JPH0514145B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複数の制御弁が並置されている高圧液
圧システムに使用する液圧制御弁であつて、ハウ
ジング穴を形成されたハウジングと、前記ハウジ
ング穴内を案内される制御ピストンを備え、前記
制御ピストンは無圧力貫流の中立位置と、消費部
へ行く高圧媒体の流量を制御するための少なくと
も１つの制御位置との間を軸線方向に移動でき、
前記ハウジングは前記ハウジング穴へ圧力入口で
開口する圧力みぞと、前記ハウジング穴の圧力出
口で始まりかつ前記圧力みぞと整列した放出通路
を有し、前記制御ピストンは貫通通路を備え、前
記貫通通路は前記制御ピストンの前記中立位置で
前記圧力入口及び前記圧力出口と整列し、前記放
出通路は低圧媒体を含みかつその圧力出口により
実質的に前記圧力入口の正反対位置の前記ピスト
ン外周に有効圧力応答面積を画成して成る型式の
液圧制御弁に関するものである。

ドイツ特許公報（DE−PS）2152830の第１図
から既知のこの種の制御弁では、各制御位置で制
御弁は圧力入口から圧力出口への連絡を妨げ、そ
のため圧力媒体の流れは無圧力貫流の平面に対し
て片寄つて位置した作動平面内で制御ピストンを
通して所望圧力で送られる。圧力入口において、
圧力媒体は制御ピストンの周面に全作動圧力を及
ぼす一方、反対の圧力出口は無圧力にある。特
に、もしこの種の制御弁は高圧液圧システムに使
用されると、制御ピストンの動きは主として無圧
力貫流の平面内における不満足な圧力補償によつ
て妨げられる。制御ピストン用の改良された圧力
補償はドイツ特許公報（DE−PS）2152830の第
６図に示す構造により求められる。その場合、無
圧力貫流は１つの同じ軸線平面内でお互いに平行
に制御ピストンを通つて延びる２つの通路を通し
て送られる圧力媒体は互いに反対の流れ方向に前
記２つの通路を通つて流れる。この結果、構造が
極めて複雑になる。更に、無圧力貫流に対して望
ましくない高い流動抵抗が生じる。更に、圧力補
償は不満足な状態が続く。というのは制御ピスト
ンが制御位置でトルクを受けるからである。もし
複数の制御ピストンが共通の制御弁ハウジングの
個別の穴内に配置されると、圧力補償効果は、異
なつた制御ピストンを同時に作動させた場合には
無効にされる。

制御ピストンは、圧力出口で周面に反対向き圧
力の作用しない場合には周面に作用する作動圧力
によつて動かなくなるらしいということが常に考
えられてきた。それ故ドイツ特許公報（DE−
PS）2910029から既知の制御弁では、ハウジング
穴の壁は圧力入口の正反対位置に凹所を形成さ
れ、前記凹所は有効圧力面積を補償するように圧
力入口に連絡している。制御位置では、圧力入口
にある圧力は反対方向ではあるが凹所内にもあ
り、従つて圧力補償効果は実際に期待される。然
し乍ら、無圧力貫流の平面内で、満足な圧力補償
はまだ行われないことが見出された。これは多分
次の事実、即ち高品質の材料と高仕上げ精度の使
用にもかかわらず、圧力媒体が制御ピストンの周
面とハウジング穴壁の間に分布し、この結果実質
的に均等な圧力が圧力入口面積を含む制御ピスト
ンの全周面上に存在するという事実に因る。無圧
力の圧力出口の有効面積のみはこの圧力を及ぼさ
れず、この結果或る一方向性の力が制御ピストン
をハウジング穴内で動きを妨げる傾向をもつ。

それ故、本発明の目的は、特に無圧力貫流平面
内での圧力補償がこの種の既知の制御弁に比して
実質的に改良される如き本文冒頭に記載した型式
の制御弁を提供することにある。

この目的は上記型式の液圧制御弁において、前
記ハウジング穴の壁に又は前記制御ピストンの周
面に少なくとも１つの凹所を備え、前記凹所は前
記制御ピストンの周面に向かつて開口しかつ前記
圧力出口の有効圧力応答面積にほぼ等しい逃がし
面積を画成し、前記凹所内の圧力は前記放出通路
内の圧力に実質上等しくなすことを特徴とする構
成によつて達成される。

もし、制御ピストンが制御位置又はの何れ
か一方の位置に軸線方向に移動していけば、円形
断面をもつ制御ピストンを摺動自在に収容したハ
ウジング穴内で、高いポンプ入口圧力が制御ピス
トンの周面に圧力みぞの口の面積にいおて作用す
る。各位置又はにおいて、高圧の液圧媒体が
消費部に供給される。本発明の制御弁において
は、前記高圧入口通路は制御ピストンの中立位置
においては低圧媒体を貯槽に戻すための圧力無し
循環系の一部をなす。制御位置においては、前記
高圧入口通路は制御ピストンの円周によつて閉ざ
される。しかし製造公差、制御ピストンやハウジ
ング穴の表面粗さ及び制御ピストンの摺動自在の
嵌合状態の良否に因つて、高圧が制御ピストンの
外周で“クリープ”を起こして、実質的に円筒形
面積で制御ピストン周囲に作用する。しかし、口
又は圧力出口７があるので、前記円筒形面積は不
幸にして中断され、低放出圧力が放出通路５内に
存在する。換言すれば、圧力出口又はハウジング
穴２の壁内の放出通路５の口の有効横断面積にお
いて、制御ピストンの円周のまわりの高圧の“ク
リーピング”の放出通路内に排出され又は釈放さ
れる。その結果、放出通路５の口又は圧力出口７
の有効面積において、前記高圧はもはや制御ピス
トンに作用することはできない。前記有効面積中
の低圧に因つて、制御ピストンの円筒形高圧面積
は中断される。このため、制御ピストンに不釣り
合いの結果として生じた力が加わることになる。
その結果として生じた力はハウジング穴の壁に対
して横方向に制御ピストンを押圧する傾向を示
し、従つてそのピストンの円滑なかつ容易な軸線
方向の変位を妨げる。従つて制御ピストンの外周
のまわりの力の釣り合いが前記欠点を排除するた
めに必要とされる。

前記力の釣り合いを達成するために、少なくと
も１つの凹所が放出通路の圧力出口の実質上正反
対位置に設けられる。その凹所内には放出通路内
の圧力と実質上同じ低圧が存在し、そのため制御
ピストンの円周の円筒形面積における高圧の結果
として生じた力が制御ピストンの縦軸線に対して
釣り合わされる。

要するに、いわゆる逃がし面積は圧力出口と実
質上正反対に位置する制御ピストンの円周上に設
けられる。前記逃がし面積には放出通路内と同じ
低圧が存在する。その結果、ハウジング穴内の制
御ピストンに加わる高圧によつて生ぜしめられる
力は縦軸線に対して釣り合わされる。

圧力入口にある圧力が何れにしても制御ピスト
ンの全周面上に分布していて、圧力出口の有効面
積にのみ分布しないとの仮定の下で、上記特徴部
分の構成は、圧力平衡が圧力出口に対向する圧力
逃がし面積と圧力出口自身において行われるとい
う結果をもたらす。一方向性の力の発生が驚くほ
どな仕方で防止される。かくして制御ピストン
は、たとえ高流量及び／又は高システム圧力の場
合でも、その制御位置から簡単にシフトすること
ができる。

以上説明した本発明を要約すれば下記の通りで
ある。

本発明の制御弁は、制御ピストン３中において
作動流体通路１２，１４，１５，Ｖ１，Ｖ２に対
して直角方向に作動流体通路の軸線方向の領域内
に貫通通路８が延びている点に特徴を有する特別
な型式に属する。かかる構造は制御ピストンの縦
方向と直径方向の構造スペースを節約することが
でき、制御弁を従来の弁構造に比してコンパクト
な構造になすことができる利点を有する。

従来の制御弁は制御ピストンの横方向の圧力バ
ランスが不十分であり、ピストンに対して横押し
付け力が生じて、縦軸線方向に中立位置からシフ
トしたり、各制御位置からシフトしたりするとき
のピストンのスムースな動きを妨害するという欠
点がある。かかる欠点は制御ピストンの周面上の
横圧力分布が不均等である結果もたらされるもの
である。

本発明によれば、制御ピストンの縦軸線方向の
シフトはもはや制御ピストン周面上の横圧力分布
の不均等によつて妨害されることがないという利
点が与えるられ、即ち、制御ピストンは例えば１
つの制御位置からスムースに、重大な抵抗を受け
ることなく、高い運動−開始抵抗に起因するシフ
トのし過ぎを生じる危険性なしに、シフト（移
動）できる。このことは放出（戻し）通路の低圧
をもつ凹所を設けることによつて実現される。凹
所は放出通路とは反対のピストン周面の側に設け
られて、ピストン周面の横圧力を完全にバランス
さる機能を有する。

凹所の作用効果： 凹所は制御ピストンの所定の周面に所定の圧力
面積を準備するものであり、この面積はハウジン
グ穴の圧力出口の面積とほぼ同じ寸法をもち、圧
力出口でピストン周面に作用するのと同じ圧力が
制御ピストンの周面に作用するようにしなければ
ならない。ピストンの縦軸線の両側に同じ低圧と
同じ寸法をもつ少なくとも２つの対向する圧力面
積をもつようにするために、凹所の面積は放出通
路とは反対の側に圧力出口と同一寸法に設けなけ
ればならない。

ここで本発明の説明に出てくる用語の幾つかに
ついて以下簡単に説明する。

無圧力貫流： 制御弁が中立位置にあつても圧力媒体に作用し
て吐出させる１つ又は数個の制御弁にポンプを連
結することは一般に行われている。流れ抵抗、エ
ネルギーロス並びに圧力媒体に加わる熱負荷を出
来るだけ低く保つために、バイパス機能を備え
る。ポンプによつて供給される流れは制御弁を通
過して貯槽に向かう。もし制御ピストンに何らの
手段も設けていないならば、制御ピストンはこの
ポンプか貯槽に向かう流路を閉鎖する。このこと
を防止するため、整列したみぞ４と５（図１参
照）が制御ピストン３の貫通通路８を通つて相互
連結される。このことにより、制御弁の無圧力貫
流の中立位置において、いわゆる無圧力の循環が
可能にされる。

圧力入口： 圧力入口６と圧力出口７はハウジング穴２の壁
中の圧力みぞ４又は放出通路５の口（ポート）を
意味する。用語、圧力入口又は圧力出口は、もし
前記ピストンがその制御位置又はの内の一方
に変位して行けば、この口において又はこの口の
圧力応答面積において、圧力が制御ピストンの周
面に作用するものであることを意味する。

有効面積を補償すること： これは放出通路５の圧力出口７に関係する。圧
力出口７は圧力応答面積を画成する。この応答面
積において、放出通路５内の媒体圧力が制御ピス
トンの周面に作用する。圧力出口７内の制御ピス
トン３に径方向に作用する力は制御ピストン３の
残余の周面に加わる高ポンプ圧により生じる力に
比べて小さく、そのため不釣合いの横力が制御ピ
ストンに生じ、この力が制御ピストンをハウジン
グ穴壁の片側に対して押圧することになる。この
押圧作用は制御ピストンの軸線方向の変位にかな
り大きな抵抗作用を与える。有効面積を補償する
ということは、圧力出口７において制御ピストン
に加わる減力を補償する構造的手段、即ち凹所９
を備えることを意味する。

逃し面積： 前記凹所は圧力出口７内と同じ低圧が作用する
予定の面積を、制御ピストンの周面に画成する。
この逃がし面積が圧力出口７の正反対側に設けら
れかつ圧力出口７と同じ低圧（逃がし圧力）が印
加されることによつて前記の、力の釣り合い又は
圧力の釣り合いが達成される。

消費部連結通路： この通路は制御弁のハウジング１内に設けられ
る。圧力ライン（図示せず）は前記消費部連結通
路Ｖ１，Ｖ２から消費部、例えば複動型液圧シリ
ンダーピストンユニツトの作動側に連絡する。

制御ピストン用の圧力補償は好適には、制御弁
の基礎構造を変えることなくまた製造コストを大
幅に増すことなしに達成すべきである。このこと
は特許請求の範囲２項に記載の構成によつて容易
に行われる。穴の内壁面の凹所及びこの凹所を圧
力出口に連絡するみぞの形成は簡単な、安価な仕
方で行うことができる。制御ピストンの構造の変
更は必要ない。

特許請求の範囲３項に記載する実施例では、制
御ピストンの働きを妨害せずかつ制御ピストンの
長さを最適結果を得るように減少せしめる如く制
御ピストンの小さい変更を必要とするに過ぎな
い。

特許請求の範囲４項記載の構成では、圧力出口
に面する貫通通路の開口の拡大によつて、圧力入
口がすでに閉じたときに貫通通路と圧力出口間に
はまだ開放連結が存在し、その結果貫通通路内の
圧力は放出通路内の圧力レベルに減少することが
でき、このために逃がし面積も圧力逃がしされる
ということが保証される。

特許請求の範囲５項は本発明の制御弁の他の有
利な実施例を規定している。これによれば、前記
制御弁は、作動流体制御装置の制御用のポンプ連
結通路と、少なくとも１つの消費部連結通路と、
制御ピストン中に形成した流れみぞと、前記消費
部連結通路に関連した戻し通路を備えている。こ
の型式の制御弁では、戻し通路は無圧力にある
か、又は制御ピストンの下流側で無圧力貫流通路
と夫々連絡する。夫々の戻し通路と凹所との連結
によつて、逃がし面積の無圧力状態が簡単に得ら
れれる。

特許請求の範囲６項は本発明の制御弁の他の有
利な実施例を開示している。これによれば、ハウ
ジング穴の端は消費部連結通路に関連したかつ制
御ピストンの端面によつて消費部連結通路に対し
てシールされる戻し通路を形成する。凹所は戻し
通路と絶えず連絡しており、従つて逃がし面積は
無圧力状態に保たれる。

この型式の現存の制御弁では、ハウジングと制
御ピストンは非常に長さが短く、また重なり範囲
も短い。特許請求の範囲７項の有利な実施例で
は、制御弁のこの現存の構造は保持される。とい
うのは、逃がし面積も同様に軸線方向長さが短い
からである。

以下、本発明の実施例を図に基づき詳述する。

第１，２図に示す制御弁のハウジング１は穴２
をもち、この穴内で非回転の制御ピストン３が中
立位置Ｎと第１及び第２の制御位置との間を
夫々シフトさせられる。

いわゆる無圧力貫流の平面では（第１図）、ハ
ウジングの穴２に開口した圧力入口６に通じる圧
力みぞ４内に圧力P′が存在する。圧力入口６の正
反対位置で圧力出口７が戻し流れシステムの戻し
通路Ｒに連結した又は無圧力にある放出通路５に
通じている。制御ピストン３は貫通通路８を形成
され、中立位置Ｎで圧力入口６と圧力出口７間を
連絡させる。

ハウジング穴２の壁は凹所９を形成されてお
り、前記凹所は穴２の縦軸線方向において対称的
に、圧力入口６の両側で圧力出口７の反対側の位
置にある。ハウジング１に形成したみぞ１０は各
凹所９を圧力出口７又は放出通路５と夫々連絡さ
せる。

この実施例では、ハウジング穴２の両端は制御
ピストン３の両端位置（端面）１３で閉ざした戻
し通路Ｒとして形成する。破線で示す如く、戻し
通路Ｒは放出通路５と連絡している。別法とし
て、別個の放出ダクトをこの戻し通路に代えて設
けてもよい。

第１図に１１で示す破線では別の実施例として
の流れ連結部を示し、これは戻し通路Ｒに凹所９
を連絡させるためにみぞ１０の代わりに任意に備
えることができる。

制御弁の作動平面（第２図）は90°の角度だけ
無圧力貫流平面（第１図）から片寄つて位置して
いる。この作動平面において、ポンプ連結通路１
２はハウジング１を通つてハウジングの穴２に開
口し、圧力みぞ４が前記ポンプ連結通路１２から
分岐している。通路１２はポンプ圧力Ｐを有す
る。ポンプ連結通路１２と正反対側に、かつ制御
ピストン３の長手方向にこの通路１２から片寄つ
た位置で消費部連結通路Ｖ１とＶ２がハウジング
１に形成されており、これらの通路Ｖ１，Ｖ２は
適当な消費部（図示せず）に通じている。

作動平面において、制御ピストン３はポンプ連
結通路１２に面する第１の流れみぞ１４を形成さ
れ、第２の流れみぞ１４をそれの正反対位置に形
成され、前記両流れみぞ１４は２つの流れみぞ１
５によつてお互いに連結される。貫通通路８は２
つの流れみぞ１５間にこれらと直角に交差するよ
うに配置される。

凹所９は第２図に破線で示される。これらの凹
所は通路１０を経て図面に垂直に延びる放出通路
５と連絡する。

（作用の説明） 図１，２に示す制御弁１は中立位置Ｎにある。
ポンプ連結みぞ１２中の圧力は制御ピストン３の
正反対の側にある両流れみぞ１４内に作用する。
ポンプ（図示せず）によつて供給される圧力媒体
が圧力みぞ４から通路８を通つて放出通路５に入
り、次いで溜め（図示せず）に入る。それ故圧力
は比較的低く保たれる（無圧力貫流又は無圧力循
環状態）。通路１０又は１１を経て放出通路５に
向かつて夫々圧力を逃がされる凹所９内には実質
上同じ低圧が存在することになる。

制御ピストンが、例えば手で、上向きに（図で
見て）制御位置にシフトされると、前記制御ピ
ストン３の周囲表面は圧力入口６を閉じる。この
圧力入口はハウジング穴２の壁中の圧力みぞ４の
口である。放出通路５とそのハウジング穴２の壁
中の圧力出口７及び凹予９は低圧に留まる。それ
は例えば、それらが溜め（図示せず）に連結され
ているからである。圧力入口６は閉ざされている
ため、ポンプ連結通路１２内の圧力は急速に上昇
する。このとき全ポン圧力が存在する。このとき
第２図において、圧力媒体が右側に示す流れみぞ
１４を通つて消費部連結通路Ｖ１に流入し、そこ
から消費部（図示せず）の１つの作動側に流入す
る。同時に、制御弁３の下部の端位置（端面）１
３が消費部連結みぞＶ２の口を開く。そのため、
消費部の他方の作動側から来る圧力媒体は下部の
戻し通路Ｒを経て溜め（図示せず）に流入する。

制御ピストン３の前記制御位置では、圧力入
口６中の圧力は制御ピストン３の周面を巡つてそ
の通路を探す。このことは、その圧力が制御ピス
トン２の全周に沿つて広がり、分布する傾向にあ
ることを意味する。しかし、圧力放出出口７の圧
力応答面積で、その圧力は低圧の放出通路５に逃
がされる。同様に、高圧は凹所９内では有効にな
らない。その理由は、前記凹所は放出通路５を経
て圧力逃がし状態にあるからである。２つの凹所
９（第２図）はこうして、制御ピストン３の周面
と圧力出口７に圧力逃がし面積を形成する。前記
面積は制御ピストン３の縦軸線に対して、互いに
正反対側に位置する。制御ピストン３の周面に作
用する高いポンプ圧力は制御ピストンに対してア
ンバランスな合力を生じないため、制御ピストン
３は周面に加わる高いポンプ圧の合力に対してバ
ランスされるか、又は例えば現在の制御位置又は
から中立位置Ｎに戻る方向に又は他の制御位置
に行く方向にその後手により起こされる変位に
対して殆ど又は全く抵抗を与えない。

第３図の実施例では、凹所９（上方のものだけ
を示す）は軸線方向の幅の狭い弓状スロツトとし
て形成され、ハウジング穴壁の一部にわたつて円
周方向に延びる。これらの凹所９によつて形成さ
れた全逃がし面積は実質的に圧力出口７の有効面
積と同じ大きさをもつ。第１図の実施例の如く、
凹所９はみぞ１０を経て圧力出口と連絡でき、又
は別法としてみぞ１１を経て戻し通路と連絡でき
る。

第４図の実施例では、ハウジング穴壁は凹所１
６を形成され、これらの凹所はハウジング穴の端
の近くで圧力出口の正反対側に位置し、ハウジン
グ穴の内部と戻し通路Ｒに向かつて開口してお
り、従つてこれらは常に圧力逃がしされている。

第５図の実施例では、ハウジング穴２内を摺動
案内される制御ピストン３′の外周は凹所１７を
形成され、これは端位置（端面）１３まで延び、
ハウジング穴壁に向かつて開口する。同様の凹所
は制御ピストン３′の他端にも設けているが、図
に示していない。この実施例では、２つの凹所１
７は圧力出口７の有効面積を補償するための逃が
し面積を形成する。

第６図の実施例では、圧力出口７の正反対側に
ある制御ピストン３″の周面部分はポケツト形凹
所１８を形成され、これはみぞ１９を経て貫通通
路８と連絡し、この貫通通路８に圧力逃がしされ
ることによつて圧力出口７の無圧力有効面積を補
償するための逃がし面積を形成する。制御ピスト
ンがその制御位置の１つに行つたり遠ざかつたり
していて変位するときに貫通通路８自身の確実な
圧力逃がしを補償するために、圧力出口７に面す
る貫通通路の開口２１は円錐形端ぐり２０によつ
て拡大され、貫通みぞ８と放出通路５間の連絡は
夫々貫通通路８と圧力みぞ４間の連絡の達成前と
その連絡の中断後に、常に連絡が達成されるか又
は中断される。

第７図の実施例では、制御ピストン３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 複数の制御弁が並置されている高圧液圧シス
   テムに使用する液圧制御弁であつて、ハウジング
   穴２を形成されたハウジング１，１′，１″と、前
   記ハウジング穴２内を案内される制御ピストン
   ３，３′，３″、３，３′′′′，３〓を備え、前記
   制
   御ピストンは無圧力貫流の中立位置Ｎと、消費部
   へ行く高圧媒体の流量を制御するための少なくと
   も１つの制御位置，との間を軸線方向に移動
   でき、前記ハウジングは前記ハウジング穴へ圧力
   入口６で開口する圧力みぞ４と、前記ハウジング
   穴２の圧力出口７で始まりかつ前記圧力みぞ４と
   整列した放出通路５を有し、前記制御ピストンは
   貫通通路８を備え、前記貫通通路は前記制御ピス
   トンの前記中立位置で前記圧力入口６及び前記圧
   力出口７と整列し、前記放出通路５は低圧媒体を
   含みかつその圧力出口７により実質的に前記圧力
   入口６の正反対位置の前記ピストン外周に有効圧
   力応答面積を画成して成る液圧制御弁において、
   前記ハウジング穴２の壁に又は前記制御ピストン
   の周面に少なくとも１つの凹所９，１８，１７，
   ２１，２５，３３を備え、前記凹所は前記制御ピ
   ストンの周面に向かつて開口しかつ前記圧力出口
   ７の有効圧力応答面積にほぼ等しい逃がし面積を
   画成し、前記凹所内の圧力は前記放出通路５内の
   圧力に実質上等しいことを特徴とする液圧制御
   弁。 ２ 特許請求の範囲１記載の制御弁において、前
   記圧力出口７の正反対側にハウジング穴壁は前記
   ハウジング穴２の長手方向に対称的に片寄つて位
   置しかつ前記ハウジング穴２に向かつて開口した
   ２つの凹所は９を形成されており、前記凹所９前
   記ハウジング１に形成した通路１０を経て前記放
   出出口７に連絡していることを特徴とする制御
   弁。 ３ 特許請求の範囲１記載の制御弁において、前
   記制御ピストン３の周面は前記制御ピストンに形
   成した通路１９，２２を経て前記貫通通路８と連
   絡する凹所１８を形成されていることを特徴とす
   る制御弁。 ４ 特許請求の範囲１又は３に記載の制御弁にお
   いて、前記放出出口７に面する前記貫通通路８の
   開口２１は前記圧力入口６に面する前記貫通通路
   ８の開口より大きな軸線方向幅をもつことを特徴
   する制御弁。 ５ 特許請求の範囲１乃至４の何れか１つに記載
   の制御弁において、作動流体制御手段を含み、前
   記作動流体制御手段は、前記ハウジング穴２に開
   口するポンプ連結通路１２と、前記制御ピストン
   に形成した流れみぞ１４，１５と、各消費部連結
   通路Ｖ１，Ｖ２に関連した戻し通路Ｒを含み、前
   記凹所９，１６，１８が隣接した戻り通路Ｒと連
   絡していることを特徴とする制御弁。 ６ 特許請求の範囲１乃至５の何れか１つに記載
   の制御弁において、前記消費部連結通路Ｖ１，Ｖ
   ２に関連した前記戻し通路Ｒは前記ハウジング穴
   ２の端部分によつて形成され、前記戻し通路は前
   記制御ピストン３の端位置１３によつて前記消費
   部連結通路からしや断されるようになつており、
   前記ハウジング穴２中に形成した凹所１６は前記
   ハウジング穴２の端位置に連絡するか又は前記制
   御ピストン３の周面に形成した凹所１７，１８は
   前記制御ピストンの隣接した端位置１３と又は関
   連した戻し通路と夫々連絡することを特徴とする
   制御弁。 ７ 特許請求の範囲１乃至６の何れか１つに記載
   の制御弁において、各凹所９，１８はハウジング
   穴壁の又は前記制御ピストンの周面の大部分にわ
   たり延在する減少した軸線方向幅の周囲スロツト
   として夫々形成されるか又は複数の小径の穴から
   なることを特徴とする制御弁。