JPH05124936A - 毛髪化粧料 - Google Patents
毛髪化粧料Info
- Publication number
- JPH05124936A JPH05124936A JP28798791A JP28798791A JPH05124936A JP H05124936 A JPH05124936 A JP H05124936A JP 28798791 A JP28798791 A JP 28798791A JP 28798791 A JP28798791 A JP 28798791A JP H05124936 A JPH05124936 A JP H05124936A
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- JP
- Japan
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- hair
- compound
- manufactured
- glycidyl ether
- ether
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 次の成分（ａ）及び（ｂ）
（ａ）一般式（１）で表されるシロキサン誘導体
【化１】
〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 のうち少なくとも１つは下
記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 （Ｒ5 及びＲ6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数
６〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アル
ケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す）で表される
置換基を示し、上記以外のＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 並びにＲ
4 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ及びｎはｍ＋
ｎが１〜200 となる数を示す〕 （ｂ）皮膜形成性ポリマー を含有することを特徴とする毛髪化粧料。 【効果】 髪のコンディショニング効果及び整髪効果と
もに優れたものである。
記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 （Ｒ5 及びＲ6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数
６〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アル
ケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す）で表される
置換基を示し、上記以外のＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 並びにＲ
4 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ及びｎはｍ＋
ｎが１〜200 となる数を示す〕 （ｂ）皮膜形成性ポリマー を含有することを特徴とする毛髪化粧料。 【効果】 髪のコンディショニング効果及び整髪効果と
もに優れたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シロキサン誘導体及び
皮膜形成性ポリマーを含有し、髪のコンディショニング
効果及び整髪効果に優れた毛髪化粧料に関する。
皮膜形成性ポリマーを含有し、髪のコンディショニング
効果及び整髪効果に優れた毛髪化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
くし通り等の髪のコンディショニングを整える目的で、
シリコーン油、エステル油、炭化水素油等の油成分や、
カチオン活性剤、蛋白質加水分解物を配合した毛髪化粧
料が用いられている。
くし通り等の髪のコンディショニングを整える目的で、
シリコーン油、エステル油、炭化水素油等の油成分や、
カチオン活性剤、蛋白質加水分解物を配合した毛髪化粧
料が用いられている。
【０００３】しかしながら、これらの毛髪化粧料は、コ
ンディショニング効果と整髪効果の両方を満足させるも
のではなかった。
ンディショニング効果と整髪効果の両方を満足させるも
のではなかった。
【０００４】従って、コンディショニング効果と整髪効
果を兼ね備えた毛髪化粧料が望まれていた。
果を兼ね備えた毛髪化粧料が望まれていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定のシロキサン誘
導体と皮膜形成性ポリマーを用いれば、髪のコンディシ
ョニング効果と整髪効果を兼ね備えた毛髪化粧料が得ら
れることを見出し、本発明を完成した。
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定のシロキサン誘
導体と皮膜形成性ポリマーを用いれば、髪のコンディシ
ョニング効果と整髪効果を兼ね備えた毛髪化粧料が得ら
れることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、次の成分（ａ）及び
（ｂ） （ａ）一般式（１）で表されるシロキサン誘導体
（ｂ） （ａ）一般式（１）で表されるシロキサン誘導体
【０００７】
【化２】
【０００８】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 のうち少なく
とも１つは下記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 （Ｒ5 及びＲ6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数
６〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アル
ケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す）で表される
置換基を示し、上記以外のＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 並びにＲ
4 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ及びｎはｍ＋
ｎが１〜200 となる数を示す〕 （ｂ）皮膜形成性ポリマー を含有することを特徴とする毛髪化粧料を提供するもの
である。
とも１つは下記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 （Ｒ5 及びＲ6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数
６〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アル
ケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す）で表される
置換基を示し、上記以外のＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 並びにＲ
4 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ及びｎはｍ＋
ｎが１〜200 となる数を示す〕 （ｂ）皮膜形成性ポリマー を含有することを特徴とする毛髪化粧料を提供するもの
である。
【０００９】本発明で用いられる（ａ）成分のシロキサ
ン誘導体（１）は、常法に従って製造することができる
が、例えば特開平2-265926号公報に示す如く、下記反応
式に従って、白金触媒の存在下、シロキサン（２）とア
リルグリセリルエーテル（３）又は（４）とをヒドロシ
リル化反応させることにより製造される。
ン誘導体（１）は、常法に従って製造することができる
が、例えば特開平2-265926号公報に示す如く、下記反応
式に従って、白金触媒の存在下、シロキサン（２）とア
リルグリセリルエーテル（３）又は（４）とをヒドロシ
リル化反応させることにより製造される。
【００１０】
【化３】
【００１１】（式中、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 のうち少なく
とも１つは水素原子を示し、残りは炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、ｍ及びｎは前記と同
じ意味を示す）
とも１つは水素原子を示し、残りは炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 、ｍ及びｎは前記と同
じ意味を示す）
【００１２】上記反応において使用されるシロキサンと
しては、例えばペンタメチルジシロキサン、ヘプタメチ
ルトリシロキサン、ノナメチルテトラシロキサン、ウン
デカメチルペンタシロキサン、トリデカメチルヘキサシ
ロキサン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルト
リシロキサン、オクタメチルテトラシロキサン、デカメ
チルペンタシロキサン、ドデカメチルヘキサシロキサン
等に代表される比較的短鎖長のポリシロキサン類から、
分子量15000 程度までの長鎖長のポリシロキサン類ま
で、ｍ＋ｎが１〜200 であり、分子内に少なくとも１つ
のSi-H基を含有するものであれば用いることができる。
しては、例えばペンタメチルジシロキサン、ヘプタメチ
ルトリシロキサン、ノナメチルテトラシロキサン、ウン
デカメチルペンタシロキサン、トリデカメチルヘキサシ
ロキサン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルト
リシロキサン、オクタメチルテトラシロキサン、デカメ
チルペンタシロキサン、ドデカメチルヘキサシロキサン
等に代表される比較的短鎖長のポリシロキサン類から、
分子量15000 程度までの長鎖長のポリシロキサン類ま
で、ｍ＋ｎが１〜200 であり、分子内に少なくとも１つ
のSi-H基を含有するものであれば用いることができる。
【００１３】また、アリルグリセリルエーテル（３）又
は（４）は、例えば下記反応式に従って、グリシジルエ
ーテル類（５）とアリルアルコールとを、ルイス酸触媒
又は塩基触媒の存在下に反応させることにより、容易に
製造することができる。
は（４）は、例えば下記反応式に従って、グリシジルエ
ーテル類（５）とアリルアルコールとを、ルイス酸触媒
又は塩基触媒の存在下に反応させることにより、容易に
製造することができる。
【００１４】
【化４】
【００１５】（式中、Ｒ10は炭素数６〜30の直鎖、分岐
鎖もしくは環状のアルキル基、アルケニル基又はヒドロ
キシアルキル基を示す）
鎖もしくは環状のアルキル基、アルケニル基又はヒドロ
キシアルキル基を示す）
【００１６】上記グリシジルエーテル（５）としては、
例えばｎ−ヘキシルグリシジルエーテル、ｎ−オクチル
グリシジルエーテル、ｎ−デシルグリシジルエーテル、
ｎ−ドデシルグリシジルエーテル、ｎ−テトラデシルグ
リシジルエーテル、ｎ−ヘキサデシルグリシジルエーテ
ル、ｎ−オクタデシルグリシジルエーテル等の飽和直鎖
脂肪族グリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシ
ジルエーテル、２−ヘキシルデシルグリシジルエーテ
ル、２−ヘプチルウンデシルグリシジルエーテル、２−
オクチルドデシルグリシジルエーテル、２−デシルテト
ラデシルグリシジルエーテル、５，７，７−トリメチル
−２−（１，３，３−トリメチルブチル）オクチルグリ
シジルエーテル、次式
例えばｎ−ヘキシルグリシジルエーテル、ｎ−オクチル
グリシジルエーテル、ｎ−デシルグリシジルエーテル、
ｎ−ドデシルグリシジルエーテル、ｎ−テトラデシルグ
リシジルエーテル、ｎ−ヘキサデシルグリシジルエーテ
ル、ｎ−オクタデシルグリシジルエーテル等の飽和直鎖
脂肪族グリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシ
ジルエーテル、２−ヘキシルデシルグリシジルエーテ
ル、２−ヘプチルウンデシルグリシジルエーテル、２−
オクチルドデシルグリシジルエーテル、２−デシルテト
ラデシルグリシジルエーテル、５，７，７−トリメチル
−２−（１，３，３−トリメチルブチル）オクチルグリ
シジルエーテル、次式
【００１７】
【化５】
【００１８】（式中、ｐ＋ｑ＝14であり、ｐ＝ｑ＝７を
頂点とする分布を有する）で表されるメチル分岐イソス
テアリルグリシジルエーテル等の飽和分岐脂肪族グリシ
ジルエーテル；シクロヘキシルグリシジルエーテル、シ
クロヘプチルグリシジルエーテル、シクロオクチルグリ
シジルエーテル、シクロドデシルグリシジルエーテル、
アビエチルグリシジルエーテル、ジヒドロアビエチルグ
リシジルエーテル、テトラヒドロアビエチルグリシジル
エーテル、コレステリルグリシジルエーテル、コレスタ
ニルグリシジルエーテル等の環状脂肪族グリシジルエー
テル；９−オクタデセニルグリシジルエーテル、ファル
ネシルグリシジルエーテル等の不飽和脂肪族グリシジル
エーテル；１２−ヒドロキシステアリルグリシジルエー
テル等のヒドロキシアルキルグリシジルエーテルなどが
挙げられる。
頂点とする分布を有する）で表されるメチル分岐イソス
テアリルグリシジルエーテル等の飽和分岐脂肪族グリシ
ジルエーテル；シクロヘキシルグリシジルエーテル、シ
クロヘプチルグリシジルエーテル、シクロオクチルグリ
シジルエーテル、シクロドデシルグリシジルエーテル、
アビエチルグリシジルエーテル、ジヒドロアビエチルグ
リシジルエーテル、テトラヒドロアビエチルグリシジル
エーテル、コレステリルグリシジルエーテル、コレスタ
ニルグリシジルエーテル等の環状脂肪族グリシジルエー
テル；９−オクタデセニルグリシジルエーテル、ファル
ネシルグリシジルエーテル等の不飽和脂肪族グリシジル
エーテル；１２−ヒドロキシステアリルグリシジルエー
テル等のヒドロキシアルキルグリシジルエーテルなどが
挙げられる。
【００１９】本発明の毛髪化粧料において、これらシロ
キサン誘導体（１）は、全組成中に0.1 〜20重量％（以
下、単に％で示す）、特に0.5 〜10％配合するのが好ま
しい。
キサン誘導体（１）は、全組成中に0.1 〜20重量％（以
下、単に％で示す）、特に0.5 〜10％配合するのが好ま
しい。
【００２０】また、（ｂ）成分の皮膜形成性ポリマーと
しては、例えばポリビニルピロリドン系高分子化合物、
酸性ビニルエーテル系高分子化合物、酸性ポリ酢酸ビニ
ル系高分子化合物、酸性アクリル系高分子化合物、両性
アクリル系高分子化合物、塩基性アクリル系高分子化合
物などを使用することができる。
しては、例えばポリビニルピロリドン系高分子化合物、
酸性ビニルエーテル系高分子化合物、酸性ポリ酢酸ビニ
ル系高分子化合物、酸性アクリル系高分子化合物、両性
アクリル系高分子化合物、塩基性アクリル系高分子化合
物などを使用することができる。
【００２１】ポリビニルピロリドン系高分子化合物とし
ては、例えばＬｕｖｉｓｋｏｌ Ｋ１２、１７、３０、
６０、８０、９０（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ Ｋ
１５、３０、６０、９０（以上、ＧＡＦ社製）等のポリ
ビニルピロリドン；Ｌｕｖｉｓｋｏｌ ＶＡ２８、３
７、５５、６４、７３（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ
／ＶＡ Ｅ−７３５、Ｅ−６３５、Ｅ−５３５、Ｅ−３
３５、Ｓ−６３０、Ｗ−７３５（以上、ＧＡＦ社製）等
のポリビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体；Ｌｕｖ
ｉｓｋｏｌ ＶＡＰ３４３（ＢＡＳＦ社製）等のポリビ
ニルピロリドン／酢酸ビニル／プロピオン酸ビニル三元
共重合体；Ｌｕｖｉｆｌｅｘ（ＢＡＳＦ社製）、ＣＯＰ
ＯＬＹＭＥＲ ８４５、９３７、９５８（以上、ＧＡＦ
社製）等のポリビニルピロリドン／アルキルアミノアク
リレート共重合体；Ｌｕｖｉｆｌｅｘ ＶＢＭ ３５
（ＢＡＳＦ社製）等のポリビニルピロリドン／アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸共重合体；ＣＯＰＯＬＹＭＥ
Ｒ ＶＣ−７１３（以上、ＧＡＦ社製）等のポリビニル
ピロリドン／アルキルアミノアクリレート／ビニルカプ
ロラクタム共重合体などが挙げられる。
ては、例えばＬｕｖｉｓｋｏｌ Ｋ１２、１７、３０、
６０、８０、９０（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ Ｋ
１５、３０、６０、９０（以上、ＧＡＦ社製）等のポリ
ビニルピロリドン；Ｌｕｖｉｓｋｏｌ ＶＡ２８、３
７、５５、６４、７３（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＰＶＰ
／ＶＡ Ｅ−７３５、Ｅ−６３５、Ｅ−５３５、Ｅ−３
３５、Ｓ−６３０、Ｗ−７３５（以上、ＧＡＦ社製）等
のポリビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体；Ｌｕｖ
ｉｓｋｏｌ ＶＡＰ３４３（ＢＡＳＦ社製）等のポリビ
ニルピロリドン／酢酸ビニル／プロピオン酸ビニル三元
共重合体；Ｌｕｖｉｆｌｅｘ（ＢＡＳＦ社製）、ＣＯＰ
ＯＬＹＭＥＲ ８４５、９３７、９５８（以上、ＧＡＦ
社製）等のポリビニルピロリドン／アルキルアミノアク
リレート共重合体；Ｌｕｖｉｆｌｅｘ ＶＢＭ ３５
（ＢＡＳＦ社製）等のポリビニルピロリドン／アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸共重合体；ＣＯＰＯＬＹＭＥ
Ｒ ＶＣ−７１３（以上、ＧＡＦ社製）等のポリビニル
ピロリドン／アルキルアミノアクリレート／ビニルカプ
ロラクタム共重合体などが挙げられる。
【００２２】酸性ビニルエーテル系高分子化合物として
は、例えばＧＡＮＴＲＥＺ ＥＳ−２２５、ＥＳ−４２
５、ＳＰ−２１５（以上、ＧＡＦ社製）等のメチルビニ
ルエーテル／無水マレイン酸アルキルハーフエステル共
重合体などが挙げられる。
は、例えばＧＡＮＴＲＥＺ ＥＳ−２２５、ＥＳ−４２
５、ＳＰ−２１５（以上、ＧＡＦ社製）等のメチルビニ
ルエーテル／無水マレイン酸アルキルハーフエステル共
重合体などが挙げられる。
【００２３】酸性ポリ酢酸ビニル系高分子化合物として
は、例えば、ＲＥＳＩＮ２８−１３１０（National Sta
rch 社製）、Ｌｕｖｉｓｅｔ ＣＡ６６（ＢＡＳＦ社
製）等の酢酸ビニル／クロトン酸共重合体；ＲＥＳＩＮ
２８−２９３０（NationalStarch 社製）等の酢酸ビ
ニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニル共重合体；Ｌｕ
ｖｉｓｅｔ ＣＡＰ（ＢＡＳＦ社製）等の酢酸ビニル／
クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体などが挙げら
れる。
は、例えば、ＲＥＳＩＮ２８−１３１０（National Sta
rch 社製）、Ｌｕｖｉｓｅｔ ＣＡ６６（ＢＡＳＦ社
製）等の酢酸ビニル／クロトン酸共重合体；ＲＥＳＩＮ
２８−２９３０（NationalStarch 社製）等の酢酸ビ
ニル／クロトン酸／ネオデカン酸ビニル共重合体；Ｌｕ
ｖｉｓｅｔ ＣＡＰ（ＢＡＳＦ社製）等の酢酸ビニル／
クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体などが挙げら
れる。
【００２４】酸性アクリル系高分子化合物としては、例
えばプラスサイズ Ｌ５３Ｐ（互応化学（株）製）、ダ
イヤホールド（三菱油化（株）製）等の（メタ）アクリ
ル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体；Ｕｌｔｒ
ａｈｏｌｄ ８（ＢＡＳＦ社製）、ＡＭＰＨＯＭＥＲ
Ｖ−４２（National Starch 社製）等のアクリル酸／ア
クリル酸アルキルエステル／アルキルアクリルアミド共
重合体などが挙げられる。
えばプラスサイズ Ｌ５３Ｐ（互応化学（株）製）、ダ
イヤホールド（三菱油化（株）製）等の（メタ）アクリ
ル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体；Ｕｌｔｒ
ａｈｏｌｄ ８（ＢＡＳＦ社製）、ＡＭＰＨＯＭＥＲ
Ｖ−４２（National Starch 社製）等のアクリル酸／ア
クリル酸アルキルエステル／アルキルアクリルアミド共
重合体などが挙げられる。
【００２５】両性アクリル系高分子化合物としては、例
えばユカフォーマー Ｍ−７５、ＳＭ（三菱油化（株）
製）等のジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート
／（メタ）アクリル酸アルキルエステル共重合体物のモ
ノクロル酢酸両性化物；ＡＭＰＨＯＭＥＲ ２８−４９
１０（National Starch社製）等のアクリル酸ヒドロキ
シプロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル／アクリ
ル酸オクチルアミド共重合体などが挙げられる。
えばユカフォーマー Ｍ−７５、ＳＭ（三菱油化（株）
製）等のジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート
／（メタ）アクリル酸アルキルエステル共重合体物のモ
ノクロル酢酸両性化物；ＡＭＰＨＯＭＥＲ ２８−４９
１０（National Starch社製）等のアクリル酸ヒドロキ
シプロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル／アクリ
ル酸オクチルアミド共重合体などが挙げられる。
【００２６】塩基性アクリル系高分子化合物としては、
例えば特開平2-180911号公報記載のアクリルアミド／ア
クリルエステル系四元共重合体などが挙げられる。
例えば特開平2-180911号公報記載のアクリルアミド／ア
クリルエステル系四元共重合体などが挙げられる。
【００２７】本発明の毛髪化粧料において、これら皮膜
形成性ポリマーは、全組成中に0.05〜10％、特に0.1 〜
５％配合するのが好ましい。
形成性ポリマーは、全組成中に0.05〜10％、特に0.1 〜
５％配合するのが好ましい。
【００２８】さらに、本発明の毛髪化粧料には、前記必
須成分のほか、必要に応じて通常用いられる化粧料成
分、例えばアニオン活性剤、非イオン活性剤、カチオン
活性剤、両性活性剤等の界面活性剤；エステル油、ワッ
クス、ワックスエステル、炭化水素、シリコーン及びそ
の誘導体、ポリオキシアルキレン誘導体、ポリオキシア
ルキレンアルキルエーテル誘導体、高級アルコール等の
油剤成分；水、低級アルコール等の揮発性担体；ＬＰ
Ｇ、フロン、ＤＭＥ等の液化ガスや炭酸ガス、窒素等の
圧縮ガスなどの噴射剤；その他、蛋白質誘導体、生薬等
の植物抽出物、水溶性高分子物質、金属イオン封鎖剤、
防腐剤、殺菌剤、グリセリン等の保湿剤、pH調整剤、紫
外線吸収剤、酸化防止剤、酸化剤、還元剤、色素、香料
などを本発明の効果を損なわない範囲で配合することが
できる。
須成分のほか、必要に応じて通常用いられる化粧料成
分、例えばアニオン活性剤、非イオン活性剤、カチオン
活性剤、両性活性剤等の界面活性剤；エステル油、ワッ
クス、ワックスエステル、炭化水素、シリコーン及びそ
の誘導体、ポリオキシアルキレン誘導体、ポリオキシア
ルキレンアルキルエーテル誘導体、高級アルコール等の
油剤成分；水、低級アルコール等の揮発性担体；ＬＰ
Ｇ、フロン、ＤＭＥ等の液化ガスや炭酸ガス、窒素等の
圧縮ガスなどの噴射剤；その他、蛋白質誘導体、生薬等
の植物抽出物、水溶性高分子物質、金属イオン封鎖剤、
防腐剤、殺菌剤、グリセリン等の保湿剤、pH調整剤、紫
外線吸収剤、酸化防止剤、酸化剤、還元剤、色素、香料
などを本発明の効果を損なわない範囲で配合することが
できる。
【００２９】本発明の毛髪化粧料は、前記シロキサン誘
導体（１）及び皮膜形成性ポリマーを配合し、通常の方
法に従って製造することができ、シャンプー、ヘアフォ
ーム、コンディショナー、ヘアトニック、セット剤等の
剤型とすることができるが、特にセット剤が好ましい。
なお、ヘアフォーム、ヘアスプレーとするときには、噴
射剤を用い、ポンプスプレーとするときには、二重構造
の容器などを用いるのが好ましい。
導体（１）及び皮膜形成性ポリマーを配合し、通常の方
法に従って製造することができ、シャンプー、ヘアフォ
ーム、コンディショナー、ヘアトニック、セット剤等の
剤型とすることができるが、特にセット剤が好ましい。
なお、ヘアフォーム、ヘアスプレーとするときには、噴
射剤を用い、ポンプスプレーとするときには、二重構造
の容器などを用いるのが好ましい。
【００３０】
【発明の効果】本発明の毛髪化粧料は、髪のコンディシ
ョニング効果及び整髪効果ともに優れたものである。
ョニング効果及び整髪効果ともに優れたものである。
【００３１】
【実施例】次に、実施例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 参考例１
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 参考例１
【００３２】
【化６】
【００３３】１−（４，８−ジオキサ−６−ヒドロキシ
テトラデシル）−１，１，３，３，３−ペンタメチルジ
シロキサン〔化合物（ａ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−ヘキシロキシ−２−プロパ
ノール；アリルアルコール 290ｇに、窒素雰囲気下、金
属ナトリウム1.15ｇをゆっくり慎重に加えて溶解させ、
60℃に加熱した後、ヘキシルグリシジルエーテル79ｇを
約80分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、60℃でさ
らに 4.5時間攪拌を続けた。反応混合物より未反応アリ
ルアルコールを留去したのち、エーテル 500mlを加え、
飽和食塩水で水層が中性になるまで繰り返し洗浄した。
エーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを
留去し、続いて減圧蒸留することにより、３−アリロキ
シ−１−ヘキシロキシ−２−プロパノール99ｇ（収率88
％）を得た。 （２）化合物（ａ）；（１）で得た３−アリロキシ−１
−ヘキシロキシ−２−プロパノール28ｇ（0.13mol ）、
ペンタメチルジシロキサン14.8ｇ（0.10mol ）、10％酢
酸カリウムエタノール溶液２ml及び溶媒としてイソプロ
ピルアルコール 100mlを室温で攪拌しながらH2PtCl6・6
H20 ２％イソプロピルアルコール溶液１mlを加えた。反
応混合物を50℃まで加温し、２時間攪拌を行ったのち、
濾過により不溶分を除去し、濾液を濃縮して粗生成物約
40ｇを得た。これよりフラッシュカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル 800ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１）で精製し、化合物（ａ）11.8ｇ（収率32
％）を得た。
テトラデシル）−１，１，３，３，３−ペンタメチルジ
シロキサン〔化合物（ａ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−ヘキシロキシ−２−プロパ
ノール；アリルアルコール 290ｇに、窒素雰囲気下、金
属ナトリウム1.15ｇをゆっくり慎重に加えて溶解させ、
60℃に加熱した後、ヘキシルグリシジルエーテル79ｇを
約80分かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、60℃でさ
らに 4.5時間攪拌を続けた。反応混合物より未反応アリ
ルアルコールを留去したのち、エーテル 500mlを加え、
飽和食塩水で水層が中性になるまで繰り返し洗浄した。
エーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、エーテルを
留去し、続いて減圧蒸留することにより、３−アリロキ
シ−１−ヘキシロキシ−２−プロパノール99ｇ（収率88
％）を得た。 （２）化合物（ａ）；（１）で得た３−アリロキシ−１
−ヘキシロキシ−２−プロパノール28ｇ（0.13mol ）、
ペンタメチルジシロキサン14.8ｇ（0.10mol ）、10％酢
酸カリウムエタノール溶液２ml及び溶媒としてイソプロ
ピルアルコール 100mlを室温で攪拌しながらH2PtCl6・6
H20 ２％イソプロピルアルコール溶液１mlを加えた。反
応混合物を50℃まで加温し、２時間攪拌を行ったのち、
濾過により不溶分を除去し、濾液を濃縮して粗生成物約
40ｇを得た。これよりフラッシュカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル 800ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１）で精製し、化合物（ａ）11.8ｇ（収率32
％）を得た。
【００３４】参考例２
【００３５】
【化７】
【００３６】１，９−ビス（４−オキサ−６−ヒドロキ
シ−７−メチルヘプタデシロキシヘプチル）−１，１，
３，３，５，５，７，７，９，９−デカメチルペンタシ
ロキサン〔化合物（ｂ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−メチルヘプタデシロキシ−
２−プロパノール；参考例１（１）において、メチル分
岐イソステアリルグリシジルエーテル32.7ｇ（0.01mol
）及びアリルアルコール58ｇ（1.0mol）を用いる以外
はほぼ同様にして、３−アリロキシ−１−メチルヘプタ
デシロキシ−２−プロパノール33.4ｇ（0.087mol，収率
87％）を得た。 （２）化合物（ｂ）；参考例１（２）において、上記
（１）で得られた３−アリロキシ−１−メチルヘプタデ
シロキシ−２−プロパノール12.5ｇ及びデカメチルペン
タシロキサン13.8ｇ（0.20mol ）を用いる以外はほぼ同
様にして、化合物（ｂ）14.6ｇ（収率68％）を得た。
シ−７−メチルヘプタデシロキシヘプチル）−１，１，
３，３，５，５，７，７，９，９−デカメチルペンタシ
ロキサン〔化合物（ｂ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−メチルヘプタデシロキシ−
２−プロパノール；参考例１（１）において、メチル分
岐イソステアリルグリシジルエーテル32.7ｇ（0.01mol
）及びアリルアルコール58ｇ（1.0mol）を用いる以外
はほぼ同様にして、３−アリロキシ−１−メチルヘプタ
デシロキシ−２−プロパノール33.4ｇ（0.087mol，収率
87％）を得た。 （２）化合物（ｂ）；参考例１（２）において、上記
（１）で得られた３−アリロキシ−１−メチルヘプタデ
シロキシ−２−プロパノール12.5ｇ及びデカメチルペン
タシロキサン13.8ｇ（0.20mol ）を用いる以外はほぼ同
様にして、化合物（ｂ）14.6ｇ（収率68％）を得た。
【００３７】参考例３
【００３８】
【化８】
【００３９】１−（４−オキサ−６−ヒドロキシ−７−
テトラヒドロアビエチルオキシヘプチル）−１，１，
３，３，５，５，７，７，９，９，１１，１１，１３，
１３，１５，１５，１７，１７，１７−ノナデカメチル
ノナシロキサン〔化合物（ｃ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−テトラヒドロアビエチルオ
キシ−２−プロパノール；参考例１（１）において、テ
トラヒドロアビエチルグリシジルエーテル52.3ｇ（0.15
mol ）及びアリルアルコール 174ｇ（3.0mol）を用いる
以外はほぼ同様にして、３−アリロキシ−１−テトラヒ
ドロアビエチルオキシ−２−プロパノール48.6ｇ（0.11
9mol，収率80％）を得た。 （２）化合物（ｃ）；（１）で得た３−アリロキシ−１
−テトラヒドロアビエチルオキシ−２−プロパノール
9.8ｇ（0.024mol）、１，１，３，３，５，５，７，
７，９，９，１１，１１，１３，１３，１５，１５，１
７，１７，１７−ノナデカメチルノナシロキサン13.3ｇ
（0.02mol ）、10％酢酸カリウムエタノール溶液0.47ｇ
及びイソプロピルアルコール60mlを室温で攪拌しなが
ら、触媒としてH2PtCl6・6H2O ２％イソプロピルアルコ
ール溶液 1.2ｇを加えた。反応混合物を40℃まで加温
し、20時間攪拌を行ったのち、溶媒を減圧留去し、触媒
をシリカゲルショートカラムクロマトグラフィーにて除
去した。次いで、減圧下で過剰の３−アリロキシ−１−
テトラヒドロアビエチルオキシ−２−プロパノールを留
去し、残渣を再びシリカゲルショートカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより、化合物（ｃ）11.0ｇ
（収率51％）を得た。
テトラヒドロアビエチルオキシヘプチル）−１，１，
３，３，５，５，７，７，９，９，１１，１１，１３，
１３，１５，１５，１７，１７，１７−ノナデカメチル
ノナシロキサン〔化合物（ｃ）〕の合成： （１）３−アリロキシ−１−テトラヒドロアビエチルオ
キシ−２−プロパノール；参考例１（１）において、テ
トラヒドロアビエチルグリシジルエーテル52.3ｇ（0.15
mol ）及びアリルアルコール 174ｇ（3.0mol）を用いる
以外はほぼ同様にして、３−アリロキシ−１−テトラヒ
ドロアビエチルオキシ−２−プロパノール48.6ｇ（0.11
9mol，収率80％）を得た。 （２）化合物（ｃ）；（１）で得た３−アリロキシ−１
−テトラヒドロアビエチルオキシ−２−プロパノール
9.8ｇ（0.024mol）、１，１，３，３，５，５，７，
７，９，９，１１，１１，１３，１３，１５，１５，１
７，１７，１７−ノナデカメチルノナシロキサン13.3ｇ
（0.02mol ）、10％酢酸カリウムエタノール溶液0.47ｇ
及びイソプロピルアルコール60mlを室温で攪拌しなが
ら、触媒としてH2PtCl6・6H2O ２％イソプロピルアルコ
ール溶液 1.2ｇを加えた。反応混合物を40℃まで加温
し、20時間攪拌を行ったのち、溶媒を減圧留去し、触媒
をシリカゲルショートカラムクロマトグラフィーにて除
去した。次いで、減圧下で過剰の３−アリロキシ−１−
テトラヒドロアビエチルオキシ−２−プロパノールを留
去し、残渣を再びシリカゲルショートカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより、化合物（ｃ）11.0ｇ
（収率51％）を得た。
【００４０】参考例４
【００４１】
【化９】
【００４２】１−（４，７−ジオキサ−６−ヒドロキシ
メチルペンタコサ）−１，１，３，３，３−ペンタメチ
ルジシロキサン〔化合物（ｄ）〕の合成： （１）１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−オクタ
デシロキシプロパン；アリルアルコール 232ｇ（4.0mo
l）に、窒素雰囲気下、金属ナトリウム 1.9ｇ（0.08mol
）をゆっくり慎重に加えて溶解させ、60℃に加熱した
後、ベンジルグリシジルエーテル65.7ｇ（0.40mol ）を
約30分かけて滴下した。滴下終了後、60℃でさらに５時
間攪拌を続けた。反応混合物より未反応アリルアルコー
ルを留去したのち、エーテル 500mlを加え、飽和食塩水
で繰り返し洗浄した。エーテル層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、エーテルを留去し、続いて減圧蒸留すること
により、１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−プロ
パノール63.0ｇ（収率71％）を得た。得られた１−アリ
ロキシ−３−ベンジロキシ−２−プロパノール31ｇ（0.
14mol ）及びトルエン500mlに、水酸化カリウム（粒
状）30ｇ及びオクタデシルクロライド48.5ｇ（0.17mol
）を加え、共沸脱水条件で５時間加熱還流させた。有
機層を水洗により繰り返し洗浄したのち、トルエンを留
去した。シリカゲルショートカラムを用いて精製するこ
とにより、１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−オ
クタデシロキシプロパン43.1ｇ（0.112mol，収率80％）
を得た。 （２）化合物（ｄ）；（１）で得られた１−アリロキシ
−３−ベンジロキシ−２−オクタデシロキシプロパン40
ｇ（0.105mol）及びペンタメチルジシロキサン14ｇ（0.
10mol ）の混合物に微量のH2PtCl6・4H2O を直接添加
し、室温で約30分攪拌した。ヘキサン 200mlで反応混合
物を希釈したのち、シリカゲルショートカラム（シリカ
ゲル 150ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝10：
１）で原点部を除去した。溶媒を留去することにより、
粗生成物38.7ｇを得た。続いて、これをメタノール 500
ml及び10％Pd-C 1.7ｇと混合し、室温で水素ガスを19ml
／min.の速さで14時間導入した。濾過により触媒を除去
し、濾液よりメタノールを留去した後、フラッシュカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル 800ｇ、展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝12：１）を用いて精製すること
により、化合物（ｄ）18.7ｇ（0.035mol，収率35％）を
得た。
メチルペンタコサ）−１，１，３，３，３−ペンタメチ
ルジシロキサン〔化合物（ｄ）〕の合成： （１）１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−オクタ
デシロキシプロパン；アリルアルコール 232ｇ（4.0mo
l）に、窒素雰囲気下、金属ナトリウム 1.9ｇ（0.08mol
）をゆっくり慎重に加えて溶解させ、60℃に加熱した
後、ベンジルグリシジルエーテル65.7ｇ（0.40mol ）を
約30分かけて滴下した。滴下終了後、60℃でさらに５時
間攪拌を続けた。反応混合物より未反応アリルアルコー
ルを留去したのち、エーテル 500mlを加え、飽和食塩水
で繰り返し洗浄した。エーテル層を無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、エーテルを留去し、続いて減圧蒸留すること
により、１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−プロ
パノール63.0ｇ（収率71％）を得た。得られた１−アリ
ロキシ−３−ベンジロキシ−２−プロパノール31ｇ（0.
14mol ）及びトルエン500mlに、水酸化カリウム（粒
状）30ｇ及びオクタデシルクロライド48.5ｇ（0.17mol
）を加え、共沸脱水条件で５時間加熱還流させた。有
機層を水洗により繰り返し洗浄したのち、トルエンを留
去した。シリカゲルショートカラムを用いて精製するこ
とにより、１−アリロキシ−３−ベンジロキシ−２−オ
クタデシロキシプロパン43.1ｇ（0.112mol，収率80％）
を得た。 （２）化合物（ｄ）；（１）で得られた１−アリロキシ
−３−ベンジロキシ−２−オクタデシロキシプロパン40
ｇ（0.105mol）及びペンタメチルジシロキサン14ｇ（0.
10mol ）の混合物に微量のH2PtCl6・4H2O を直接添加
し、室温で約30分攪拌した。ヘキサン 200mlで反応混合
物を希釈したのち、シリカゲルショートカラム（シリカ
ゲル 150ｇ、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝10：
１）で原点部を除去した。溶媒を留去することにより、
粗生成物38.7ｇを得た。続いて、これをメタノール 500
ml及び10％Pd-C 1.7ｇと混合し、室温で水素ガスを19ml
／min.の速さで14時間導入した。濾過により触媒を除去
し、濾液よりメタノールを留去した後、フラッシュカラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル 800ｇ、展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝12：１）を用いて精製すること
により、化合物（ｄ）18.7ｇ（0.035mol，収率35％）を
得た。
【００４３】参考例５
【００４４】
【化１０】
【００４５】１−（４−オキサ−６−ヒドロキシ−７−
メチルヘプタデシロキシヘプチル）−１，１，３，３，
５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシ
ロキサン〔化合物（ｅ）〕の合成：参考例２（２）にお
いて、ウンデカメチルペンタシロキサン 9.0ｇを用いる
以外はほぼ同様にして、化合物（ｅ）11.0ｇ（収率59
％）を得た。
メチルヘプタデシロキシヘプチル）−１，１，３，３，
５，５，７，７，９，９，９−ウンデカメチルペンタシ
ロキサン〔化合物（ｅ）〕の合成：参考例２（２）にお
いて、ウンデカメチルペンタシロキサン 9.0ｇを用いる
以外はほぼ同様にして、化合物（ｅ）11.0ｇ（収率59
％）を得た。
【００４６】参考例６
【００４７】
【化１１】
【００４８】α，ω−ビス｛４−オキサ−６−ヒドロキ
シ−７−〔５，７，７−トリメチル−２−（１，３，３
−トリメチルブチル）オクチルオキシ〕ヘプチル｝−ジ
メチルポリシロキサン〔化合物（ｆ）〕の合成：参考例
３において、３−アリロキシ−１−テトラヒドロアビエ
チルオキシ−２−プロパノールの代わりに、３−アリロ
キシ−１−｛５，７，７−トリメチル−２−（１，３，
３−トリメチルブチル）オクチルオキシ｝−２−プロパ
ノールを用いる以外はほぼ同様にして、化合物（ｆ） 3
3.38ｇ（収率83％）を得た。
シ−７−〔５，７，７−トリメチル−２−（１，３，３
−トリメチルブチル）オクチルオキシ〕ヘプチル｝−ジ
メチルポリシロキサン〔化合物（ｆ）〕の合成：参考例
３において、３−アリロキシ−１−テトラヒドロアビエ
チルオキシ−２−プロパノールの代わりに、３−アリロ
キシ−１−｛５，７，７−トリメチル−２−（１，３，
３−トリメチルブチル）オクチルオキシ｝−２−プロパ
ノールを用いる以外はほぼ同様にして、化合物（ｆ） 3
3.38ｇ（収率83％）を得た。
【００４９】参考例７
【００５０】
【化１２】
【００５１】α，ω−ビス（４−オキサ−６−ヒドロキ
シ−７−テトラアビエチルオキシヘプチル）−ジメチル
ポリシロキサン〔化合物（ｇ）〕の合成：参考例３
（２）において、α，ω−ジハイドロジェンジメチルポ
リシロキサン
シ−７−テトラアビエチルオキシヘプチル）−ジメチル
ポリシロキサン〔化合物（ｇ）〕の合成：参考例３
（２）において、α，ω−ジハイドロジェンジメチルポ
リシロキサン
【００５２】
【化１３】
【００５３】を用いる以外はほぼ同様にして、化合物
（ｇ）32.5ｇ（収率65％）を得た。
（ｇ）32.5ｇ（収率65％）を得た。
【００５４】実施例１ 下記組成のヘアローションを常法により製造した。 化合物（ａ） 5（％） アクリル酸／アクリル酸エステル共重合体 （プラスサイズL-53P,互応化学製） 0.5 香料 0.3 エチルアルコール 適量
【００５５】実施例２ 下記組成のジェット式ヘアローションを常法により製造
した。 化合物（ｂ） 15（％） ポリビニルピロリドン （PVP K-30,GAF社製） 0.1 香料 微量 液化石油ガス 適量 ジメチルエーテル 25
した。 化合物（ｂ） 15（％） ポリビニルピロリドン （PVP K-30,GAF社製） 0.1 香料 微量 液化石油ガス 適量 ジメチルエーテル 25
【００５６】比較例１ 下記組成のヘアローションを常法により製造した。 ジメチルポリシロキサン(5000cs) 5（％） アクリル酸／アクリル酸エステル共重合体 （プラスサイズL-53P,互応化学製） 0.5 香料 0.3 エチルアルコール 適量
【００５７】比較例２ 下記組成のジェット式ヘアローションを常法により製造
した。 イソパラフィン （アイソゾール400,日本石油化学（株）製） 15（％） ポリビニルピロリドン（PVP K-30,GAF社製） 0.5 香料 微量 液化石油ガス 適量 ジメチルエーテル 25
した。 イソパラフィン （アイソゾール400,日本石油化学（株）製） 15（％） ポリビニルピロリドン（PVP K-30,GAF社製） 0.5 香料 微量 液化石油ガス 適量 ジメチルエーテル 25
【００５８】試験例 実施例１、２及び比較例１、２で得られた毛髪化粧料に
ついて、整髪効果、くし通り及びべたつき感を調べた。
結果を表１に示す。 （試験方法）20ｇの毛束に各サンプルを塗布し、下記の
基準により官能評価した。くし通り： くし・ブラシの通りが良い ○ くし・ブラシの通りがやや良い △ くし・ブラシの通りが悪い × べたつき感： べたつき感を感じない ○ べたつき感をやや感じる △ べたつき感を感じる × 整髪効果： 毛束のまとまり性がある ○ 毛束のまとまり性がややある △ 毛束のまとまり性がない ×
ついて、整髪効果、くし通り及びべたつき感を調べた。
結果を表１に示す。 （試験方法）20ｇの毛束に各サンプルを塗布し、下記の
基準により官能評価した。くし通り： くし・ブラシの通りが良い ○ くし・ブラシの通りがやや良い △ くし・ブラシの通りが悪い × べたつき感： べたつき感を感じない ○ べたつき感をやや感じる △ べたつき感を感じる × 整髪効果： 毛束のまとまり性がある ○ 毛束のまとまり性がややある △ 毛束のまとまり性がない ×
【００５９】
【表１】
【００６０】実施例３ シャンプー：下記組成の
シャンプーを常法により製造した。 ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム 64.0（％） ラウリン酸ジエタノールアミド 3.0 アクリルアミド／アクリルエステル系四元共重合体 （特開平2-180911号, 合成例１のもの） 0.2 カチオンポリマー（ポリマーJR-400,UCQ社製） 0.1 化合物（ｃ） 0.5 安息香酸ナトリウム 0.8 香料 微量 精製水 適量
シャンプーを常法により製造した。 ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム 64.0（％） ラウリン酸ジエタノールアミド 3.0 アクリルアミド／アクリルエステル系四元共重合体 （特開平2-180911号, 合成例１のもの） 0.2 カチオンポリマー（ポリマーJR-400,UCQ社製） 0.1 化合物（ｃ） 0.5 安息香酸ナトリウム 0.8 香料 微量 精製水 適量
【００６１】実施例４ ヘアフォーム：下記組成
のヘアフォームを常法により製造した。 アクリル酸／アクリル酸エステル共重合体 （プラスサイズL-53P,互応化学製） 3.4（％） 化合物（ｄ） 10.0 エチルアルコール 9.8 塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 0.5 ２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール 微量 香料 0.1 ＬＰＧ 10.0 精製水 適量
のヘアフォームを常法により製造した。 アクリル酸／アクリル酸エステル共重合体 （プラスサイズL-53P,互応化学製） 3.4（％） 化合物（ｄ） 10.0 エチルアルコール 9.8 塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 0.5 ２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール 微量 香料 0.1 ＬＰＧ 10.0 精製水 適量
【００６２】実施例５ コンディショナー：下記
組成のコンディショナーを常法により製造した。 両性ポリマー（ユカフォーマーSM,三菱油化製) 0.5（％） 塩化セチルトリメチルアンモニウム 2.0 ヒドロキシエチルセルロース 0.5 化合物（ｅ） 0.5 プロピレングリコール 5.0 セタノール 3.0 香料 0.3 精製水 適量
組成のコンディショナーを常法により製造した。 両性ポリマー（ユカフォーマーSM,三菱油化製) 0.5（％） 塩化セチルトリメチルアンモニウム 2.0 ヒドロキシエチルセルロース 0.5 化合物（ｅ） 0.5 プロピレングリコール 5.0 セタノール 3.0 香料 0.3 精製水 適量
【００６３】実施例６ エアゾールスプレー：下
記組成のエアゾールスプレーを常法により製造した。 化合物（ｆ） 10.0（％） 両性ポリマー（ユカフォーマーAM-75,三菱油化製) 2.0 ジメチルエーテル 5.0 香料 0.2 ＬＰＧ 40.0 エタノール 適量
記組成のエアゾールスプレーを常法により製造した。 化合物（ｆ） 10.0（％） 両性ポリマー（ユカフォーマーAM-75,三菱油化製) 2.0 ジメチルエーテル 5.0 香料 0.2 ＬＰＧ 40.0 エタノール 適量
【００６４】実施例７ ポンプスプレー：下記組
成のポンプスプレーを常法により製造した。 ポリビニルピロリドン（PVP K-90,GAF社製） 0.1（％） 化合物（ｆ） 3.0 エタノール 10.0 香料 0.3 精製水 適量
成のポンプスプレーを常法により製造した。 ポリビニルピロリドン（PVP K-90,GAF社製） 0.1（％） 化合物（ｆ） 3.0 エタノール 10.0 香料 0.3 精製水 適量
【００６５】実施例８ ヘアトニック：下記組成
のヘアトニックを常法により製造した。 ポリビニルピロリドン／アルキルアミノアクリレート 共重合体（コポリマー845,GAF社製） 0.1（％） オクトピロックス 0.5 エタノール 40.0 化合物（ｇ） 1.0 香料 0.2 精製水 適量
のヘアトニックを常法により製造した。 ポリビニルピロリドン／アルキルアミノアクリレート 共重合体（コポリマー845,GAF社製） 0.1（％） オクトピロックス 0.5 エタノール 40.0 化合物（ｇ） 1.0 香料 0.2 精製水 適量
Claims (1)
- 【請求項１】 次の成分（ａ）及び（ｂ） （ａ）一般式（１）で表されるシロキサン誘導体 【化１】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 のうち少なくとも１つは下
記式 -CH2CH2CH2OCH2CH(OR6)CH2OR5 又は-CH2CH2CH2OCH(CH2OR5)CH2OR5 （Ｒ5 及びＲ6 の一方は水素原子を示し、他方は炭素数
６〜30の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基、アル
ケニル基又はヒドロキシアルキル基を示す）で表される
置換基を示し、上記以外のＲ1 、Ｒ2 及びＲ3 並びにＲ
4 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｍ及びｎはｍ＋
ｎが１〜200 となる数を示す〕 （ｂ）皮膜形成性ポリマー を含有することを特徴とする毛髪化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28798791A JPH05124936A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 毛髪化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28798791A JPH05124936A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 毛髪化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05124936A true JPH05124936A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=17724333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28798791A Pending JPH05124936A (ja) | 1991-11-01 | 1991-11-01 | 毛髪化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05124936A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0789830A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-04-04 | L'oreal Sa | 髪型維持用組成物の固定力増強剤及び髪型維持用の化粧料組成物 |
| US20110243871A1 (en) * | 2010-04-01 | 2011-10-06 | Rajan Keshav Panandiker | Organosilicones |
| JP2015081341A (ja) * | 2013-10-24 | 2015-04-27 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
-
1991
- 1991-11-01 JP JP28798791A patent/JPH05124936A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0789830A (ja) * | 1993-07-23 | 1995-04-04 | L'oreal Sa | 髪型維持用組成物の固定力増強剤及び髪型維持用の化粧料組成物 |
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