JPH05114776A - ベアチツプlsiの実装構造 - Google Patents

ベアチツプlsiの実装構造

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JPH05114776A
JPH05114776A JP3266596A JP26659691A JPH05114776A JP H05114776 A JPH05114776 A JP H05114776A JP 3266596 A JP3266596 A JP 3266596A JP 26659691 A JP26659691 A JP 26659691A JP H05114776 A JPH05114776 A JP H05114776A
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康秀 黒田
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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 直接ベアチップLSIを多層構成の回路基板
に密封実装するベアチップLSIの実装構造に関し、小
形化、高密度実装化及び高放熱化が図れ、EMI対策も
講じられるベアチップLSIの実装構造を提供すること
を目的とする。 【構成】 多層構成の回路基板1のベアチップLSI9
の搭載部が段付凹部2を成し、底面には内層の広範囲に
広がり面を有し、ベアチップLSI9をダイボンディン
グさせる内層導体3が露出し、段部21にはベアチップL
SI9と接続する回路端子4が、対向位置に内層導体に
より配設してあり、段付凹部2の表面縁部には接地回路
に通じる環状の導体パターン11を有し、一面が全導体面
51を成し、他の面に絶縁して回路パターン52を形成させ
たキャップ5にて、段付凹部2を覆い、全導体面51を前
記導体パターン11に密着固定させて段付凹部2内部を密
封し、回路パターン52を回路基板1の表面回路パターン
12に接続させて成るように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は直接ベアチップLSIを
多層構成の回路基板に密封実装するベアチップLSIの
実装構造に関する。
【0002】最近、LSI(Large Scale Integratedci
rcuit) の高速化、高発熱化に対応した高密度実装構造
(回路基板技術、封止技術、放熱技術の合成による)の
検討が進められており、簡単な構造で要求特性を満足
し、コストパフォーマンスに優れたベアチップLSIの
実装技術を開発することが要望されている。
【0003】
【従来の技術】図2に従来例のベアチップLSIの実装
構造を示し、(a) は樹脂封止、(b) はキャップ封止であ
る。
【0004】図2の(a) に示す樹脂封止は、一般的なC
OB (Chip on Board)実装であり、ベアチップLSI9
を回路基板15の表面に固着させ、表面回路パターン12に
接続端子をワイヤボンディングして接続してから、電気
的絶縁性の封止用の樹脂99を盛り上げてベアチップLS
I9を完全に埋没させて封止して実装する、極めて簡単
なものである。
【0005】図2の(b) のキャップ封止は、回路モジュ
ールの薄型化に対応した実装例であり、回路基板15に段
付凹部25を設け、底部にベアチップLSI9を固着さ
せ、段部26に配設した回路端子とワイヤボンディングし
た後に、段付凹部15の開口にキャップ55を覆い、密着接
着して内部を封止して実装する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、 前記従来例は何れもベアチップLSI9の実装領域
が配線上の完全なデッドスペースとなり、高密度実装の
ネックとなる。 又ベアチップLSI9をEMI(Electro Magnetic
Interference;電磁波障害)等から守る構造においても
問題がある。 一方、放熱性については、回路基板15が有機系材料
の場合、放熱用にスルーホールを設けて放熱させる構造
があるが、放熱効果は少ない。 等の問題点があった。
【0007】本発明は、かかる問題点に鑑みて、回路モ
ジュールの小形化、高密度実装化及び高放熱化が図れ、
且つEMI対策も講じられたベアチップLSIの実装構
造を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は、図1に示す
如く、 [1] 多層構成の回路基板1のベアチップLSI9の搭載
部が段付凹部2を成し、底面には内層の広範囲に広がり
面を有し、ベアチップLSI9をダイボンディングさせ
る内層導体3が露出し、段部21にはベアチップLSI9
の端子と接続する回路端子4が、対向位置に内層導体に
より形成配設してあり、段付凹部2の表面縁部には接地
回路に通じる環状の導体パターン11を有し、一面が全導
体面51を成し、他の面に絶縁して回路パターン52を形成
させたキャップ5にて、段付凹部2を覆い、全導体面51
を前記導体パターン11に密着固定させて段付凹部2内部
を密封し、回路パターン52を回路基板1の表面回路パタ
ーン12に接続させて成る、本発明のベアチップLSIの
実装構造により達成される。 [2] 又、ベアチップLSI9をダイボンディングする内
層導体3にスルーホール6を設け、スルーホール6に、
回路基板1の金属カバー7又は回路基板1を収容する金
属ケースに突設した金属ピン71を挿入固着させて成る、
上記発明のベアチップLSIの実装構造によっても適え
られる。 [3] 更に、キャップ5の回路パターン52を形成した面に
表面実装型部品91を実装する、上記発明のベアチップL
SIの実装構造によっても達成される。
【0009】
【作用】即ち、ベアチップLSI9は回路基板1の段付
凹部2に収容し、キャップ5にて蓋して密封実装し、ダ
イボンディングした内層導体3と、キャップ5の全導体
面51とにより上下両面が導体にて覆われ、外側の全導体
面51は導体パターン11を介して回路基板1の接地回路に
接地されるので、EMIに対する遮蔽効果を有する。
【0010】又、キャップ5の表側面には、回路基板1
の表面回路パターン12と接続する回路パターン52が形成
されるので、ベアチップLSI9の実装領域にも配線が
行われることとなり、更には、表面実装型部品91も実装
できるので、実装密度が高められる。
【0011】ベアチップLSI9の放熱性は、ダイボン
ディングした内層導体3が広範囲に広がり面を有してお
り、その導体厚及び面積を増やすことにより放熱性を高
める効果が有る。
【0012】より高放熱性を要するものには、更に、内
層導体3にスルーホール6を設け、これに金属カバー7
や金属ケースに突設した金属ピン71を挿着させて、スル
ーホール6から金属ピン71を介して金属カバー7に伝熱
させ、外部に放熱させる。金属カバー7や金属ケース
は、回路基板1と同じ大きさ以上と十分に大きく、放熱
量を十分に大きく得ることができる。
【0013】かくして、本発明により、回路モジュール
の小形化、高密度実装化及び高放熱化が図れ、且つEM
I対策も講じられたベアチップLSIの実装構造を提供
することが可能となる。
【0014】
【実施例】以下図面に示す実施例によって本発明を具体
的に説明する。全図を通し同一符号は同一対象物を示
す。図1に本発明の一実施例の構造断面図を示す。
【0015】図1に示す如く、セラミック基材の多層構
成の回路基板1には、ベアチップLSI9の実装位置に
段付凹部2が設けられ、底面には内層の略回路基板1の
全面に広がり、回路配線より厚手の内層導体3を露出さ
せており、段部21にはベアチップLSI9の端子と接続
する回路端子4が、対向位置に内層導体により形成され
配設してある。更に、段付凹部2の表面縁部には、接地
回路に通じる環状の導体パターン11が形成してある。
【0016】更に、段付凹部2の周りに近く、ベアチッ
プLSI9をダイボンディングした内層導体3に通じる
スルーホール6が設けてある。回路基板1を覆う金属カ
バー7には、このスルーホール6に挿入させる銅の金属
ピン71が、対応位置毎に鑞付けして垂設してある。
【0017】段付凹部2を覆うキャップ8は、銅薄板の
一面に合成樹脂の絶縁層、導体層を積層させたもので、
裏面が全導体面51を成し、表面に絶縁して回路パターン
52を形成させており、更に、表面実装型部品91を搭載実
装している。
【0018】ベアチップLSI9を段付凹部2の底面の
内層導体3にダイボンディングし、その端子と、段部21
の回路端子4とをワイヤボンディングして接続する。次
に、キャップ5を段付凹部2にあてがい、全導体面51を
縁部の導体パターン11に半田付けして段付凹部2内部を
密封する。
【0019】最後に、キャップ5の回路パターン52の端
部と、回路基板1の対向する表面回路パターン12とを、
ワイヤボンディングして回路接続する。上記実施例は一
例を示し、各部の形状、材料は上記のものに限定するも
のではない。
【0020】ベアチップLSI9と回路端子4、キャッ
プ5の回路パターン52と回路基板1の表面回路パターン
12とのワイヤボンディングを、TAB(Tape Automated
Bon-ding) による接続でも差支えない。
【0021】回路基板1はセラミック基材としたが、紙
や布、ガラス等の繊維と合成樹脂から成る積層基材でも
良く、又、キャップ5も銅薄板の基材としたが回路基板
1と同基材でも良い。
【0022】
【発明の効果】以上の如く、本発明のベアチップLSI
の実装構造により、回路モジュールの小形化、高密度実
装化が行え、且つ放熱特性の向上が図れ、更に、EMI
対策も講じられた実装構造が得られ、電気特性及び信頼
性の向上が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例の構造断面図
【図2】 従来例のベアチップLSIの実装構造 (a) 樹脂封止 (b) キャップ封止
【符号の説明】
1,15 回路基板 2,25 段付凹部 3
内層導体 4 回路端子 5,55 キャップ 6
スルーホール 7 金属カバー 9 ベアチップLSI 11
導体パターン 12 表面回路パターン 21,26 段部 51
全導体面 52 回路パターン 71 金属ピン 91
表面実装型部品 99 樹脂

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多層構成の回路基板(1) のベアチップL
    SI(9) の搭載部が段付凹部(2) を成し、 底面には内層の広範囲に広がり面を有し、該ベアチップ
    LSI(9) をダイボンディングさせる内層導体(3) が露
    出し、 段部(21)には該ベアチップLSI(9) の端子と接続する
    回路端子(4) が、対向位置に内層導体により形成配設し
    てあり、 該段付凹部(2) の表面縁部には接地回路に通じる環状の
    導体パターン(11)を有し、 一面が全導体面(51)を成し、他の面に絶縁して回路パタ
    ーン(52)を形成させたキャップ(5) にて、該段付凹部
    (2) を覆い、該全導体面(51)を前記導体パターン(11)に
    密着固定させて段付凹部(2) 内部を密封し、該回路パタ
    ーン(52)を該回路基板(1) の表面回路パターン(12)に接
    続させて成ることを特徴とするベアチップLSIの実装
    構造。
  2. 【請求項2】 ベアチップLSI(9) をダイボンディン
    グする内層導体(3)にスルーホール(6) を設け、該スル
    ーホール(6) に、回路基板(1) の金属カバー(7) 又は該
    回路基板(1)を収容する金属ケースに突設した金属ピン
    (71)を挿入固着させて成ることを特徴とする請求項1記
    載のベアチップLSIの実装構造。
  3. 【請求項3】 キャップ(5) の回路パターン(52)を形成
    した面に表面実装型部品(91)を実装することを特徴とす
    る請求項1記載のベアチップLSIの実装構造。
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