JPH05142078A - 差圧測定装置 - Google Patents
差圧測定装置Info
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- JPH05142078A JPH05142078A JP30778391A JP30778391A JPH05142078A JP H05142078 A JPH05142078 A JP H05142078A JP 30778391 A JP30778391 A JP 30778391A JP 30778391 A JP30778391 A JP 30778391A JP H05142078 A JPH05142078 A JP H05142078A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低圧側からの瞬間的な過大圧に対してセンサ
本体部分を保護出来、かつ測定レンジの広く入出力特性
の向上された差圧測定装置を提供するにある。 【構成】 内部に封入液が満たされたハウジングと、該
ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイアフラム
と、該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側に変位
しないように設けられた移動阻止手段と、前記ハウジン
グ内に設けられた圧力―電気変換素子を有するシリコン
ダイアフラムと、前記ハウジングに該シリコンダイアフ
ラムと共に高圧側室と低圧側室とに2分するように設け
られたセンタダイアフラムと、前記低圧側室内に設けら
れ前記低圧側室を第1室と第2室とに2分するように設
けられた板ばねとを具備すると共に、平時の測定範囲下
において、前記センタダイアフラムと前記板ばねとが接
している事を特徴とする差圧測定装置である。
本体部分を保護出来、かつ測定レンジの広く入出力特性
の向上された差圧測定装置を提供するにある。 【構成】 内部に封入液が満たされたハウジングと、該
ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイアフラム
と、該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側に変位
しないように設けられた移動阻止手段と、前記ハウジン
グ内に設けられた圧力―電気変換素子を有するシリコン
ダイアフラムと、前記ハウジングに該シリコンダイアフ
ラムと共に高圧側室と低圧側室とに2分するように設け
られたセンタダイアフラムと、前記低圧側室内に設けら
れ前記低圧側室を第1室と第2室とに2分するように設
けられた板ばねとを具備すると共に、平時の測定範囲下
において、前記センタダイアフラムと前記板ばねとが接
している事を特徴とする差圧測定装置である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高圧側及び低圧側から
の瞬間的な過大圧に対してセンサ本体部分を保護出来か
つ測定レンジの広く入出力特性が向上された差圧測定装
置に関するものである。
の瞬間的な過大圧に対してセンサ本体部分を保護出来か
つ測定レンジの広く入出力特性が向上された差圧測定装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4は従来より一般に使用されている従
来例の構成説明図で、例えば、特開昭55―12212
6号に示されている。図において、ハウジング1の両側
に高圧側フランジ2、低圧側フランジ3が溶接等によっ
て固定されており、両フランジ2,3には測定せんとす
る圧力PHの高圧流体の導入口4、圧力PLの低圧流体の
導入口5が設けられている。
来例の構成説明図で、例えば、特開昭55―12212
6号に示されている。図において、ハウジング1の両側
に高圧側フランジ2、低圧側フランジ3が溶接等によっ
て固定されており、両フランジ2,3には測定せんとす
る圧力PHの高圧流体の導入口4、圧力PLの低圧流体の
導入口5が設けられている。
【0003】ハウジング1内に圧力測定室6が形成され
ており、この圧力測定室6内に受圧ダイアフラム7とシ
リコンダイアフラム8が設けられている。受圧ダイアフ
ラム7とシリコンダイアフラム8はそれぞれ別個に圧力
測定室6の壁に固定されており、受圧ダイアフラム7と
シリコンダイアフラム8の両者でもって圧力測定室6を
2分している。
ており、この圧力測定室6内に受圧ダイアフラム7とシ
リコンダイアフラム8が設けられている。受圧ダイアフ
ラム7とシリコンダイアフラム8はそれぞれ別個に圧力
測定室6の壁に固定されており、受圧ダイアフラム7と
シリコンダイアフラム8の両者でもって圧力測定室6を
2分している。
【0004】受圧ダイアフラム7は、ダイアフラム7A
と孔70を有するダイアフラム7Bの2枚から構成され
ている。勿論ダイアフラムの数は3枚以上でもよく、ま
た、穴の計は小さい方が好ましく、その数には制限は無
い。孔70は平坦な面に形成した方が加工上有利であ
る。ダイアフラム7Aと7Bの間隙は出来るだけ小さく
なるようにし、差圧ΔP(=圧力PH―圧力PL)がダイ
アフラム7A側から作用した時、即座に2枚のダイアフ
ラム7A,7Bで受けるようにする。
と孔70を有するダイアフラム7Bの2枚から構成され
ている。勿論ダイアフラムの数は3枚以上でもよく、ま
た、穴の計は小さい方が好ましく、その数には制限は無
い。孔70は平坦な面に形成した方が加工上有利であ
る。ダイアフラム7Aと7Bの間隙は出来るだけ小さく
なるようにし、差圧ΔP(=圧力PH―圧力PL)がダイ
アフラム7A側から作用した時、即座に2枚のダイアフ
ラム7A,7Bで受けるようにする。
【0005】また、ダイアフラム7Aと7Bは類似の形
状に形成し、両ダイアフラム間で形成する空間を少なく
するようにする。ダイアフラム7A,7Bと対向する圧
力測定室6の壁6A,6Bには、ダイアフラム7A,7
Bと類似の形状のバックプレ―トが形成されている。こ
のバックプレ―ト6A,6Bは、圧力測定室6の容積を
減少させるのに有効である。
状に形成し、両ダイアフラム間で形成する空間を少なく
するようにする。ダイアフラム7A,7Bと対向する圧
力測定室6の壁6A,6Bには、ダイアフラム7A,7
Bと類似の形状のバックプレ―トが形成されている。こ
のバックプレ―ト6A,6Bは、圧力測定室6の容積を
減少させるのに有効である。
【0006】シリコンダイアフラム8は全体が単結晶の
シリコン基板から形成されている。シリコン基板の一方
の面にボロン等の不純物を選択拡散して4っのストレン
ゲ―ジ80を形成し、他方の面を機械加工、エッチング
し、全体が凹形のダイアフラムを形成する。4っのスト
レインゲ―ジ80は、シリコンダイアフラム8が差圧Δ
Pを受けてたわむ時、2つが引張り、2つが圧縮を受け
るようになっており、これらがホイ―トストン・ブリッ
ジ回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔPの変化として検
出される。
シリコン基板から形成されている。シリコン基板の一方
の面にボロン等の不純物を選択拡散して4っのストレン
ゲ―ジ80を形成し、他方の面を機械加工、エッチング
し、全体が凹形のダイアフラムを形成する。4っのスト
レインゲ―ジ80は、シリコンダイアフラム8が差圧Δ
Pを受けてたわむ時、2つが引張り、2つが圧縮を受け
るようになっており、これらがホイ―トストン・ブリッ
ジ回路に接続され、抵抗変化が差圧ΔPの変化として検
出される。
【0007】ハウジング1は一般にステンレス鋼で作ら
れており、シリコンダイアフラム8とではかなりの熱膨
脹係数の違いがある。このためハウジング1とシリコン
ダイアフラム8との間に、シリコンと大体同じ熱膨脹係
数を有する中空の支持体9を設け、シリコンダイアフラ
ム8を圧力測定室6内に突出させるようにする。支持体
9に硼圭ガラス等の耐熱ガラスを使えば、シリコンダイ
アフラム8、支持体9、ハウジング1の3陽極結合法で
接合出来、各部材間の接着面の滑りのない強固な接着が
出来る。
れており、シリコンダイアフラム8とではかなりの熱膨
脹係数の違いがある。このためハウジング1とシリコン
ダイアフラム8との間に、シリコンと大体同じ熱膨脹係
数を有する中空の支持体9を設け、シリコンダイアフラ
ム8を圧力測定室6内に突出させるようにする。支持体
9に硼圭ガラス等の耐熱ガラスを使えば、シリコンダイ
アフラム8、支持体9、ハウジング1の3陽極結合法で
接合出来、各部材間の接着面の滑りのない強固な接着が
出来る。
【0008】ハウジング1と高圧側フランジ2、および
低圧側フランジ3との間に、圧力導入室10,11が形
成されている。この圧力導入室10,11内に隔液ダイ
アフラム12,13を設け、この隔液ダイアフラム1
2,13と対向するハウジング1の壁10A,11Aに
隔液ダイアフラム12,13と類似の形状のバックプレ
―トが形成されている。
低圧側フランジ3との間に、圧力導入室10,11が形
成されている。この圧力導入室10,11内に隔液ダイ
アフラム12,13を設け、この隔液ダイアフラム1
2,13と対向するハウジング1の壁10A,11Aに
隔液ダイアフラム12,13と類似の形状のバックプレ
―トが形成されている。
【0009】隔液ダイアフラム12,13とバックプレ
―ト10A,11Aとで形成される空間と、圧力測定室
6は、連通孔14,15を介して導通している。そし
て、隔液ダイアフラム12,13間にシリコンオイル等
の封入液101,102が満たされ、この封入液が連通
口16,17を介してシリコンダイアフラム8の上下面
にまで至っている、封入液101,102は受圧ダイア
フラム7とシリコンダイアフラム8とによって2分され
ているが、その量がほぼ均等になるように配慮されてい
る。
―ト10A,11Aとで形成される空間と、圧力測定室
6は、連通孔14,15を介して導通している。そし
て、隔液ダイアフラム12,13間にシリコンオイル等
の封入液101,102が満たされ、この封入液が連通
口16,17を介してシリコンダイアフラム8の上下面
にまで至っている、封入液101,102は受圧ダイア
フラム7とシリコンダイアフラム8とによって2分され
ているが、その量がほぼ均等になるように配慮されてい
る。
【0010】封入液101,102の量は、周囲の温度
変化の影響を出来るだけ少なくする上で少ない方が好ま
しいが、バックプレ―ト6A,6B,10A,11Aが
封入液量を少なくするのに役立っている。
変化の影響を出来るだけ少なくする上で少ない方が好ま
しいが、バックプレ―ト6A,6B,10A,11Aが
封入液量を少なくするのに役立っている。
【0011】隔液ダイアフラム12,13のスチフネス
は、圧力に対する応答性、および封入液の熱膨脹を吸収
する上で小さい方が好ましい。受圧ダイアフラム7と隔
液ダイアフラム12,13との間には、隔液ダイアフラ
ム12,13がバックプレ―ト10A,11Aに当接す
る前に受圧ダイアフラム7がバックプレ―ト6A,6B
に当接しないような関係にしておく。
は、圧力に対する応答性、および封入液の熱膨脹を吸収
する上で小さい方が好ましい。受圧ダイアフラム7と隔
液ダイアフラム12,13との間には、隔液ダイアフラ
ム12,13がバックプレ―ト10A,11Aに当接す
る前に受圧ダイアフラム7がバックプレ―ト6A,6B
に当接しないような関係にしておく。
【0012】かかる差圧変換器において、導入口4,5
から圧力PHの被測定流体、圧力PLの被測定流体がハウ
ジング1内に導入された場合、流体の圧力PH,PLはそ
れぞれ隔液ダイアフラム12,13を介して封入液10
1,102に伝達され、シリコンダイアフラム8により
両流体の差圧ΔP=|PH−PL|が検出される事にな
る。
から圧力PHの被測定流体、圧力PLの被測定流体がハウ
ジング1内に導入された場合、流体の圧力PH,PLはそ
れぞれ隔液ダイアフラム12,13を介して封入液10
1,102に伝達され、シリコンダイアフラム8により
両流体の差圧ΔP=|PH−PL|が検出される事にな
る。
【0013】この時、PH>PLとすると、隔液ダイアフ
ラム12および受圧ダイアフラム7は図の右方に移動す
る。そして、圧力測定室6の左側半分の容積変化量をΔ
VH,ΔPH=PHーPLとすると、ΔPHとΔVHの関係は
図5のイとなる。
ラム12および受圧ダイアフラム7は図の右方に移動す
る。そして、圧力測定室6の左側半分の容積変化量をΔ
VH,ΔPH=PHーPLとすると、ΔPHとΔVHの関係は
図5のイとなる。
【0014】すなわち、ΔPHの増加と共にΔVHも増加
するが、a点(ΔP1,ΔV1)を境にΔVHは増加しな
い。このa点が隔液ダイアフラム12がバックプレ―ト
10aに当接した時点であり、それ以上隔液ダイアフラ
ム12が右方へ移動しないためΔVHは増加せず、また
シリコンダイアフラム8にもΔP1以上の圧力は加わら
ないことになる。
するが、a点(ΔP1,ΔV1)を境にΔVHは増加しな
い。このa点が隔液ダイアフラム12がバックプレ―ト
10aに当接した時点であり、それ以上隔液ダイアフラ
ム12が右方へ移動しないためΔVHは増加せず、また
シリコンダイアフラム8にもΔP1以上の圧力は加わら
ないことになる。
【0015】同様に、PL>PH、ΔPL=PL―PH、圧
力測定室6の右半分の容積変化量をΔVLとすると、Δ
PLとΔVLの関係は図5のロとなる。b点(ΔP2,Δ
V2)は隔液ダイアフラム13がバックプレ―ト11A
に当接した時点である。
力測定室6の右半分の容積変化量をΔVLとすると、Δ
PLとΔVLの関係は図5のロとなる。b点(ΔP2,Δ
V2)は隔液ダイアフラム13がバックプレ―ト11A
に当接した時点である。
【0016】図5から理解出来るように、シリコンダイ
アフラムの強度が強い方に対しては大きい差圧ΔP1、
または弱い方に対しては小さい差圧ΔP2が加わるよう
にすることができ、ΔP1〜ΔP2の広く入出力特性の向
上された範囲の差圧を検出することができる。また、シ
リコンダイアフラムには、ΔP1あるいはΔP2以上の圧
力が加わらないため、測定流体の圧力に関係なく差圧測
定が可能となる。
アフラムの強度が強い方に対しては大きい差圧ΔP1、
または弱い方に対しては小さい差圧ΔP2が加わるよう
にすることができ、ΔP1〜ΔP2の広く入出力特性の向
上された範囲の差圧を検出することができる。また、シ
リコンダイアフラムには、ΔP1あるいはΔP2以上の圧
力が加わらないため、測定流体の圧力に関係なく差圧測
定が可能となる。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な装置においては、測定圧力範囲内でセンタダイアフラ
ムのかたさが変化する為、シ―ルダイアフラムの移動に
よる入力圧のドロップ量が変化し、入出力特性が悪くな
る。本発明は、この問題点を、解決するものである。本
発明の目的は、高圧側及び低圧側からの瞬間的な過大圧
に対してセンサ本体部分を保護出来かつ測定レンジの広
く入出力特性の向上された差圧測定装置を提供するにあ
る。
な装置においては、測定圧力範囲内でセンタダイアフラ
ムのかたさが変化する為、シ―ルダイアフラムの移動に
よる入力圧のドロップ量が変化し、入出力特性が悪くな
る。本発明は、この問題点を、解決するものである。本
発明の目的は、高圧側及び低圧側からの瞬間的な過大圧
に対してセンサ本体部分を保護出来かつ測定レンジの広
く入出力特性の向上された差圧測定装置を提供するにあ
る。
【0018】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、内部に封入液が満たされたハウジング
と、該ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイア
フラムと、該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側
に変位しないように設けられた移動阻止手段と、前記ハ
ウジング内に設けられた圧力―電気変換素子を有するシ
リコンダイアフラムと、前記ハウジングに該シリコンダ
イアフラムと共に高圧側室と低圧側室とに2分するよう
に設けられたセンタダイアフラムと、前記低圧側室内に
設けられ前記低圧側室を第1室と第2室とに2分するよ
うに設けられた板ばねとを具備すると共に、平時の測定
範囲下において、前記センタダイアフラムと前記板ばね
とが接している事を特徴とする差圧測定装置を構成した
ものである。
に、本発明は、内部に封入液が満たされたハウジング
と、該ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイア
フラムと、該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側
に変位しないように設けられた移動阻止手段と、前記ハ
ウジング内に設けられた圧力―電気変換素子を有するシ
リコンダイアフラムと、前記ハウジングに該シリコンダ
イアフラムと共に高圧側室と低圧側室とに2分するよう
に設けられたセンタダイアフラムと、前記低圧側室内に
設けられ前記低圧側室を第1室と第2室とに2分するよ
うに設けられた板ばねとを具備すると共に、平時の測定
範囲下において、前記センタダイアフラムと前記板ばね
とが接している事を特徴とする差圧測定装置を構成した
ものである。
【0019】
【作用】以上の構成において、平時の測定範囲下におい
ては、測定差圧に対して、センタダイアフラムと板ばね
が接して動作する。高圧側から過大圧が印加された場合
には、平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイ
アフラムと板ばねが接して動作し所定圧力で隔液ダイア
フラムがハウジングに着座し、それ以上の圧力がシリコ
ンダイアフラムに印加されるのを防止する。
ては、測定差圧に対して、センタダイアフラムと板ばね
が接して動作する。高圧側から過大圧が印加された場合
には、平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイ
アフラムと板ばねが接して動作し所定圧力で隔液ダイア
フラムがハウジングに着座し、それ以上の圧力がシリコ
ンダイアフラムに印加されるのを防止する。
【0020】低圧側から過大圧が印加された場合には、
平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイアフラ
ムと板ばねが接して動作し、所定圧力でセンタダイアフ
ラムのみが移動し、所定圧力以上の一定圧力で隔液ダイ
アフラムがハウジングに着座し、それ以上の圧力がシリ
コンダイアフラムに印加されるのを防止する。以下、実
施例に基づき詳細に説明する。
平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイアフラ
ムと板ばねが接して動作し、所定圧力でセンタダイアフ
ラムのみが移動し、所定圧力以上の一定圧力で隔液ダイ
アフラムがハウジングに着座し、それ以上の圧力がシリ
コンダイアフラムに印加されるのを防止する。以下、実
施例に基づき詳細に説明する。
【0021】
【実施例】図1は本発明の一実施例の要部構成説明図で
ある。図において、図4と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図4と相違部分のみ説明する。21は、
ハウジング1内にシリコンダイアフラム8と共に高圧側
室と低圧側室とに2分するように設けられたセンタダイ
アフラムである。
ある。図において、図4と同一記号の構成は同一機能を
表わす。以下、図4と相違部分のみ説明する。21は、
ハウジング1内にシリコンダイアフラム8と共に高圧側
室と低圧側室とに2分するように設けられたセンタダイ
アフラムである。
【0022】22は、低圧側室内に設けられ低圧側室を
第1室23と第2室24とに2分するように設けられた
板ばねである。25は、板ばね22に設けられ、第1室
23と第2室24とを連通する連通孔である。なお、板
ばね22の形状は、センタダイアフラム21と同様な波
形でもよく、平板でもよい。また、直径は、センタダイ
アフラム21と同じでもよい。
第1室23と第2室24とに2分するように設けられた
板ばねである。25は、板ばね22に設けられ、第1室
23と第2室24とを連通する連通孔である。なお、板
ばね22の形状は、センタダイアフラム21と同様な波
形でもよく、平板でもよい。また、直径は、センタダイ
アフラム21と同じでもよい。
【0023】以上の構成において、平時の測定範囲下に
おいては、測定差圧に対して、センタダイアフラム21
と板ばね22が接して動作する。高圧側から過大圧が印
加された場合には、平時の測定範囲以上の所定圧力まで
はセンタダイアフラム21と板ばね22とが接して動作
し、所定圧力で隔液ダイアフラム12がハウジング1に
着座し、それ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に印
加されるのを防止する。
おいては、測定差圧に対して、センタダイアフラム21
と板ばね22が接して動作する。高圧側から過大圧が印
加された場合には、平時の測定範囲以上の所定圧力まで
はセンタダイアフラム21と板ばね22とが接して動作
し、所定圧力で隔液ダイアフラム12がハウジング1に
着座し、それ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に印
加されるのを防止する。
【0024】低圧側から過大圧が印加された場合には、
平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイアフラ
ム21と板ばね22が接して動作し、所定圧力でセンタ
ダイアフラム21のみが移動し、所定圧力以上の一定圧
力で隔液ダイアフラム13がハウジング1に着座し、そ
れ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に印加されるの
を防止する。
平時の測定範囲以上の所定圧力まではセンタダイアフラ
ム21と板ばね22が接して動作し、所定圧力でセンタ
ダイアフラム21のみが移動し、所定圧力以上の一定圧
力で隔液ダイアフラム13がハウジング1に着座し、そ
れ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に印加されるの
を防止する。
【0025】図2に、本実施例における圧力Pと容積変
化量ΔVとの関係を示す。高圧側からの入力に対して
は、センタダイアフラム21と板ばね22が接触したま
ま移動し、f点で隔液ダイアフラム12がハウジング1
に着座し、それ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に
印加されるのを防止する。
化量ΔVとの関係を示す。高圧側からの入力に対して
は、センタダイアフラム21と板ばね22が接触したま
ま移動し、f点で隔液ダイアフラム12がハウジング1
に着座し、それ以上の圧力がシリコンダイアフラム8に
印加されるのを防止する。
【0026】低圧側からの入力に対しては、センタダイ
アフラム21と板ばね22が接触したまま移動し、e点
からはセンタダイアフラム21のみが移動し、g点で隔
液ダイアフラム12がハウジング1に着座し、それ以上
の圧力がシリコンダイアフラム8に印加されるのを防止
する。測定範囲(ΔP1〜ΔP2)内では、センタダイア
フラム21と板ばね22が接触したまま移動するので、
センタダイアフラム21と板ばね22の堅さが一様、す
なわち、隔液ダイアフラム12,13の移動による圧力
ドロップも一様になる。
アフラム21と板ばね22が接触したまま移動し、e点
からはセンタダイアフラム21のみが移動し、g点で隔
液ダイアフラム12がハウジング1に着座し、それ以上
の圧力がシリコンダイアフラム8に印加されるのを防止
する。測定範囲(ΔP1〜ΔP2)内では、センタダイア
フラム21と板ばね22が接触したまま移動するので、
センタダイアフラム21と板ばね22の堅さが一様、す
なわち、隔液ダイアフラム12,13の移動による圧力
ドロップも一様になる。
【0027】この結果、 (1)測定範囲内において、センタダイアフラム21と
板ばね22が接触したまま移動するように構成されたの
で、固さを一様に出来るため、入出力特性を向上させる
事が出来る。 (2)測定範囲内においては、L側入力に対しても、セ
ンタダイアフラム21と板ばね22が接触したまま移動
するように構成されたので、固さが固くなり、封入液1
02の移動量が少なくなるため、その分の封入液102
の封入量が減らせるので、センタダイアフラム21に発
生する応力を低減出来、耐久性を向上できる。
板ばね22が接触したまま移動するように構成されたの
で、固さを一様に出来るため、入出力特性を向上させる
事が出来る。 (2)測定範囲内においては、L側入力に対しても、セ
ンタダイアフラム21と板ばね22が接触したまま移動
するように構成されたので、固さが固くなり、封入液1
02の移動量が少なくなるため、その分の封入液102
の封入量が減らせるので、センタダイアフラム21に発
生する応力を低減出来、耐久性を向上できる。
【0028】また、封入液102の膨張、収縮による温
度誤差を小さく出来る。図3は本発明の他の実施例の要
部構成説明図である。本実施例において、第1室23と
第2室24とを連通する連通孔26を、ハウジング1に
設けたものである。
度誤差を小さく出来る。図3は本発明の他の実施例の要
部構成説明図である。本実施例において、第1室23と
第2室24とを連通する連通孔26を、ハウジング1に
設けたものである。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、内部に
封入液が満たされたハウジングと、該ハウジングの両側
に設けられた一対の隔液ダイアフラムと、該隔液ダイア
フラムが一定以上ハウジング側に変位しないように設け
られた移動阻止手段と、前記ハウジング内に設けられた
圧力―電気変換素子を有するシリコンダイアフラムと、
前記ハウジングに該シリコンダイアフラムと共に高圧側
室と低圧側室とに2分するように設けられたセンタダイ
アフラムと、前記低圧側室内に設けられ前記低圧側室を
第1室と第2室とに2分するように設けられた板ばねと
を具備すると共に、平時の測定範囲下において、前記セ
ンタダイアフラムと前記板ばねとが接している事を特徴
とする差圧測定装置を構成した。
封入液が満たされたハウジングと、該ハウジングの両側
に設けられた一対の隔液ダイアフラムと、該隔液ダイア
フラムが一定以上ハウジング側に変位しないように設け
られた移動阻止手段と、前記ハウジング内に設けられた
圧力―電気変換素子を有するシリコンダイアフラムと、
前記ハウジングに該シリコンダイアフラムと共に高圧側
室と低圧側室とに2分するように設けられたセンタダイ
アフラムと、前記低圧側室内に設けられ前記低圧側室を
第1室と第2室とに2分するように設けられた板ばねと
を具備すると共に、平時の測定範囲下において、前記セ
ンタダイアフラムと前記板ばねとが接している事を特徴
とする差圧測定装置を構成した。
【0030】この結果、 (1)測定範囲内において、センタダイアフラムと板ば
ねが接触したまま移動するように構成されたので、固さ
を一様に出来るため、入出力特性を向上させる事が出来
る。 (2)測定範囲内においては、L側入力に対しても、セ
ンタダイアフラムと板ばねが接触したまま移動するよう
に構成されたので、従来例に比べて、固さが固くなり、
封入液102の移動量が少なくなるため、その分の封入
液102の封入量が減らせるので、センタダイアフラム
21に発生する応力を低減出来、耐久性を向上できる。
ねが接触したまま移動するように構成されたので、固さ
を一様に出来るため、入出力特性を向上させる事が出来
る。 (2)測定範囲内においては、L側入力に対しても、セ
ンタダイアフラムと板ばねが接触したまま移動するよう
に構成されたので、従来例に比べて、固さが固くなり、
封入液102の移動量が少なくなるため、その分の封入
液102の封入量が減らせるので、センタダイアフラム
21に発生する応力を低減出来、耐久性を向上できる。
【0031】また、封入液102の膨張、収縮による温
度誤差を小さく出来る。従って、本発明によれば、高圧
側及び低圧側からの瞬間的な過大圧に対してセンサ本体
部分を保護出来、かつ測定レンジの広く入出力特性の向
上された差圧測定装置を実現することが出来る。
度誤差を小さく出来る。従って、本発明によれば、高圧
側及び低圧側からの瞬間的な過大圧に対してセンサ本体
部分を保護出来、かつ測定レンジの広く入出力特性の向
上された差圧測定装置を実現することが出来る。
【図1】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図2】図1の動作説明図である。
【図3】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図4】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
明図である。
【図5】図4の動作説明図である。
1…ハウジング 2…高圧側フランジ 3…低圧側フランジ 4,5…導入口 6…圧力測定室 6A,6B…バックプレ―ト 8…シリコンダイアフラム 9…支持体 10,11…圧力導入室 10A,11A…バックプレ―ト 12,13…隔液ダイアフラム 14,15,16,17…連通口 21…センタダイアフラム 22…板ばね 23…第1室 24…第2室 25、26…連通孔。 80…ストレインゲ―ジ
Claims (1)
- 【請求項1】内部に封入液が満たされたハウジングと、 該ハウジングの両側に設けられた一対の隔液ダイアフラ
ムと、 該隔液ダイアフラムが一定以上ハウジング側に変位しな
いように設けられた移動阻止手段と、 前記ハウジング内に設けられた圧力―電気変換素子を有
するシリコンダイアフラムと、 前記ハウジングに該シリコンダイアフラムと共に高圧側
室と低圧側室とに2分するように設けられたセンタダイ
アフラムと、 前記低圧側室内に設けられ前記低圧側室を第1室と第2
室とに2分するように設けられた板ばねとを具備すると
共に、平時の測定範囲下において、前記センタダイアフ
ラムと前記板ばねとが接している事を特徴とする差圧測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30778391A JPH05142078A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 差圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30778391A JPH05142078A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 差圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05142078A true JPH05142078A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=17973207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30778391A Pending JPH05142078A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 差圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05142078A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3048434A3 (en) * | 2015-01-19 | 2016-11-09 | TGK CO., Ltd. | Pressure sensor module and method for manufacturing the same |
-
1991
- 1991-11-22 JP JP30778391A patent/JPH05142078A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3048434A3 (en) * | 2015-01-19 | 2016-11-09 | TGK CO., Ltd. | Pressure sensor module and method for manufacturing the same |
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