JPH05113496A - 内面汚染配管の除染装置 - Google Patents
内面汚染配管の除染装置Info
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- JPH05113496A JPH05113496A JP25566991A JP25566991A JPH05113496A JP H05113496 A JPH05113496 A JP H05113496A JP 25566991 A JP25566991 A JP 25566991A JP 25566991 A JP25566991 A JP 25566991A JP H05113496 A JPH05113496 A JP H05113496A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 原子力プラントで発生した内面汚染配管を除
染し、付着放射線源を除去することにより廃棄物量を低
減することができる内面汚染配管の除染装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 配管を載置して支持する配管支持ローラ１
と、配管内面に向けて研磨材を噴射するノズル８と、ノ
ズルに研磨材を供給するための研磨材供給装置５と、配
管内面に噴射された研磨材と放射線源を含む研磨屑とを
回収する回収装置３とを備えた。
染し、付着放射線源を除去することにより廃棄物量を低
減することができる内面汚染配管の除染装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 配管を載置して支持する配管支持ローラ１
と、配管内面に向けて研磨材を噴射するノズル８と、ノ
ズルに研磨材を供給するための研磨材供給装置５と、配
管内面に噴射された研磨材と放射線源を含む研磨屑とを
回収する回収装置３とを備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は内面汚染配管の除染装置
に係り、特に原子力プラントで発生する内面汚染配管を
除染し、付着放射線源を除去することができる内面汚染
配管の除染装置に関する。
に係り、特に原子力プラントで発生する内面汚染配管を
除染し、付着放射線源を除去することができる内面汚染
配管の除染装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、原子力プラントで発生した内面汚
染配管は、切断後放射性廃棄ドラム缶に収納し、保管管
理している。
染配管は、切断後放射性廃棄ドラム缶に収納し、保管管
理している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、内面汚
染配管の廃棄量が増大すると、放射性廃棄ドラム缶の発
生量が増大するという問題点があった。
染配管の廃棄量が増大すると、放射性廃棄ドラム缶の発
生量が増大するという問題点があった。
【０００４】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、原子力プラントで発生した内
面汚染配管を除染し、付着放射線源を除去することによ
り廃棄物量を低減することができる内面汚染配管の除染
装置を提供することにある。
で、その目的とする処は、原子力プラントで発生した内
面汚染配管を除染し、付着放射線源を除去することによ
り廃棄物量を低減することができる内面汚染配管の除染
装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の内面汚染配管の除染装置は配管を載置し
て支持する配管支持装置と、配管内面に向けて研磨材を
噴射するノズルと、該ノズルに研磨材を供給するための
研磨材供給装置と、配管内面に噴射された研磨材と放射
線源を含む研磨屑とを回収する回収装置とを備えたこと
を特徴とする内面汚染配管の除染装置を特徴とするもの
である。
ため、本発明の内面汚染配管の除染装置は配管を載置し
て支持する配管支持装置と、配管内面に向けて研磨材を
噴射するノズルと、該ノズルに研磨材を供給するための
研磨材供給装置と、配管内面に噴射された研磨材と放射
線源を含む研磨屑とを回収する回収装置とを備えたこと
を特徴とする内面汚染配管の除染装置を特徴とするもの
である。
【０００６】
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、配管を
配管支持装置により支持した状態で、研磨材供給装置よ
り研磨材をノズルに供給し、このノズルから研磨材を配
管内面に向けて噴射し、配管内面の金属面を研磨し、配
管内面に付着した汚染物を除去する。
配管支持装置により支持した状態で、研磨材供給装置よ
り研磨材をノズルに供給し、このノズルから研磨材を配
管内面に向けて噴射し、配管内面の金属面を研磨し、配
管内面に付着した汚染物を除去する。
【０００７】したがって、最終的に放射性廃棄物として
保管管理する放射性廃棄ドラム缶の発生量が低減でき
る。また、除去された汚染物及び研磨材は回収装置によ
り回収され、研磨材は再使用される。
保管管理する放射性廃棄ドラム缶の発生量が低減でき
る。また、除去された汚染物及び研磨材は回収装置によ
り回収され、研磨材は再使用される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明に係る内面汚染配管の除染装置
の実施例を添付図面を参照して説明する。
の実施例を添付図面を参照して説明する。
【０００９】内面汚染配管の除染装置の第一実施例は図
１に示すように構成される。図１において、符号１は配
管支持ローラであり、配管支持ローラ１は研磨する配管
９の軸方向に間隔を置いて複数個配設されるとともに
（図１参照）、２個の配管支持ローラ１，１が円周方向
にやや離間して対をなして配設されている（図１には手
前のローラのみ図示）。配管支持ローラ１の軸方向ロー
ラ間隔及び円周方向ローラ間隔は任意に調整できるよう
になっており、種々の長さ及び直径の配管９に対して対
応できるようになっている。配管支持ローラ１は図１に
示されるようにチェーン等を介して配管回転用モータ４
によって回転駆動されるようになっている。配管支持ロ
ーラ１の上方には一対の押えローラ２が配設されており
（図１には手前のローラのみ図示）、配管支持ローラ１
上に載置された配管９の上面を押さえるようになってい
る。
１に示すように構成される。図１において、符号１は配
管支持ローラであり、配管支持ローラ１は研磨する配管
９の軸方向に間隔を置いて複数個配設されるとともに
（図１参照）、２個の配管支持ローラ１，１が円周方向
にやや離間して対をなして配設されている（図１には手
前のローラのみ図示）。配管支持ローラ１の軸方向ロー
ラ間隔及び円周方向ローラ間隔は任意に調整できるよう
になっており、種々の長さ及び直径の配管９に対して対
応できるようになっている。配管支持ローラ１は図１に
示されるようにチェーン等を介して配管回転用モータ４
によって回転駆動されるようになっている。配管支持ロ
ーラ１の上方には一対の押えローラ２が配設されており
（図１には手前のローラのみ図示）、配管支持ローラ１
上に載置された配管９の上面を押さえるようになってい
る。
【００１０】また、内面汚染配管の除染装置は回収装置
３を備え、この回収装置３に配管９の一端が挿入される
ようになっている。回収装置３はエアーサイクロン１
４、フィルタ１５を介して排気装置１６に連通接続され
ており、その内部は負圧に保持され、配管９の内面に噴
射された研磨材を回収できる構造になっている。
３を備え、この回収装置３に配管９の一端が挿入される
ようになっている。回収装置３はエアーサイクロン１
４、フィルタ１５を介して排気装置１６に連通接続され
ており、その内部は負圧に保持され、配管９の内面に噴
射された研磨材を回収できる構造になっている。
【００１１】研磨材は、研磨材供給装置５からホース６
及びランスパイプ７を通って研磨材噴射ノズル８より配
管内面に噴射される。研磨材噴射ノズル８はランスパイ
プ７に接合され、ノズル移動装置１０により配管内部を
走行する。ノズル移動装置１０は移動用モータ１１で駆
動し、リミットスイッチ１２ａおよび１２ｂにより起動
と停止ができるようになっている。また、ノズル移動装
置１０は、高さ調整機１３により上下位置の調整ができ
るように構成されている。
及びランスパイプ７を通って研磨材噴射ノズル８より配
管内面に噴射される。研磨材噴射ノズル８はランスパイ
プ７に接合され、ノズル移動装置１０により配管内部を
走行する。ノズル移動装置１０は移動用モータ１１で駆
動し、リミットスイッチ１２ａおよび１２ｂにより起動
と停止ができるようになっている。また、ノズル移動装
置１０は、高さ調整機１３により上下位置の調整ができ
るように構成されている。
【００１２】次に、前述のように構成された内面汚染配
管の除染装置の動作を説明する。
管の除染装置の動作を説明する。
【００１３】配管９を配管支持ローラ１上に載置すると
ともに配管９の上面を押えローラ２によって押える。こ
のとき、配管９の一端は回収装置３内に位置される。そ
して、モータ４を駆動して配管支持ローラ１を矢印の方
向に回転させると、配管９はその軸心を中心として回転
する。
ともに配管９の上面を押えローラ２によって押える。こ
のとき、配管９の一端は回収装置３内に位置される。そ
して、モータ４を駆動して配管支持ローラ１を矢印の方
向に回転させると、配管９はその軸心を中心として回転
する。
【００１４】次に、ノズル移動装置１０によって研磨材
噴射ノズル８を配管９に向かって移動させ、該ノズル８
を配管９内に挿入する。そして、研磨材を研磨材供給装
置５からホース６及びランスパイプ７を介してノズル８
に供給し、ノズル８より配管内面に向けて噴射する。ノ
ズル８より研磨材の噴射を続けながら、ノズル８をノズ
ル移動装置１０によって配管９の一端から他端に向けて
進行させる。これによって、配管内面は研磨され、配管
内面に噴射された研磨材および放射線源を含む研磨屑は
回収装置３に回収され、エアーサイクロン１４とフィル
タ１５により分離回収され、回収された研磨材は再使用
される。
噴射ノズル８を配管９に向かって移動させ、該ノズル８
を配管９内に挿入する。そして、研磨材を研磨材供給装
置５からホース６及びランスパイプ７を介してノズル８
に供給し、ノズル８より配管内面に向けて噴射する。ノ
ズル８より研磨材の噴射を続けながら、ノズル８をノズ
ル移動装置１０によって配管９の一端から他端に向けて
進行させる。これによって、配管内面は研磨され、配管
内面に噴射された研磨材および放射線源を含む研磨屑は
回収装置３に回収され、エアーサイクロン１４とフィル
タ１５により分離回収され、回収された研磨材は再使用
される。
【００１５】次に、図２を参照して本発明の第２実施例
を説明する。
を説明する。
【００１６】本実施例においては、配管９は回転しない
で研磨材噴射ノズル１７が回転するように構成されてい
る。
で研磨材噴射ノズル１７が回転するように構成されてい
る。
【００１７】研磨される配管９は固定の配管支持ローラ
１８上に置かれ、押さえローラ２により押さえられ、そ
の一端が回収装置３内に挿入される。配管支持ローラ１
８のローラ間隔は、任意に調整ができる。回収装置３の
内部は排気装置１６により負圧に保持され、内面に噴射
された研磨材を回収できる構造となっている。研磨材
は、研磨材供給装置５からホース６及びランスパイプ７
を通って研磨材噴射ノズル１７より配管内面に噴射され
る。研磨材噴射ノズル１７はその軸心を中心として回転
されるようになっており、ランスパイプ７に接合され、
ノズル移動装置１０により配管内部を走行する。ノズル
移動装置１０は移動用モータ１１で駆動し、リミットス
イッチ１２ａおよび１２ｂにより起動と停止ができる。
ノズル移動装置１０は、高さ調整機１３により上下位置
の調整ができる。
１８上に置かれ、押さえローラ２により押さえられ、そ
の一端が回収装置３内に挿入される。配管支持ローラ１
８のローラ間隔は、任意に調整ができる。回収装置３の
内部は排気装置１６により負圧に保持され、内面に噴射
された研磨材を回収できる構造となっている。研磨材
は、研磨材供給装置５からホース６及びランスパイプ７
を通って研磨材噴射ノズル１７より配管内面に噴射され
る。研磨材噴射ノズル１７はその軸心を中心として回転
されるようになっており、ランスパイプ７に接合され、
ノズル移動装置１０により配管内部を走行する。ノズル
移動装置１０は移動用モータ１１で駆動し、リミットス
イッチ１２ａおよび１２ｂにより起動と停止ができる。
ノズル移動装置１０は、高さ調整機１３により上下位置
の調整ができる。
【００１８】配管内面に噴射された研磨材および放射線
源を含む研磨屑は、第１実施例と同様に回収装置３に回
収され、エアーサイクロン１４とフィルタ１５により分
離回収され、回収された研磨材は再使用される。
源を含む研磨屑は、第１実施例と同様に回収装置３に回
収され、エアーサイクロン１４とフィルタ１５により分
離回収され、回収された研磨材は再使用される。
【００１９】次に、図３を参照して本発明の第３実施例
を説明する。
を説明する。
【００２０】本実施例においては、配管９と研磨材噴射
ノズル１７がそれぞれ逆方向に回転するように構成され
ている。
ノズル１７がそれぞれ逆方向に回転するように構成され
ている。
【００２１】研磨される配管９は配管支持ローラ１上に
置かれ、押さえローラ２により押さえられ、その一端が
回収装置３に挿入される。配管支持ローラ１はモータ４
により回転駆動されるようになっており、そのローラ間
隔は、任意に調整ができ、又、配管回転用モータ４によ
り研磨材噴射回転ノズル８と逆方向に回転する。回収装
置３の内部は排気装置１６により負圧に保持され、内面
に噴射された研磨材を回収できる構造となっている。研
磨材は、研磨材供給装置５からホース６、ランスパイプ
７を通って研磨材噴射ノズル８より配管内面に噴射され
る。研磨材噴射ノズル８は回転駆動されるようになって
おり、又、ランスパイプ７に接合され、ノズル移動装置
１０により配管内部を走行するようになっている。ノズ
ル移動装置１０は移動用モータ１１で駆動し、リミット
スイッチ１２ａおよび１２ｂにより起動と停止ができ
る。ノズル移動装置１０は、高さ調整機１３により上下
位置の調整ができる。
置かれ、押さえローラ２により押さえられ、その一端が
回収装置３に挿入される。配管支持ローラ１はモータ４
により回転駆動されるようになっており、そのローラ間
隔は、任意に調整ができ、又、配管回転用モータ４によ
り研磨材噴射回転ノズル８と逆方向に回転する。回収装
置３の内部は排気装置１６により負圧に保持され、内面
に噴射された研磨材を回収できる構造となっている。研
磨材は、研磨材供給装置５からホース６、ランスパイプ
７を通って研磨材噴射ノズル８より配管内面に噴射され
る。研磨材噴射ノズル８は回転駆動されるようになって
おり、又、ランスパイプ７に接合され、ノズル移動装置
１０により配管内部を走行するようになっている。ノズ
ル移動装置１０は移動用モータ１１で駆動し、リミット
スイッチ１２ａおよび１２ｂにより起動と停止ができ
る。ノズル移動装置１０は、高さ調整機１３により上下
位置の調整ができる。
【００２２】配管内面に噴射された研磨材および放射線
源を含む研磨屑は回収装置３に回収され、エアーサイク
ロン１４とフィルタ１５により分離回収され、回収され
た研磨材は再使用される。
源を含む研磨屑は回収装置３に回収され、エアーサイク
ロン１４とフィルタ１５により分離回収され、回収され
た研磨材は再使用される。
【００２３】次に、図４を参照して本発明の第４実施例
を説明する。
を説明する。
【００２４】本実施例においては、配管９及び研磨材噴
射ノズル８のいずれもが回転しないで固定になってい
る。
射ノズル８のいずれもが回転しないで固定になってい
る。
【００２５】研磨される配管９は配管支持ローラ１８上
に置かれ、押さえローラ２により押さえられ、その一端
が回収装置３に挿入される。配管支持ローラ１８のロー
ラ間隔は、任意に調整ができる。回収装置３の内部は排
気装置１６により負圧に保持され、配管端部より内面に
噴射された研磨材を回収できる構造となっている。研磨
材は、研磨材供給装置５からホース６及びランスパイプ
７を通って配管端部に拡散防止板２０により密着させた
研磨材噴射ノズル８より配管内面に噴射される。研磨材
噴射ノズル８によって研磨材は配管内で旋回流が形成さ
れる。研磨材噴射ノズル８はランスパイプ７に接合さ
れ、ランスパイプ固定装置１９により配管中心に位置す
るように固定される。ランスパイプ固定装置１９は、高
さ調整機１３により上下の調整ができる。
に置かれ、押さえローラ２により押さえられ、その一端
が回収装置３に挿入される。配管支持ローラ１８のロー
ラ間隔は、任意に調整ができる。回収装置３の内部は排
気装置１６により負圧に保持され、配管端部より内面に
噴射された研磨材を回収できる構造となっている。研磨
材は、研磨材供給装置５からホース６及びランスパイプ
７を通って配管端部に拡散防止板２０により密着させた
研磨材噴射ノズル８より配管内面に噴射される。研磨材
噴射ノズル８によって研磨材は配管内で旋回流が形成さ
れる。研磨材噴射ノズル８はランスパイプ７に接合さ
れ、ランスパイプ固定装置１９により配管中心に位置す
るように固定される。ランスパイプ固定装置１９は、高
さ調整機１３により上下の調整ができる。
【００２６】配管内面に噴射された研磨材および放射線
源を含む研磨屑は回収装置３に回収され、エアーサイク
ロン１４とフィルタ１５により分離回収され、回収され
た研磨材は再使用される。
源を含む研磨屑は回収装置３に回収され、エアーサイク
ロン１４とフィルタ１５により分離回収され、回収され
た研磨材は再使用される。
【００２７】
【実験結果】以下、本発明の一実施例の図１に示す回転
しない構造の研磨材噴射ノズルを配管に挿入し、配管を
回転させることにより配管内面を研磨する装置を実内面
汚染配管に適用して処理した結果を図５に示す。図５か
ら明らかなように、放射線源が内面付着したいわゆる汚
染ステンレス配管を本発明の装置により処理した結果、
処理後の内面汚染密度は、全て検出限界値以下を達成す
ることができた。即ち、本発明の装置により内面付着し
た放射線源が完全に除去できたわけである。
しない構造の研磨材噴射ノズルを配管に挿入し、配管を
回転させることにより配管内面を研磨する装置を実内面
汚染配管に適用して処理した結果を図５に示す。図５か
ら明らかなように、放射線源が内面付着したいわゆる汚
染ステンレス配管を本発明の装置により処理した結果、
処理後の内面汚染密度は、全て検出限界値以下を達成す
ることができた。即ち、本発明の装置により内面付着し
た放射線源が完全に除去できたわけである。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、配
管内面に研磨材を噴射し、研磨材の衝撃力で配管内面の
金属面を研磨することにより汚染配管内面の汚染を除去
することができる。したがって、最終的に放射性廃棄物
として保管管理する放射性廃棄ドラム缶の発生量が低減
できる。
管内面に研磨材を噴射し、研磨材の衝撃力で配管内面の
金属面を研磨することにより汚染配管内面の汚染を除去
することができる。したがって、最終的に放射性廃棄物
として保管管理する放射性廃棄ドラム缶の発生量が低減
できる。
【図１】本発明に係る内面汚染配管の除染装置の一実施
例を示す基本構成図。
例を示す基本構成図。
【図２】本発明に係る内面汚染配管の除染装置の第２実
施例を示す基本構成図。
施例を示す基本構成図。
【図３】本発明に係る内面汚染配管の除染装置の第３実
施例を示す基本構成図。
施例を示す基本構成図。
【図４】本発明に係る内面汚染配管の除染装置の第４実
施例を示す基本構成図。
施例を示す基本構成図。
【図５】図１に示す装置を実内面汚染配管に適用して処
理した実験結果を示すグラフ。
理した実験結果を示すグラフ。
１ 配管支持ローラ ２ 押さえローラ ３ 回収装置 ４ 配管回転用モータ ５ 研磨材供給装置 ６ ホース ７ ランスパイプ ８ 研磨材噴射ノズル ９ 汚染配管 １０ ノズル移動装置 １１ 移動用モータ １２ａ リミットスイッチ １２ｂ リミットスイッチ １３ 高さ調整機 １４ エアーサイクロン １５ フィルタ １６ 排気装置 １７ 研磨材噴射ノズル １８ 配管支持ローラ １９ ランスパイプ固定装置 ２０ 拡散防止板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内山 洋一 神奈川県川崎市川崎区江川１丁目４番１号 荏原工業洗浄株式会社内 (72)発明者 蛭田 広一 神奈川県横浜市磯子区新杉田町81番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 岡 重弘 神奈川県川崎市幸区堀川町66番２ 東芝エ ンジニアリング株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】配管を載置して支持する配管支持装置と、
配管内面に向けて研磨材を噴射するノズルと、該ノズル
に研磨材を供給するための研磨材供給装置と、配管内面
に噴射された研磨材と放射線源を含む研磨屑とを回収す
る回収装置とを備えたことを特徴とする内面汚染配管の
除染装置。 - 【請求項２】前記配管支持装置が前記配管を回転させる
ように構成されていることを特徴とする請求項１記載の
内面汚染配管の除染装置。 - 【請求項３】前記ノズルがその軸心の回りに回転可能に
構成されていることを特徴とする請求項１記載の内面汚
染配管の除染装置。 - 【請求項４】前記配管支持装置が前記配管を一方向に回
転させるように構成され、前記ノズルが前記配管の回転
方向とは逆方向に、その軸心の回りに回転可能に構成さ
れていることを特徴とする請求項１記載の内面汚染配管
の除染装置。 - 【請求項５】前記ノズルが研磨材に配管内で旋回流を形
成させるように研磨材を配管内面に向けて噴射すること
を特徴とする請求項１記載の内面汚染配管の除染装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25566991A JPH05113496A (ja) | 1991-09-07 | 1991-09-07 | 内面汚染配管の除染装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25566991A JPH05113496A (ja) | 1991-09-07 | 1991-09-07 | 内面汚染配管の除染装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05113496A true JPH05113496A (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=17281974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25566991A Pending JPH05113496A (ja) | 1991-09-07 | 1991-09-07 | 内面汚染配管の除染装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05113496A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000075095A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-14 | Toshiba Corp | 放射能汚染物の除染装置および研摩材の回収方法 |
| JP2010286374A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 熱交換器の除染方法および除染装置 |
-
1991
- 1991-09-07 JP JP25566991A patent/JPH05113496A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000075095A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-14 | Toshiba Corp | 放射能汚染物の除染装置および研摩材の回収方法 |
| JP2010286374A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 熱交換器の除染方法および除染装置 |
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