクリレート
から製造される。
【０００８】エラストマーは、グラフト共重合反応に適
当ないずれのエラストマーでもよい。実例はポリブタジ
エン、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ブタジ
エン−スチレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエ
ン ターポリマー、ポリブチルアクリレート及びその共
重合体である。エラストマーは好ましくは、ポリブタジ
エンである。これらのエラストマー粒子は公知の方法、
例えば、塊状重合または懸濁重合、特に乳化重合により
製造される。エラストマー粒子は弱く架橋され、一般に
平均直径０．１ないし５０μｍ、好ましくは０．５ない
し５μｍを持つ。
【０００９】立体障害性アミンによるエラストマーの変
性は、共重合またはグラフト化により行われる。共重合
はエラストマー製造中、または架橋されたエラストマー
に対するグラフト共重合するとき行われる。立体障害性
アミンとのグラフト化は、スチレン／コモノマー混合物
とのグラフト化と同時に行われる。これは好ましくは二
段階で行われ、第一に立体障害性アミンの不飽和誘導体
をグラフト化し、引続きスチレン／コモノマー混合物を
グラフト化することによる。グラフト重合は好ましく
は、エマルジョン中で行われる。
【００１０】立体障害性アミンの不飽和誘導体は好まし
くは、２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの共重
合可能な不飽和誘導体である。ここで不飽和基はピペリ
ジン環の４位および／または１位に置換しうる。不飽和
基の例は特に、アクリロイル基及びメタクリロイル基、
さらにマレイン酸基、ビニルエーテル及びアリルエーテ
ル基、アリルアミノ基及びクロトニル基である。
【００１１】エラストマーとの共重合は好ましくは、次
式Ｉ
【化４】 （式中、ｎは１または２を表わし、Ｘは−Ｏ−または−
Ｎ（Ｒ3 ）−を表わし、Ｒ1 はｎが１のとき、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし２０
のアルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
ェニル基、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアル
キル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
り置換されたフェニル基、またはＲ4 ＯＯＣ−ＣＨ＝Ｃ
Ｈ−基を表わし、そしてｎが２のとき、Ｒ1 は炭素原子
数２ないし１０のアルキレン、ビニレン、炭素原子数６
ないし１２のアリーレンまたはシクロヘキシレンを表わ
し、Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１ない
し１８のアルコキシ基、−Ｏ−，炭素原子数５ないし８
のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルコキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルカノイ
ル基、炭素原子数３ないし６のアルケノイル基または次
式ＩＩＩ
【化５】 で表わされる基を表わし、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数
１ないし１２のアルキル基、または炭素原子数５ないし
８のシクロアルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わし、Ｒ5 は
水素原子、ＣＨ3 またはＣＮを表わし、そしてＲ6 は水
素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、または
フェニル基を表わし、少なくとも１個の置換基Ｒ1 及び
Ｒ2 はエチレン性二重結合を含む）で表わされる化合物
を使用して行われる。
【００１２】次式ＩＩ
【化６】 （式中、Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１
ないし１８のアルコキシ基、−Ｏ−，炭素原子数５ない
し８のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフ
ェニルアルコキシ基または炭素原子数２ないし１０のア
ルカノイル基を表わす）で表わされる化合物を使用する
のが好ましい。
【００１３】式Ｉの化合物のうち、好ましいものを以下
に示す。 ａ）ｎが１を表わし、Ｘが−Ｏ−を表わし、Ｒ1 が炭素
原子数２ないし５のアルケニル基を表わし、Ｒ2 が水素
原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、
ベンジル基、またはアセチル基を表わす化合物、 ｂ）ｎが１または２を表わし、Ｘが−Ｏ−を表わし、ｎ
が１のとき、Ｒ1 が炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、シクロヘキシル基またはフェニル基を表わし、そし
てｎが２のとき、Ｒ1 が炭素原子数２ないし８のアルキ
レンを表わし、Ｒ2 が炭素原子数３ないし６のアルケノ
イル基を表わす化合物、 ｃ）ｎが１を表わし、Ｘが−Ｏ−を表わし、Ｒ1 が炭素
原子数２ないし５のアルケニル基を表わし、Ｒ2 が式Ｉ
ＩＩ（Ｒ5 及びＲ6 が水素原子またはＣＨ3 を表わす）
の基を表わす化合物。
【００１４】１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
アクリロイルオキシピペリジンが特に好ましい。
【００１５】これらの式のうち、アルキル基Ｒ1 ，
Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 及びＲ6 は直鎖または分枝状でもよ
い。実例はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル
基、２−エチルヘキシル基、ｎ−デシル基、イソウンデ
シル基、及びｎ−ドデシル基である。アルキル基Ｒ1 は
また、例えば、テトラデシル基、ヘキサデシル基または
オクタデシル基でもよい。
【００１６】炭素原子数２ないし５のアルケニル基Ｒ1
は例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル
基、ブテニル基またはペンテニル基、特にビニル基また
は２−プロペニル基（イソプロペニル基）でもよい。炭
素原子数３ないし５のアルケニル基Ｒ2 は好ましくはア
リル基である。
【００１７】炭素原子数５ないし８のシクロアルキル基
Ｒ1 及びＲ3 は例えば、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基またはシクロオクチル基、特にシクロヘキシル基
である。
【００１８】炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基Ｒ1 及びＲ2 は例えば、ベンジル基、フェニルエチル
基またはフェニルプロピル基、特にベンジル基である。
【００１９】炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基Ｒ
2 、特に炭素原子数６ないし１０のアルコキシ基Ｒ2 、
炭素原子数５ないし８のシクロアルコキシ基Ｒ2 は特
に、シクロヘキシルオキシ基を表わし、炭素原子数７な
いし９のフェニルアルコキシ基Ｒ2 は特に、ベンジルオ
キシ基またはフェニルエトキシ基である。
【００２０】炭素原子数２ないし１０のアルカノイル基
Ｒ2 は例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイ
ル基、イソブチロイル基、ｎ−ペンタノイル基、第三ペ
ンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基または
イソデカノイル基、特にアセチル基である。炭素原子数
３ないし６のアルケノイル基Ｒ2 は特に、アクリロイル
基またはメタクリロイル基である。
【００２１】炭素原子数２ないし１０のアルキレン基Ｒ
1 は例えば、ジ−、トリ−、テトラ−、ヘキサ−、オク
タ−またはデカ−メチレン、２，２−ジメチルトリメチ
レンまたは１，３，３−トリメチルテトラメチレンであ
る。
【００２２】炭素原子数６ないし１２のアリーレン基Ｒ
1 は例えば、フェニレン、ナフチレンまたはジフェニレ
ン、特にフェニレンである。
【００２３】式Ｉ及びＩＩのすべての化合物は、少なく
とも１個のエチレン性二重結合を含み、該二重結合は共
重合体可能な化合物を作る。しかし、該化合物はまた、
２個の二重結合を含むことが可能である。そのような化
合物は好ましくは、エラストマー製造中、共重合され
る。
【００２４】式Ｉの化合物の例を以下に示す： １，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル
アクリレート、メタクリレート及びクロトネート、
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニルアク
リレート、メタクリレート及びクロトネート、１−アリ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル
アクリレート、メタクリレート及びクロトネート、１
−ベンジル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル アクリレート、メタクリレート及びクロトネ
ート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）アクリルアミ
ド、モノエチル モノ（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジニル）マレート、ジ（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジニル）フマレート、モ
ノヘキシル Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニル）−Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ，Ｎ’−
ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ニル）−Ｎ，Ｎ’−ジブチルマレイミド、１−アクリロ
イル−２，２，６，６−テトラメチル−４−アセトキシ
ピペリジン、１−メタクリロイル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ブチロイルオキシピペリジン、１−ク
ロトニル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ベンゾ
イルオキシピペリジン、１−アクリロイル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−アクリロイルオキシピペリ
ジン、１−メタクリロイル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−メタクリロイルオキシピペリジン、１−アク
リロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−（４−
クロロベンゾイルオキシ）ピペリジン、ジ（１−アクリ
ロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）セバケート、ジ（１−メタクリロイル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）アジペー
ト、ジ（１−アクリロイル−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）スクシネート、ジ（１−クロ
トノイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）フタレート、Ｎ−（１−アクリロイル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）アセト
アミド、Ｎ−（１−アクリロイル−２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジニル）−Ｎ−ブチルベンズア
ミド、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−メタクリロイル−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−Ｎ，Ｎ’
−ジシクロヘキシルイソフタルアミド、１−（２−アク
リロイルオキシエチル）−４−アクリロイルオキシ−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（２−
メタクリロイルオキシエチル）−４−メタクリロイルオ
キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、及び
１−（２−アクリロイルオキシプロピル）−４−アクリ
ロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン。
【００２５】式ＩＩの化合物の例は、Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）マレイミ
ド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジニル）マレイミド、Ｎ−（１−ベンジル−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）マレイ
ミド、及びＮ−（１−アセチル−２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）マレイミドである。
【００２６】しかし、本発明に使用されうる立体障害性
アミンの不飽和誘導体は、式Ｉ及びＩＩの化合物に決し
て限定されない。原則として、立体障害性アミンの不飽
和誘導体のいずれもが、エラストマー成分との共重合可
能な限り使用されうる。
【００２７】不飽和立体障害性アミンは単独で、または
他の不飽和化合物と一緒に共重合されうる。そのような
コモノマーの例は、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、ア
クリロニトリル及びメタクリロニトリルである。
【００２８】スチレンまたはα−メチルスチレン及びコ
モノマーの混合物は、立体障害性アミンの不飽和誘導体
と一緒にエラストマー粒子にグラフト化されうる。グラ
フト共重合は好ましくは、二段階で行われる。第一段階
では、不飽和立体障害性アミンが単独で、または他の不
飽和化合物と一緒に、エラストマーにグラフト化され
る。第二段階では、スチレンまたはα−メチルスチレン
及びコモノマーの混合物が第一段階の生成物にグラフト
化される。
【００２９】代わりに、不飽和立体障害性アミンでグラ
フト化されたエラストマー粒子が第二段階で、別々に製
造されたスチレンまたはα−メチルスチレンの共重合体
と混合されうる。しかし、スチレン相は好ましくは、変
性されたエラストマーにグラフト化される。
【００３０】明らかに、不飽和立体障害性アミンは、架
橋されたエラストマー粒子上に存在する二重結合で反応
する。グラフト化はエラストマービーズの表面で起き、
グラフト化されたアミンは、完全にまたは部分的にエラ
ストマー粒子を包むことができる。さらに、スチレン及
びコモノマー、例えば、アクリロニトリルがグラフト化
されるとき、全エラストマー粒子が包まれ、そしてエラ
ストマー粒子表面のいずれの自由な場所を占める〔＝成
分（ａ）〕。この方法で、アミンと熱可塑性ポリマー
〔＝成分（ｂ）〕の直接接触は避けられる。
【００３１】電子顕微鏡は、包まれたエラストマー粒子
のコア／シェル構造をはっきり示しているが、アミンと
スチレン共重合体の間に差はない。
【００３２】共重合またはグラフト共重合は慣用な方法
で行われる。詳しくは、例えば、上記ＥＰ−Ａ−３３７
４３１号を参照してほしい。そこには、さらに他の公知
な安定剤、例えば、抗酸化剤、紫外線吸収剤及び他の光
安定剤が述べられており、また、プラスチック技術で慣
用な添加剤、例えば、顔料、充填剤、補強剤及び潤滑剤
等はこの方法で安定化されるべき共重合体に添加されう
る。
【００３３】成分（ｂ）に適当な化合物の例を以下に示
す： １．ハロゲン含有ポリマー、特にハロゲン含有ビニル化
合物、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ弗化ビニル、及びポリ弗化ビニリデンから作られたポ
リマー；及びそれらのコポリマー、例えば塩化ビニル／
塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビ
ニリデン／酢酸ビニルコポリマー。
【００３４】２．α，β−不飽和酸、及びその誘導体か
ら誘導されたポリマー、例えばポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリ
ロニトリル。
【００３５】３．不飽和アルコール及びアミン、又はア
シル誘導体もしくはアセタールから誘導されたポリマ
ー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポ
リステアリン酸ビニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリマレ
イン酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタ
レートまたはポリアリルメラミン。
【００３６】４．環状エーテルのホモポリマー及びコポ
リマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビ
スグリシジルエーテルとのコポリマー。
【００３７】５. ポリアセタール、例えばポリオキシメ
チレン、及びコモノマー、例えば、エチレンオキシドを
有するポリオキシメチレン；及び、熱可塑性ポリウレタ
ン、アクリレートまたはＭＢＳで変成されたポリアセタ
ール。
【００３８】６．ポリフェニレンオキシド及びスルフィ
ド、及びそれらとスチレンポリマーまたはポリアミドの
混合物。
【００３９】７．一方で末端水酸基を有するポリエーテ
ル、ポリエステルまたはポリブタジエン、他方で脂肪族
もしくは芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリ
ウレタン、及びその前駆物質。
【００４０】８．ジアミン及びジカルボン酸から、及び
／又はアミノカルボン酸または相当するラクタムから誘
導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばナイロン
４、ナイロン６、６／６、６／１０、６／９、６／１
２、４／６、１１、１２及びｍ−キシレン、ジアミン及
びアジピン酸から製造された芳香族ポリアミド；ヘキサ
メチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテレフタ
ル酸から、及び必要ならば、変成剤としてのエラストマ
ー、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレ
ンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレン−イソ
フタルアミドから製造されたポリアミド。
【００４１】９．ポリウレア、ポリイミド、ポリアミド
−イミド及びポリベンゾイミダゾール。
【００４２】10．ジカルボン酸及びジアルコールから、
及び／又はヒドロキシカルボン酸または相当するラクト
ンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−
１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、
ポリヒドロキシベンゾエート、及び末端水酸基を有する
ポリエーテルから誘導されるブロックポリエーテルエス
テル；及び、さらにポリカーボネートまたはＭＢＳで変
成されたポリエステル。
【００４３】11．ポリカーボネートおよびポリエステル
カーボネート。
【００４４】成分（ｂ）は好ましくは、立体障害性アミ
ンによりかろうじて安定化されうるだけか、または少し
も安定化されないポリマー、例えば、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリエステル、特にポリブタジエンテ
レフタレート、ポリビニルクロリド、ポリフェニレンエ
ーテル、熱可塑性ポリウレタンまたはスチレン−無水マ
レイン酸コポリマー、または該ポリマーの混合物であ
る。成分（ｂ）は特にポリカーボネートである。
【００４５】本発明のポリマー混合物中の成分（ａ）及
び（ｂ）の比率は広い範囲で変化してよい。成分（ａ）
は好ましくは、ポリマー混合物５ないし９５重量％、特
に１０ないし５０重量％から作られる。
【００４６】その他の公知の安定剤をポリマー混合物に
添加することは有効である。これらの例は以下に示され
る類の安定剤である。１．酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メチルフェノール、2-
第三ブチル-4,6- ジメチルフェノール、2,6-ジ−第三ブ
チル-4- エチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4-n-
ブチルフェノール、2,6-ジ−第三ブチル-4- イソブチル
フェノール、2,6-ジ−シクロペンチル-4- メチルフェノ
ール、2-( α−メチルシクロヘキシル）-4,6- ジメチル
フェノール、2,6-ジオクタデシル-4- メチルフェノー
ル、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ−第
三ブチル-4- メトキシメチルフェノール及び2,6-ジノニ
ル-4- メチルフェノール。
【００４７】1.2.アルキル化ヒドロキノン 例えば、2,6-ジ−第三ブチル-4- メトキシフェノール、
2,5-ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5-ジ−第三アミル
ヒドロキノンおよび2,6-ジフェニル-4- オクタデシルオ
キシフェノール。
【００４８】1.3.ヒドロキシル化ジフェニルチオエーテ
ル 例えば、2,2'- チオビス（6-第三ブチル-4- メチルフェ
ノール）、2,2'- チオビス（4-オクチルフェノール）、
4,4'- チオビス（6-第三ブチル-3- メチルフェノール）
および4,4'- チオビス（6-第三ブチル-2- メチルフェノ
ール）。
【００４９】1.4.アルキリデンビスフェノール 例えば、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4- メチル
フェノール）、2,2'- メチレンビス（6-第三ブチル-4-
エチルフェノール）、2,2'- メチレンビス〔4-メチル-6
-(α−メチルシクロヘキシル）フェノール〕、2,2'- メ
チレンビス（4-メチル-6- シクロヘキシルフェノー
ル）、2,2'- メチレンビス（6-ノニル-4- メチルフェノ
ール）、2,2'- メチレンビス（4,6-ジ第三ブチルフェノ
ール) 、2,2'-エチリデン- ビス(4,6- ジ第三ブチルフ
ェノール) 、2,2'- エチリデン- ビス-(6-第三ブチル-4
- イソブチルフェノール) 、2,2'- メチレンビス〔6-
(α−メチルベンジル）-4- ノニルフェノール〕、2,2'-
メチレンビス〔6-( α，α−ジメチルベンジル）-4-
ノニルフェノール〕、4,4'- メチレンビス（2,6-ジ−第
三ブチルフェノール）、4,4'- メチレンビス（６−第三
ブチル-2- メチルフェノール）、1,1-ビス（5-第三ブチ
ル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、2,6-ジ
−(3- 第三ブチル-5- メチル-2- ヒドロキシベンジル）
-4- メチルフェノール、1,1,3-トリス（5-第三ブチル-4
- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）ブタン、1,1-ビス
（5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-2- メチルフェニル）-3
-n- ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール
ビス〔3,3-ビス（3'−第三ブチル-4'-ヒドロキシフェニ
ル）−ブチレート〕、ビス（3-第三ブチル-4- ヒドロキ
シ-5- メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、及びビ
ス−〔2-(3'-第三ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルベン
ジル）-6- 第三ブチル-4- メチルフェニル〕テレフタレ
ート。
【００５０】1.5.ベンジル化合物 例えば、1,3,5-トリス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシベンジル）-2,4,6-トリメチルベンゼン、ビス-(3,5
-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジル）スルフィ
ド、イソオクチル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシベ
ンジルメルカプトアセテート、ビス（4-第三ブチル-3-
ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル）ジチオールテレフ
タレート、1,3,5-トリス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒド
ロキシベンジル）イソシアヌレート、1,3,5-トリス（4-
第三ブチル-3- ヒドロキシ-2,6- ジメチルベンジル）イ
ソシアヌレート、ジオクタデシル3,5-ジ−第三ブチル-4
- ヒドロキシベンジルホスホネート、モノエチル3,5-ジ
−第三ブチル-4- ヒドロキシベンジルホスホネートのカ
ルシウム塩及び1,3,5-トリス（3,5-ジシクロヘキシル-4
- ヒドロキシベンジル) イソシアヌレート。
【００５１】1.6.アシルアミノフェノール 例えば、ラウリル酸4-ヒドロキシアニリド、ステアリン
酸4-ヒドロキシアニリド、2,4-ビス（オクチルメルカプ
ト）-6-(3,5-第三ブチル-4- ヒドロキシアニリノ）-s-
トリアジン、N-(3,5- ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル）−カルバミン酸オクチルエステル。
【００５２】1.7.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（3,5-ジ−第三ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【００５３】1.8.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（5-第三ブチル-4- ヒドロキシ-3- メチルフェ
ニル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【００５４】1.9.以下のような一価または多価アルコー
ルとβ−（3,5-ジシクロヘキシル-4- ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸とのエステル アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6-
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレ
ングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロ
キシエチル）イソシアヌレート、N,N'- ビス-(ヒドロキ
シエチル) 蓚酸ジアミド。
【００５５】1.10. β−（3,5-ジ第三ブチル-4- ヒドロ
キシフェニル）プロピオン酸のアミド 例えばN,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシ
フェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'
- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミンおよびN,N'- ビス
（3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル）ヒドラジン。
【００５６】２．紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. 2-（2'- ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル 例えば5'- メチル、3',5'-ジ第三ブチル、5'- 第三ブチ
ル、5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル) 、5-クロロ-3',
5'- ジ第三ブチル、5-クロロ-3'-第三ブチル-5'-メチ
ル、3'- 第二ブチル-5'-第三ブチル、4'- オクトキシ、
3',5'-ジ第三アミル及び3',5'-ビス-(α, α- ジメチル
ベンジル）誘導体。
【００５７】2.2. 2-ヒドロキシベンゾフェノン 例えば4-ヒドロキシ、4-メトキシ、4-オクトキシ、4-デ
シルオキシ、4-ドデシルオキシ、4-ベンジルオキシ、4,
2',4'-トリヒドロキシおよび2'−ヒドロキシ-4,4'-ジメ
トキシ誘導体。
【００５８】2.3.必要に応じて置換された安息香酸のエ
ステル 例えば4-第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサ
リチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾ
イルレゾルシノール、ビス-(4-第三ブチルベンゾイル）
−レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4-ジ
−第三ブチルフェニル3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロキ
シ安息香酸エステル及び3,5-ジ−第三ブチル-4- ヒドロ
キシ安息香酸ヘキサデシルエステル。
【００５９】2.4.アクリレート 例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸のエ
チルエステル及び、イソオクチルエステル、メチルα−
カルボメトキシシンナメート、α−シアノ−β−メチル
−ｐ−メトキシケイ皮酸のメチルエステル及びブチルエ
ステル、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシン
ナメート、N-（β−カルボメトキシ−β−シアノビニ
ル）-2- メチルインドリン。
【００６０】2.5.ニッケル化合物 例えば2,2'- チオビス〔4-(1,1,3,3- テトラメチルブチ
ル）フェノール〕のニッケル錯体、例として１：１また
は１：２錯体、場合により付加配位子、例えばn-ブチル
アミン、トリエタノールアミンまたはN-シクロヘキシル
ジエタノールアミンを有してよい、ニッケルジブチルジ
チオカルバメート、4-ヒドロキシ-3,5−ジ−第三ブチル
ベンジルホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチ
ル、又はエチルエステルのニッケル塩、ケトオキシム、
例えば2-ヒドロキシ-4- メチルフェニルウンデシルケト
オキシムのニッケル錯体、および場合により、付加配位
子を含んでよい1-フェニル-4- ラウロイル-5- ヒドロキ
シピラゾールのニッケル錯体。
【００６１】2.6.立体障害性アミン 例えばビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピペリジル）セバ
ケート、ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチルピペリジル）セ
バケート、ｎ−ブチル-3,5- ジ−第三ブチル-4-ヒドロ
キシベンジル−マロン酸−ビス（1,2,2,6,6-ペンタメチ
ルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル-2,2,
6,6- テトラメチル-4- ヒドロキシピペリジンとコハク
酸との縮合物、N,N'- ビス（2,2,6,6-テトラメチル−ピ
ペリジル）ヘキサメチレンジアミンと4-第三オクチルア
ミノ-2,6- ジクロロ-1,3,5-s- トリアジンとの縮合物、
トリス（2,2,6,6-テトラメチル-4- ピペリジル）ニトリ
ロトリアセテート、テトラキス（2,2,6,6-テトラメチル
-4- ピペリジル)-1,2,3,4-ブタンテトラエート、1,1'-
(1,2-エタンジイル) ビス(3,3,5,5- テトラメチルピペ
ラジノン) 。
【００６２】2.7.蓚酸ジアミド 例えば4,4'- ジオクチルオキシオキサニリド、2,2'- ジ
オクチルオキシ-5,5'-ジ第三ブチルオキサニリド、2,2'
- ジドデシルオキシ-5,5'-ジ第三ブトルオキサニリド、
2-エトキシ-2'-エチルオキサニリド、N,N'- ビス(3- ジ
メチルアミノプロピル) オキサルアミド、2-エトキシ-5
- 第三ブチル-2'-エチルオキサニリドおよび、2-エトキ
シ-2'-エチル-5,4'-ジ第三ブチルオキサニリドとの混合
物、及びオルト- 並びにパラ- メトキシ- 二置換オキサ
ニリドの混合物、及びo-並びにp-エトキシ二置換オキサ
ニリドの混合物。
【００６３】2.8. 2-(2- ヒドロキシフェニル)-1,3,5-
トリアジン 例えば2,4,6-トリス(2- ヒドロキシ-4- オクチルオキシ
フェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキシ-4- オ
クチルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチルフェニ
ル)-1,3,5-トリアジン、2-(2,4- ジヒドロキシフェニ
ル)-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジ
ン、2,4-ビス(2- ヒドロキシ-4- プロポキシフェニル)-
6-(2,4- ジメチルフェニル) -1,3,5- トリアジン、2-(2
- ヒドロキシ-4- オクチルオキシフェニル)-4,6-ビス(4
−メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-(2- ヒドロキ
シ-4- ドデシルオキシフェニル)-4,6-ビス(2,4- ジメチ
ルフェニル) -1,3,5- トリアジン。
【００６４】３．金属不活性化剤 例えばN,N'−ジフェニル蓚酸ジアミド、N-サリチラル-
N'-サリチロイルヒドラジン、N,N'- ビス（サリチロイ
ル）ヒドラジン、N,N'- ビス（3,5-ジ−第三ブチル-4-
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、3-サリ
チロイルアミノ-1,2,4- トリアゾールおよびビス（ベン
ジリデン）蓚酸ジヒドラジド。
【００６５】４．ホスフィットおよびホスホニット 例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキ
ルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、ト
リス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホ
スフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステア
リルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（2,
4-ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（2,4-ジ
−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフ
ィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィッ
ト、テトラキス−（2,4-ジ−第三ブチルフェニル）4,4'
- ジフェニレンジホスホニット、3,9-ビス(2,4- ジ第三
ブチルフェノキシ)-2,4,8,10-テトラオキサ-3,9- ジホ
スファスピロ〔5.5 〕ウンデカン。
【００６６】５．過酸化物スカベンジャー 例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウ
リル酸エステル、ステアリル酸エステル、ミリスチン酸
エステル又はトリデシル酸エステル、メルカプトベンズ
イミダゾール、2-メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシル
ジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス
（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００６７】さらに、プラスチック技術で慣用な他の補
助剤、例えば、顔料、充填剤、補強剤、潤滑剤、難燃
剤、帯電防止剤または発泡剤が添加されうる。
【００６８】本発明のポリマー混合物のための他の成分
（ｃ）として、紫外線吸収剤、特に好ましくは上記２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールが首
尾良く使用されうる。
【００６９】本発明のポリマー混合物の製造は、慣用の
方法で互いに混合される成分（ａ）及び（ｂ）で行なわ
れる。成分（ａ）は好ましくは、上記ＥＰ−Ａ−３３７
４３１号に記載されているように、第一に、エラストマ
ー粒子に立体障害性アミンの不飽和誘導体をグラフト化
し、この方法で変性されたエラストマー粒子にスチレン
またはα−メチルスチレンおよび少なくとも１個のコモ
ノマーの混合物をグラフト化し、そして慣用の方法で熱
可塑性ポリマーを得られた共重合体で混合することによ
り製造される。
【００７０】以下の実施例は本発明をさらに詳しく説明
する。比率及びパーセントは重量による。
【００７１】
【実施例】実施例１： ９３３ｇの５９％の固体含量を持つポリブタ
ジエン ラテックス（ＢＲ）（登録商標Baystal 2004
D) 、８４８．５ｇの脱イオン水、２．５ｇのペルオキ
ソ硫酸カリウム及び０．１ｇの第三−ドデシルメルカプ
タンを３リットルの反応器に入れ、該混合物を４回脱気
し、１００ｒｐｍでアルゴン下に攪拌し、６５℃で３０
分かけて温める。その後、４−アクリロイルオキシ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン（ＡＰ
Ｐ）を添加し始める。全ＡＰＰ（５７．９ｇ）を約１時
間かけて添加する。３時間の重合時間後、ラテックスは
室温に冷却される。
【００７２】ペルオキソ硫酸カリウム溶液（２００ｇの
水に溶解された５ｇのペルオキソ硫酸カリウム）を、３
リットルの攪拌用反応器中、得られたラテックス１６７
５ｇ（＝５００ｇのＢＲ及び５２．７ｇのＡＰＰ）に添
加し、該混合物を４回脱気し、３０分かけてアルゴン下
６５℃に加熱する。２５０ｇの４％水性乳濁溶液（登録
商標Dresinate 731)及び５００ｇのスチレンとアクリロ
ニトリルのモノマー混合物（２：１）及び１ｇの第三−
ドデシルメルカプタンを約４時間かけて、同時に計量し
ながら供給する。添加が完了したとき、重合を６５℃、
攪拌速度１００ｒｐｍでさらに１時間続ける。
【００７３】６．４５ｇの次式
【化７】 で表わされる抗酸化剤の水性乳濁液を得られたラテック
スに添加する。その後、該混合物をガラスウールでろ過
する。
【００７４】ラテックスを凝固するため、５リットルの
水及び２０ｇの酢酸を８５ないし９０℃に加熱し、約３
００ｒｐｍの攪拌速度で乳濁液に素早く添加する。凝固
を完了するため、該混合物を１０分間９０℃で攪拌す
る。沈澱した共重合体を熱いうち、ろ過して、混合され
た５％のＡＰＰを含む白色粉末として、９５０ｇのＡＢ
Ｓ共重合体を得る。
【００７５】粉末形態のこの共重合体を、同量のスチレ
ン−アクリロニトリル共重合体（懸濁液ＳＡＮ，Ube Cy
con 社製）、及び二倍量の微粉ポリカーボネート(PC 13
5,General Electric社製）、場合により他の添加剤、例
えば、紫外線吸収剤と、航空用ホイールを使用して混合
する。該混合物は二個のスクリューを持つ押出機（温度
周期：１６５℃，２５０℃，２７５℃，２７５℃，２７
０℃；４５ｒｐｍ）で製造される。
【００７６】得られた混合物は２００℃でホットプレス
でプレスされ、厚さ２ｍｍのシートを得る。４０×４０
×２ｍｍの大きさの試験片をシートから切断し、ウエザ
ーオーメーター(Weather-O-Meter) ＷＲＣ６００中、紫
外線に曝す。試料は規則的な間隔で取り出され、ＡＳＴ
Ｍ Ｄ １９２５に従って黄色度が測定される。
【００７７】暴露時間の相関関係として、ΔＹＩ（ＹＩ
＝黄色度指数；ΔＹＩ＝暴露されないものと相応じて暴
露された試料とのＹＩ値の差）で表され、そして記載さ
れた方法により測定された黄色度は、表１に示される。
【００７８】
【表１】
【００７９】次式
【化８】 で表わされる紫外線吸収剤* は対照として使われるか、
または粉末混合物に添加される。
【００８０】本発明の組成物は、同じポリマー混合物だ
がいずれのグラフト化ＡＰＰも含まないポリマー混合物
より黄色化に対し、かなり高い安定性を持つ。
【００８１】実施例２：粉末の形態で、実施例１で製造
されたＡＢＳ共重合体を同量のスチレン−アクリロニト
リル共重合体（懸濁液ＳＡＮ，Kostil,Montedipe社
製）、場合により他の添加剤、例えば、紫外線吸収剤(T
inuvin 234,Ciba-Geigy AG社製）及びホスフィット(Irg
afos 168,Ciba-Geigy AG社製）と、航空用ホイールを使
用して混合する。該混合物は二個のスクリューを持つ押
出機（温度周期：２１０℃，２１０℃，２１５℃，２２
０℃）で加工され、粒状化される。
【００８２】得られたＡＢＳ粒子は、同量のポリカーボ
ネート粒子(PC calibre,Dow 社製）と混合する。ポリマ
ーブレンドは二個のスクリューを持つ押出機（温度周
期：２４０℃，２４０℃，２５０℃）で製造される。
【００８３】得られたブレンドは２００℃でホットプレ
ス中、プレスされ、厚さ２ｍｍのシートを得る。４０×
４０×２ｍｍの大きさの試験片をシートから切断し、ウ
エザーオーメーター(Weather-O-Meter) ＷＲＣ６００
中、紫外線に曝す。試料は規則的な間隔で取り出され、
黄色度（または黄色度指数）はＡＳＴＭ Ｄ １９２５
法により測定される。
【００８４】黄色度を、暴露時間の相関関係として、表
２に示す。さらに、１２．７×６０．０×２．０ｍｍの
大きさの試験片をXenotest 450中、紫外線に曝す。試料
は規則的な間隔で取り出され、その曲げ衝撃強さはＡＳ
ＴＭ Ｄ ４５０８−８５法により測定される。振子型
の衝撃(pendulum impact)は試料の暴露側に生じる。
【００８５】表３は試料を破砕するために必要なエネル
ギーを示す。この値が高いほど、試料の曲げ衝撃強さは
大きい。無傷の試料の場合、破砕は生じない。
【００８６】
【表２】
【００８７】
【表３】
【００８８】実施例３：実施例２で製造されたＡＢＳ共
重合体粒子を同量のポリブチレンテレフタレート(PBT C
RASTIN S 600,Ciba-Geigy AG社製）と混合する。ポリマ
ーブレンドは二個のスクリューを持つ押出機（温度周
期：２１０℃，２３０℃，２３５℃，２４０℃）で製造
される。１２．７×６０．０×２．０ｍｍの大きさの試
料を、Arburg射出成形機中、最大加工温度２６０℃で射
出成形し、２００℃及び１６０℃のオーブンで老化させ
る。試料は規則的な間隔で取り出され、その黄色度はＡ
ＳＴＭ Ｄ １９２５法により測定される。
【００８９】結果を表４及び表５に示す。
【表４】
【００９０】
【表５】
【００９１】実施例４：５％のＡＰＰを含むグラフト化
されたＡＢＳを実施例１のように製造し、同量のポリビ
ニルクロリド(PVC,SOLVIC SA 250,Solvay 社製）、４％
の潤滑剤(LoxiolVGS 1809,Loxiol G 70 S,Hoechst社
製）、２％の熱安定剤(D 26-376,Ciba-GeigyAG 社製）
及び場合により、０．２５％の紫外線吸収剤(Tinuvin 3
20,Ciba-Geigy AG社製）と、航空用ホイールを使用して
混合する。該混合物を１７５℃、５分間、２個のロール
ミキサーで加工する。得られた混合物は１８０℃でホッ
トプレスでプレスされ、厚さ２ｍｍのシートを得る。１
２．７×６０．０×２．０ｍｍの大きさの試験片をシー
トから切断し、Xenotest 450中、紫外線に曝す。試料は
規則的な間隔で取り出され、その曲げ衝撃強さはＡＳＴ
Ｍ Ｄ ４５０８−８５法により測定される。振子型の
衝撃(pendulum impact) は試料の暴露側に生じる。
【００９２】結果を表６に示す。
【表６】 さらに４０×４０×２ｍｍの大きさの試験片を紫外線光
に曝す。試料は規則的な間隔で取り出され、黄色度はＡ
ＳＴＭ Ｄ １９２５に従って測定される。
【００９３】結果を表７に示す。
【表７】
【００９４】実施例５：グラフト化されたＡＢＳは、５
７．９ｇの４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジン（ＭＡＰＰ）を安定剤
として使用することを除いて、実施例１に記載されたよ
うに製造される。２５％のＡＢＳ共重合体は７５％のポ
リビニルクロリド(PVC,SOLVIC 258 RB,Solvay 社製）、
４％の潤滑剤(Irgawax 368,Ciba-Geigy AG社製）、２％
の熱安定剤(D 26-376,Ciba-Geigy AG 社製）及び場合に
より、０．２５％の紫外線吸収剤(Tinuvin 320,Ciba-Ge
igy AG社製）と、航空用ホイールを使用して混合する。
該混合物を１７５℃、５分間、２個のロールミキサーで
加工する。得られた混合物は１８０℃でホットプレスで
プレスされ、厚さ２ｍｍのシートを得る。４０×４０×
２ｍｍの大きさの試験片をシートから切断し、１９０℃
のオーブンで老化させる。試料は規則的な間隔で取り出
され、黄色度はＡＳＴＭ Ｄ １９２５に従って測定さ
れる。
【００９５】結果を表８に示す。
【表８】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンドレ シユミツター フランス国，68220 ヘゲンハイム，ルエ デス アルペス ７ (72)発明者 ゲルハルト リツツ スイス国，3150 シユヴアルツエンブル ク，アム バツハ ２ (72)発明者 ヴエルナー スタウフエル スイス国，1700 フライブルク，アベニユ ー ジーン−マリエ ムーシイ ６ (72)発明者 マルゴツト クラウス フランス国，エフ−68400 リーデイシヤ イム，ルエ デ ムルハウセ 36

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （ａ）スチレンまたはα−メチルスチレ
    ン及び少なくとも１個のコモノマーから作られる共重合
    体で、該共重合体は立体障害性アミンの不飽和誘導体の
    共重合により変性された架橋エラストマー粒子を含むも
    の、及び（ｂ）熱可塑性ポリマーからなるポリマー混合
    物。
  2. 【請求項２】 成分（ａ）が変性された架橋エラストマ
    ー上にスチレンまたはα−メチルスチレン、及び少なく
    とも１個のコモノマーからなるグラフト共重合体である
    請求項１記載のポリマー混合物。
  3. 【請求項３】 成分（ａ）におけるコモノマーがアクリ
    ロニトリルまたはアルキル部分に１ないし４個の炭素原
    子を有するアルキルアクリレートまたはアルキルメタク
    リレート、特にメチルアクリレートまたはメチルメタク
    リレートである請求項１記載のポリマー混合物。
  4. 【請求項４】 成分（ａ）におけるエラストマー粒子が
    ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−
    スチレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン タ
    ーポリマー、ポリブチルアクリレートまたは特にポリブ
    タジエンを含む請求項１記載のポリマー混合物。
  5. 【請求項５】 立体障害性アミンが２，２，６，６−テ
    トラメチルピペリジンの共重合性不飽和誘導体である請
    求項１記載のポリマー混合物。
  6. 【請求項６】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
    ンの不飽和誘導体が次式Ｉ 【化１】 （式中、ｎは１または２を表わし、Ｘは−Ｏ−または−
    Ｎ（Ｒ3 ）−を表わし、Ｒ1 はｎが１のとき、炭素原子
    数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数２ないし２０
    のアルケニル基、炭素原子数５ないし８のシクロアルキ
    ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フ
    ェニル基、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし４のアル
    キル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
    り置換されたフェニル基、またはＲ4 ＯＯＣ−ＣＨ＝Ｃ
    Ｈ−基を表わし、そしてｎが２のとき、Ｒ1 は炭素原子
    数２ないし１０のアルキレン、ビニレン、炭素原子数６
    ないし１２のアリーレンまたはシクロヘキシレンを表わ
    し、Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキ
    ル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子
    数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１ない
    し１８のアルコキシ基、−Ｏ−，炭素原子数５ないし８
    のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフェニ
    ルアルコキシ基、炭素原子数２ないし１０のアルカノイ
    ル基、炭素原子数３ないし６のアルケノイル基または次
    式 【化２】 で表わされる基を表わし、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数
    １ないし１２のアルキル基、または炭素原子数５ないし
    ８のシクロアルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
    炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表わし、Ｒ5 は
    水素原子、ＣＨ3 またはＣＮを表わし、そしてＲ6 は水
    素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、または
    フェニル基を表わし、少なくとも１個の置換基Ｒ1 及び
    Ｒ2 はエチレン性二重結合を含む）で表わされる化合物
    である請求項５記載のポリマー混合物。
  7. 【請求項７】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
    ンの不飽和誘導体が次式ＩＩ 【化３】 （式中、Ｒ2 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
    ルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素
    原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数１
    ないし１８のアルコキシ基、−Ｏ−，炭素原子数５ない
    し８のシクロアルコキシ基、炭素原子数７ないし９のフ
    ェニルアルコキシ基または炭素原子数２ないし１０のア
    ルカノイル基を表わす）で表わされる化合物である請求
    項５記載のポリマー混合物。
  8. 【請求項８】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
    ンの不飽和誘導体は式Ｉ（ｎが１を表わし、Ｘが−Ｏ−
    を表わし、Ｒ1 が炭素原子数２ないし５のアルケニル基
    を表わし、そしてＲ2 が水素原子、炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基、アリル基、ベンジル基またはアセチル
    基を表わす）で表わされる化合物である請求項５記載の
    ポリマー混合物。
  9. 【請求項９】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
    ンの不飽和誘導体が式Ｉ（ｎが１または２を表わし、Ｘ
    が−Ｏ−を表わし、ｎが１のとき、Ｒ1 が炭素原子数１
    ないし１８のアルキル基、シクロヘキシル基またはフェ
    ニル基を表わし、そしてｎが２のとき、Ｒ1 が炭素原子
    数２ないし８のアルキレンを表わし、Ｒ2 が炭素原子数
    ３ないし６のアルケノイル基を表わす）で表わされる化
    合物である請求項５記載のポリマー混合物。
  10. 【請求項１０】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリ
    ジンの不飽和誘導体が式Ｉ（ｎが１を表わし、Ｘが−Ｏ
    −を表わし、Ｒ1 が炭素原子数２ないし５のアルケニル
    基を表わし、Ｒ2 が式ＩＩＩ＜Ｒ5 及びＲ6 が水素原子
    またはＣＨ3 を表わす＞の基を表わす）で表わされる化
    合物である請求項５記載のポリマー混合物。
  11. 【請求項１１】 ２，２，６，６−テトラメチルピペリ
    ジンの不飽和誘導体が１，２，２，６，６−ペンタメチ
    ル−４−アクリロイルオキシピペリジンである請求項５
    記載のポリマー混合物。
  12. 【請求項１２】 成分（ｂ）がポリカーボネート、ポリ
    アミド、ポリエステル、特にポリブタジエンテレフタレ
    ート、ポリビニルクロリド、ポリフェニレンエーテル、
    熱可塑性ポリウレタンまたはスチレン−無水マレイン酸
    共重合体、またはこれらのポリマーの混合物である請求
    項１記載のポリマー混合物。
  13. 【請求項１３】 成分（ｂ）がポリカーボネートである
    請求項１２記載のポリマー混合物。
  14. 【請求項１４】 成分（ａ）が５ないし９５重量％、特
    に１０ないし５０重量％のポリマー混合物から作られる
    請求項１記載のポリマー混合物。
  15. 【請求項１５】 さらに他の成分（ｃ）として、紫外線
    吸収剤を含む請求項１記載のポリマー混合物。
  16. 【請求項１６】 成分（ｃ）が２−（２’−ヒドロキシ
    フェニル）ベンゾトリアゾールである請求項１５記載の
    ポリマー混合物。
  17. 【請求項１７】 成分（ａ）及び（ｂ）を互いに慣用の
    方法で混合することからなる請求項１記載のポリマー混
    合物の製造方法。
  18. 【請求項１８】 最初に立体障害性アミンの不飽和誘導
    体をエラストマー粒子にグラフト化し、スチレンまたは
    α−スチレン及び少なくとも１個のコモノマーの混合物
    をこの方法で変性されたエラストマー粒子にグラフト化
    し、そしてポリマー（ｂ）を慣用の方法で、得られた共
    重合体と混合することを特徴とする請求項１７記載の方
    法。
  19. 【請求項１９】 光分解に対してポリマーを安定化する
    ために請求項１記載の成分（ａ）を使用する方法。
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