JPH05144695A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH05144695A JPH05144695A JP3301582A JP30158291A JPH05144695A JP H05144695 A JPH05144695 A JP H05144695A JP 3301582 A JP3301582 A JP 3301582A JP 30158291 A JP30158291 A JP 30158291A JP H05144695 A JPH05144695 A JP H05144695A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 パターン形成に使用するレチクルをレチクル
ライブラリに収納した直後にレチクルライブラリの位置
とレチクルとを対応させることによって、露光作業の迅
速化とレチクルを正常に保つことのできる優れた露光装
置を提供する。 【構成】 レチクルカセット３に納められた端部に認識
マーク２を有するレチクル１を複数個収納するレチクル
ライブラリ４と、所定の１枚を選択するレチクル選択手
段と、レチクルライブラリ４からレチクル１を引き出し
または収納するための移送治具６と、レチクル１を引き
出しまたは収納する際にその端部をレチクルライブラリ
４から露出させて停止した状態でレチクル１の認識マー
ク２を読み取る認識マーク読み取り手段５と、露光装置
のコデンサレンズ８と縮小投影レンズ１３の間にあって
露光光路９中に設けられたレチクルステージ１０と、レ
チクルステージ１０とレチクルライブラリ４との間でレ
チクル１を移送するレチクル移送手段とを備えた。
ライブラリに収納した直後にレチクルライブラリの位置
とレチクルとを対応させることによって、露光作業の迅
速化とレチクルを正常に保つことのできる優れた露光装
置を提供する。 【構成】 レチクルカセット３に納められた端部に認識
マーク２を有するレチクル１を複数個収納するレチクル
ライブラリ４と、所定の１枚を選択するレチクル選択手
段と、レチクルライブラリ４からレチクル１を引き出し
または収納するための移送治具６と、レチクル１を引き
出しまたは収納する際にその端部をレチクルライブラリ
４から露出させて停止した状態でレチクル１の認識マー
ク２を読み取る認識マーク読み取り手段５と、露光装置
のコデンサレンズ８と縮小投影レンズ１３の間にあって
露光光路９中に設けられたレチクルステージ１０と、レ
チクルステージ１０とレチクルライブラリ４との間でレ
チクル１を移送するレチクル移送手段とを備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置、液晶表示装
置その他の製造工程においてパターン形成に使用する露
光装置に関する。
置その他の製造工程においてパターン形成に使用する露
光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置などの製造工
程において基板上に微細なレジストパターンを形成する
方法に、マスクを基板に密着し露光する密着露光法、マ
スクを基板から少し離して露光する近接露光法または光
学系を用いてレチクルを基板に縮小投影する投影露光法
がある。
程において基板上に微細なレジストパターンを形成する
方法に、マスクを基板に密着し露光する密着露光法、マ
スクを基板から少し離して露光する近接露光法または光
学系を用いてレチクルを基板に縮小投影する投影露光法
がある。
【０００３】近年、パターンの微細化が進むにつれて、
投影露光法においてもレチクルを１：１で基板に投影す
る方法からレチクルを1/5または1/10に縮小して投影す
る方法が主流になってきている。この場合、実際に基板
上に形成するパターンの５倍または１０倍のパターンを
クロムまたは酸化クロムなどの薄膜でガラス上に形成し
たレチクルを使用する。一方、露光装置もほぼ完全にコ
ンピュータ制御され、レチクルをセットすることも自動
で行なわれるようになっている。
投影露光法においてもレチクルを１：１で基板に投影す
る方法からレチクルを1/5または1/10に縮小して投影す
る方法が主流になってきている。この場合、実際に基板
上に形成するパターンの５倍または１０倍のパターンを
クロムまたは酸化クロムなどの薄膜でガラス上に形成し
たレチクルを使用する。一方、露光装置もほぼ完全にコ
ンピュータ制御され、レチクルをセットすることも自動
で行なわれるようになっている。
【０００４】以下に従来の露光装置について説明する。
図９は従来の露光装置に使用されるレチクル確認装置の
概略斜視図である。図９において、２１はレチクルカセ
ット、２２はレチクルカセット２１の側面に形成された
バーコード、２３はバーコードリーダ、２４はレチク
ル、２５はレチクル２４の表面端部に形成されたバーコ
ード、２６はカセット２４の受け皿、２７はバーコード
リーダ、２８ａ、２８ｂはデコーダである。
図９は従来の露光装置に使用されるレチクル確認装置の
概略斜視図である。図９において、２１はレチクルカセ
ット、２２はレチクルカセット２１の側面に形成された
バーコード、２３はバーコードリーダ、２４はレチク
ル、２５はレチクル２４の表面端部に形成されたバーコ
ード、２６はカセット２４の受け皿、２７はバーコード
リーダ、２８ａ、２８ｂはデコーダである。
【０００５】以上のように構成されたレチクル確認装置
について、以下その動作について説明する。通常レチク
ル２４は受け皿２６に載せられた状態でレチクルカセッ
ト２１に納められており、このレチクルカセット２１は
露光装置（図示せず）の通常レチクルライブラリと称す
る収納庫（図示せず）に収納されている。図９はレチク
ルライブラリからレチクルカセット２１をＡ方向に引出
し、さらにレチクルカセット２１から受け皿２６をＡ方
向に引き出した状態を示している。まずレチクルカセッ
ト２１が引き出される途中でレチクルカセット２１の側
面に形成されたバーコード２２がバーコードリーダ２３
によって読み取られ、次に受け皿２６が引き出される途
中でレチクル２４の表面端部に形成されたバーコード２
５をバーコードリーダ２７で読み取る。このようにして
読み取られた信号はデコーダ２８ａ、２８ｂによって信
号変換され、それぞれのバーコード２２、２５に書かれ
たデータが読みだされる。
について、以下その動作について説明する。通常レチク
ル２４は受け皿２６に載せられた状態でレチクルカセッ
ト２１に納められており、このレチクルカセット２１は
露光装置（図示せず）の通常レチクルライブラリと称す
る収納庫（図示せず）に収納されている。図９はレチク
ルライブラリからレチクルカセット２１をＡ方向に引出
し、さらにレチクルカセット２１から受け皿２６をＡ方
向に引き出した状態を示している。まずレチクルカセッ
ト２１が引き出される途中でレチクルカセット２１の側
面に形成されたバーコード２２がバーコードリーダ２３
によって読み取られ、次に受け皿２６が引き出される途
中でレチクル２４の表面端部に形成されたバーコード２
５をバーコードリーダ２７で読み取る。このようにして
読み取られた信号はデコーダ２８ａ、２８ｂによって信
号変換され、それぞれのバーコード２２、２５に書かれ
たデータが読みだされる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成では、レチクルライブラリからレチクルカセッ
トを取り出してバーコードを読み取った段階ではそのレ
チクルカセットの中に所定のレチクルが入っているかど
うか確認できず、次にレチクルカセットからレチクルを
引き出した段階でレチクルに形成されたバーコードを読
み取った段階でやっと必要とするレチクルであるかどう
かを判定しており、２重の作業を必要とする上間違った
レチクルであれば差替えのための作業が必要となるな
ど、工程および制御システムが煩雑になるという課題を
有していた。
来の構成では、レチクルライブラリからレチクルカセッ
トを取り出してバーコードを読み取った段階ではそのレ
チクルカセットの中に所定のレチクルが入っているかど
うか確認できず、次にレチクルカセットからレチクルを
引き出した段階でレチクルに形成されたバーコードを読
み取った段階でやっと必要とするレチクルであるかどう
かを判定しており、２重の作業を必要とする上間違った
レチクルであれば差替えのための作業が必要となるな
ど、工程および制御システムが煩雑になるという課題を
有していた。
【０００７】本発明は上記の従来の課題を解決するもの
で、レチクルカセットに納められたレチクルをレチクル
ライブラリに収納した直後にレチクルライブラリの位置
とレチクルとを対応させることのできる露光装置を提供
することを目的とする。
で、レチクルカセットに納められたレチクルをレチクル
ライブラリに収納した直後にレチクルライブラリの位置
とレチクルとを対応させることのできる露光装置を提供
することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の露光装置は、端部に認識マークを有するレチ
クルをレチクルカセットに納めた状態で複数個収納する
レチクルライブラリと、複数個のレチクルから所定の１
枚を選択するレチクル選択手段と、レチクルライブラリ
からレチクルを引き出しまたは収納するための移送治具
と、レチクルを引き出しまたは収納する際にその端部を
レチクルライブラリから露出させて停止した状態でレチ
クルの認識マークを読み取る認識マーク読み取り手段
と、露光光路中に設けられレチクルを固定するレチクル
ステージと、レチクルステージとレチクルライブラリと
の間でレチクルを移送するレチクル移送手段とを備えた
構成を有している。
に本発明の露光装置は、端部に認識マークを有するレチ
クルをレチクルカセットに納めた状態で複数個収納する
レチクルライブラリと、複数個のレチクルから所定の１
枚を選択するレチクル選択手段と、レチクルライブラリ
からレチクルを引き出しまたは収納するための移送治具
と、レチクルを引き出しまたは収納する際にその端部を
レチクルライブラリから露出させて停止した状態でレチ
クルの認識マークを読み取る認識マーク読み取り手段
と、露光光路中に設けられレチクルを固定するレチクル
ステージと、レチクルステージとレチクルライブラリと
の間でレチクルを移送するレチクル移送手段とを備えた
構成を有している。
【０００９】
【作用】この構成によって、レチクルカセットに納めら
れたレチクルをレチクルライブラリに収納した直後に、
移送治具によってレチクルの端部に形成された認識マー
クが見える程度にレチクルカセットからレチクルを引き
出し、認識マークを読み取って、レチクルライブラリ内
の位置と対応づけて露光装置を制御するコンピュータに
接続されたデータ記憶部に記憶させておくことができ
る。この段階でレチクルライブラリに収納された全ての
レチクルのデータがレチクルライブラリ内の位置と対応
づけられたことになる。
れたレチクルをレチクルライブラリに収納した直後に、
移送治具によってレチクルの端部に形成された認識マー
クが見える程度にレチクルカセットからレチクルを引き
出し、認識マークを読み取って、レチクルライブラリ内
の位置と対応づけて露光装置を制御するコンピュータに
接続されたデータ記憶部に記憶させておくことができ
る。この段階でレチクルライブラリに収納された全ての
レチクルのデータがレチクルライブラリ内の位置と対応
づけられたことになる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。図１は本発明の一実施例における露
光装置の要部構成図である。図１において、１はレチク
ル、２はレチクル１の表面の端部に形成されたバーコー
ド、３はレチクル１を納めたレチクルカセット、４は多
数個のレチクルカセット３を収納するレチクルライブラ
リ、５はバーコードリーダ、６、７はレチクル１をレチ
クルカセット３から引き出し移送する移送治具、８ａは
露光装置のコンデンサレンズ、９は露光装置の露光光
路、１０はレチクルステージ、１１はレチクルステージ
１０にセットされたレチクル、１２はレチクル１の表面
に塵埃が付着しているかどうかを検査する塵埃検査機、
８ｂは露光装置の縮小投影レンズである。なお露光装置
には以上の構成要素以外に、所定のレチクル１を選択す
るレチクル選択手段、レチクル１を移送する移送手段、
一連の動作を制御するコンピュータを含む制御手段があ
るが、図１では簡単のために省略した。
しながら説明する。図１は本発明の一実施例における露
光装置の要部構成図である。図１において、１はレチク
ル、２はレチクル１の表面の端部に形成されたバーコー
ド、３はレチクル１を納めたレチクルカセット、４は多
数個のレチクルカセット３を収納するレチクルライブラ
リ、５はバーコードリーダ、６、７はレチクル１をレチ
クルカセット３から引き出し移送する移送治具、８ａは
露光装置のコンデンサレンズ、９は露光装置の露光光
路、１０はレチクルステージ、１１はレチクルステージ
１０にセットされたレチクル、１２はレチクル１の表面
に塵埃が付着しているかどうかを検査する塵埃検査機、
８ｂは露光装置の縮小投影レンズである。なお露光装置
には以上の構成要素以外に、所定のレチクル１を選択す
るレチクル選択手段、レチクル１を移送する移送手段、
一連の動作を制御するコンピュータを含む制御手段があ
るが、図１では簡単のために省略した。
【００１１】以上のように構成された露光装置につい
て、以下にその動作について説明する。レチクルライブ
ラリ４にはレチクルカセット３に納められたレチクル１
が多数個収納されているが、そのレチクルカセット３の
位置は後述のデータ記憶部１３に登録されている。全て
のレチクルカセット３を収納し終わったら、移送治具６
がレチクル１の端部をレチクルカセット３から１枚づつ
引き出してバーコードリーダ５がバーコード２を透過光
または反射光で読み取り、元のレチクルカセット３へレ
チクル１を戻す。このときレチクル１はバーコード２が
読み取れる最小限だけ引き出されていればよい。このよ
うにして、１枚づつバーコード２を読み取り、そのデー
タとレチクルライブラリ４の位置とを対応させて後述の
データ記憶部１３に記憶しておく。
て、以下にその動作について説明する。レチクルライブ
ラリ４にはレチクルカセット３に納められたレチクル１
が多数個収納されているが、そのレチクルカセット３の
位置は後述のデータ記憶部１３に登録されている。全て
のレチクルカセット３を収納し終わったら、移送治具６
がレチクル１の端部をレチクルカセット３から１枚づつ
引き出してバーコードリーダ５がバーコード２を透過光
または反射光で読み取り、元のレチクルカセット３へレ
チクル１を戻す。このときレチクル１はバーコード２が
読み取れる最小限だけ引き出されていればよい。このよ
うにして、１枚づつバーコード２を読み取り、そのデー
タとレチクルライブラリ４の位置とを対応させて後述の
データ記憶部１３に記憶しておく。
【００１２】実際の露光に際しては、１枚のレチクル１
がレチクルライブラリ４から引き出され、レチクルステ
ージ１０へ送られるのであるが、必要な場合塵埃検査機
１２を通すことになる。次にレチクル１を交換して次の
露光を行なうときは、レチクルステージ１０の上のレチ
クル１を移送治具７が取り出す一方、移送治具６が次の
レチクル１をレチクルライブラリ４から引き出す。また
移送治具６、７が移送経路中で衝突しないように、移送
治具待避経路を設けておく必要がある。
がレチクルライブラリ４から引き出され、レチクルステ
ージ１０へ送られるのであるが、必要な場合塵埃検査機
１２を通すことになる。次にレチクル１を交換して次の
露光を行なうときは、レチクルステージ１０の上のレチ
クル１を移送治具７が取り出す一方、移送治具６が次の
レチクル１をレチクルライブラリ４から引き出す。また
移送治具６、７が移送経路中で衝突しないように、移送
治具待避経路を設けておく必要がある。
【００１３】次に本実施例におけるデータのやりとりに
ついて、図２に示すデータ処理装置のブロック図を参照
しながら説明する。図２に示すように、バーコードリー
ダ５で読み込まれたレチクル１のデータは、データ記憶
部１３に記憶されているレチクルライブラリ４の位置に
関するデータとデータ比較器１４で比較される。データ
記憶部１３にレチクル１のデータが入ってないときには
そのデータを書き込み、すでにレチクル１のデータが入
っているときには両者が照合される。一方データベース
の露光条件記憶部１５には原則として所有している全て
のレチクルの露光条件が記憶されている。レチクルライ
ブラリ４から所定のレチクル１が取り出されてレチクル
ステージ１０へ移送されるときにデータ記憶部１３のデ
ータと露光条件記憶部１５のデータとがデータ比較器１
６で比較され、一致していれば露光条件記憶部１５から
露光装置内の一時記憶装置１７へ露光条件が送られる。
ただし、露光条件を一時的に変更する時には、その都度
露光条件入力１８を行なう。
ついて、図２に示すデータ処理装置のブロック図を参照
しながら説明する。図２に示すように、バーコードリー
ダ５で読み込まれたレチクル１のデータは、データ記憶
部１３に記憶されているレチクルライブラリ４の位置に
関するデータとデータ比較器１４で比較される。データ
記憶部１３にレチクル１のデータが入ってないときには
そのデータを書き込み、すでにレチクル１のデータが入
っているときには両者が照合される。一方データベース
の露光条件記憶部１５には原則として所有している全て
のレチクルの露光条件が記憶されている。レチクルライ
ブラリ４から所定のレチクル１が取り出されてレチクル
ステージ１０へ移送されるときにデータ記憶部１３のデ
ータと露光条件記憶部１５のデータとがデータ比較器１
６で比較され、一致していれば露光条件記憶部１５から
露光装置内の一時記憶装置１７へ露光条件が送られる。
ただし、露光条件を一時的に変更する時には、その都度
露光条件入力１８を行なう。
【００１４】次に本実施例の露光装置の細部の動作につ
いて、図３〜図７に示すフローチャートを参照しながら
説明する。なおこれらのフローチャートの説明に使用す
る符号は図１または図２に示す符号と同一である。また
S30などはステップを示す符号である。
いて、図３〜図７に示すフローチャートを参照しながら
説明する。なおこれらのフローチャートの説明に使用す
る符号は図１または図２に示す符号と同一である。また
S30などはステップを示す符号である。
【００１５】図３は本実施例の露光装置におけるレチク
ル収納作業のフローチャートである。このフローチャー
トは、露光工程に先立って必要とするレチクル１をレチ
クルライブラリ４に収納する作業を示しているが、その
他にも新たにレチクル１を追加する時にも同様の作業が
必要である。まずS30で作業が開始となり、S31でレチク
ル１を収納したレチクルカセット３をレチクルライブラ
リ４に収納する。全てのレチクルカセット３が収納され
たら、次にS32で１個のレチクルカセット３の扉（図１
には図示せず）を開ける。次にS33で移送治具６により
レチクル１の端部を引き出し、S34でレチクル１上のバ
ーコード２をバーコードリーダ５で読み取った後、S35
で読み取ったデータとそのレチクル１が収納されていた
場所とを対応させて図２のデータ記憶部１３に記憶す
る。次にS36で引き出されていたレチクル１をレチクル
カセット３に戻し、レチクルカセット３の扉を閉める。
S32〜S37までのステップをレチクルライブラリ４に収納
した全てのレチクル１について行い、最後にS38でレチ
クル収納作業が完了する。
ル収納作業のフローチャートである。このフローチャー
トは、露光工程に先立って必要とするレチクル１をレチ
クルライブラリ４に収納する作業を示しているが、その
他にも新たにレチクル１を追加する時にも同様の作業が
必要である。まずS30で作業が開始となり、S31でレチク
ル１を収納したレチクルカセット３をレチクルライブラ
リ４に収納する。全てのレチクルカセット３が収納され
たら、次にS32で１個のレチクルカセット３の扉（図１
には図示せず）を開ける。次にS33で移送治具６により
レチクル１の端部を引き出し、S34でレチクル１上のバ
ーコード２をバーコードリーダ５で読み取った後、S35
で読み取ったデータとそのレチクル１が収納されていた
場所とを対応させて図２のデータ記憶部１３に記憶す
る。次にS36で引き出されていたレチクル１をレチクル
カセット３に戻し、レチクルカセット３の扉を閉める。
S32〜S37までのステップをレチクルライブラリ４に収納
した全てのレチクル１について行い、最後にS38でレチ
クル収納作業が完了する。
【００１６】図４は本実施例の露光装置におけるレチク
ル選択作業のフローチャートである。このフローチャー
トは、露光工程で必要とするレチクル１を選択する作業
を示している。まずS40で作業が開始となり、S41で露光
作業開始を指示する。次にS42でレチクル名がデータ記
憶部１３から引き出されてS43で表示部（ＣＲＴと略
す）に表示される。次にS44で希望のレチクル１がある
かどうかをＣＲＴ上で判定し（YesまたはNoの判定）、
もしあればS45でレチクル１を選択する。この選択によ
って、移送治具６が所定のレチクル１の端部を引き出
し、S47でそのレチクル１の端部に形成されたバーコー
ド２をバーコードリーダ５で読み取る。このデータはＣ
ＲＴ上に表示されるが、S48でそのデータがS45で選択し
たレチクル１と一致しているかどうかを判定し、一致し
ていればS49でレチクル選択作業が終了する。一方S44で
ＣＲＴ上に表示された中に希望のレチクル１がない場合
は、図３に示すS30に戻って新規にレチクル１をレチク
ルライブラリ４に追加することになる。またS48におい
て読み込まれたデータが希望するレチクル１のそれとは
異なっている場合、S481で無視して作業を進めるかどう
かを判定し、無視して進めるのであれば後述の図６に示
すS60へ進むが、無視しないときにはS482で再確認する
かどうかを判定する。再確認しない場合は、図３に示す
S30に戻って新規にレチクル１をレチクルライブラリ４
に追加することになるが、再確認する場合には後述の図
５に示すS50に進む。
ル選択作業のフローチャートである。このフローチャー
トは、露光工程で必要とするレチクル１を選択する作業
を示している。まずS40で作業が開始となり、S41で露光
作業開始を指示する。次にS42でレチクル名がデータ記
憶部１３から引き出されてS43で表示部（ＣＲＴと略
す）に表示される。次にS44で希望のレチクル１がある
かどうかをＣＲＴ上で判定し（YesまたはNoの判定）、
もしあればS45でレチクル１を選択する。この選択によ
って、移送治具６が所定のレチクル１の端部を引き出
し、S47でそのレチクル１の端部に形成されたバーコー
ド２をバーコードリーダ５で読み取る。このデータはＣ
ＲＴ上に表示されるが、S48でそのデータがS45で選択し
たレチクル１と一致しているかどうかを判定し、一致し
ていればS49でレチクル選択作業が終了する。一方S44で
ＣＲＴ上に表示された中に希望のレチクル１がない場合
は、図３に示すS30に戻って新規にレチクル１をレチク
ルライブラリ４に追加することになる。またS48におい
て読み込まれたデータが希望するレチクル１のそれとは
異なっている場合、S481で無視して作業を進めるかどう
かを判定し、無視して進めるのであれば後述の図６に示
すS60へ進むが、無視しないときにはS482で再確認する
かどうかを判定する。再確認しない場合は、図３に示す
S30に戻って新規にレチクル１をレチクルライブラリ４
に追加することになるが、再確認する場合には後述の図
５に示すS50に進む。
【００１７】図５は本実施例の露光装置のレチクル再確
認作業のフローチャートである。このフローチャート
は、主として図４のS482の続きの作業である。まずS50
で作業が開始となり、S51でレチクル１の端部に記載さ
れたバーコード２がバーコードリーダ５で読み取られ、
S52でそのデータが一時記憶される。S53でレチクル１は
レチクルカセット３に戻され、S54でレチクルカセット
３の扉が閉められ、レチクルライブラリ４へ戻される。
次にS55でデータ記憶部１３のデータ訂正が行われ、S56
でレチクル再確認作業が終了し、図４に示すS41に戻
る。
認作業のフローチャートである。このフローチャート
は、主として図４のS482の続きの作業である。まずS50
で作業が開始となり、S51でレチクル１の端部に記載さ
れたバーコード２がバーコードリーダ５で読み取られ、
S52でそのデータが一時記憶される。S53でレチクル１は
レチクルカセット３に戻され、S54でレチクルカセット
３の扉が閉められ、レチクルライブラリ４へ戻される。
次にS55でデータ記憶部１３のデータ訂正が行われ、S56
でレチクル再確認作業が終了し、図４に示すS41に戻
る。
【００１８】図６は本実施例の露光装置における塵埃検
査作業のフローチャートである。まずS60で作業が開始
となり、S61で塵埃検査を実施するかどうかを判定す
る。塵埃検査を実施しない場合はS67でレチクル１を待
機させた状態で後述の図７に示すS70へ進むが、実施を
選択した場合はS62でレチクル１が塵埃検査機１２に送
り込まれ、S63で塵埃検査を受ける。次にS64で塵埃がレ
チクル１上にあるかどうかが判定され、もしパターン形
成に影響する塵埃があれば後述の図７に示すS73へ進
み、なければS65でレチクル１を塵埃検査機１２から取
り出し、S66で塵埃検査作業が終了するが、このときに
もレチクルはS68で待機状態になる。
査作業のフローチャートである。まずS60で作業が開始
となり、S61で塵埃検査を実施するかどうかを判定す
る。塵埃検査を実施しない場合はS67でレチクル１を待
機させた状態で後述の図７に示すS70へ進むが、実施を
選択した場合はS62でレチクル１が塵埃検査機１２に送
り込まれ、S63で塵埃検査を受ける。次にS64で塵埃がレ
チクル１上にあるかどうかが判定され、もしパターン形
成に影響する塵埃があれば後述の図７に示すS73へ進
み、なければS65でレチクル１を塵埃検査機１２から取
り出し、S66で塵埃検査作業が終了するが、このときに
もレチクルはS68で待機状態になる。
【００１９】図７は本実施例の露光装置のレチクルステ
ージからレチクルを除去するレチクル除去作業のフロー
チャートである。まずS70で作業を開始し、S71で露光装
置のコンデンサレンズ８と縮小投影レンズ１３の間にあ
って露光光路９内に設置されたレチクルステージ１０の
上にレチクル１１があるかどうかを判定し、なければ後
述の図８に示すS80へ進むが、あればS72でレチクル１１
をレチクルステージ１０から除去する。この作業は移送
治具６または移送治具７のいずれか空いてる方（図１の
場合は移送治具７）で行われ、S73でレチクル１１をレ
チクルライブラリ４の方向へ移送する。この時移送経路
中に他の移送治具（この場合は移送治具６）が存在すれ
ば、移送治具６がバイパスへ逃げるようにしておくこと
が必要である。このようにしてレチクルライブラリ４の
所定の位置に納入される前に、S74で戻ってきたレチク
ル１１のバーコード２を読み取り、S75でデータ記憶を
行う。必要であれば、データ記憶部１３のデータを書き
直す。最後にレチクル１１をレチクルカセット３に収納
し、さらにレチクルライブラリ４に収納してS78でレチ
クル除去作業が終了するのであるが、その後再びS70へ
戻りS71を経てS80へ進むことになる。
ージからレチクルを除去するレチクル除去作業のフロー
チャートである。まずS70で作業を開始し、S71で露光装
置のコンデンサレンズ８と縮小投影レンズ１３の間にあ
って露光光路９内に設置されたレチクルステージ１０の
上にレチクル１１があるかどうかを判定し、なければ後
述の図８に示すS80へ進むが、あればS72でレチクル１１
をレチクルステージ１０から除去する。この作業は移送
治具６または移送治具７のいずれか空いてる方（図１の
場合は移送治具７）で行われ、S73でレチクル１１をレ
チクルライブラリ４の方向へ移送する。この時移送経路
中に他の移送治具（この場合は移送治具６）が存在すれ
ば、移送治具６がバイパスへ逃げるようにしておくこと
が必要である。このようにしてレチクルライブラリ４の
所定の位置に納入される前に、S74で戻ってきたレチク
ル１１のバーコード２を読み取り、S75でデータ記憶を
行う。必要であれば、データ記憶部１３のデータを書き
直す。最後にレチクル１１をレチクルカセット３に収納
し、さらにレチクルライブラリ４に収納してS78でレチ
クル除去作業が終了するのであるが、その後再びS70へ
戻りS71を経てS80へ進むことになる。
【００２０】図８は本実施例の露光装置における露光作
業のフローチャートである。まずS80で作業が開始とな
り、S81で図６に示すS67またはS68に待機させてあるレ
チクル１を取りに行く。次にS82でレチクルステージ１
０上にレチクル１をセットする。次にS83で決められた
露光条件通りで作業するかどうか判定し、その条件通り
で作業するのであればS84で露光作業し、露光作業終了
後レチクルステージ１０上のレチクル１１を除去する。
除去されたレチクル１１は移送治具７によってレチクル
カセット３に収納されるが、端部は露出した状態で停止
しており、バーコードリーダ５によりバーコード２が読
み取られる。読み取られたデータは一時的にデータ記憶
され、データ記憶部１３のデータと比較された後必要な
らばデータ記憶装置１３内の対応するデータを書き直
す。最後にS89でレチクル１１をカセット３に収納してS
90で露光作業が終了する。一方S83で決められた露光条
件通りに作業しないときには、一時的にS91で露光条件
を変更し、S92で変更した露光条件を露光装置内の一時
記憶装置１７に記憶させる。次にS93でデータベースの
露光条件記憶部１５の露光条件を書き換えるかどうかを
判定し、書き換えないのであればS84の露光作業に進む
が、書き換えるのであれば書き換えた後S84に進む。
業のフローチャートである。まずS80で作業が開始とな
り、S81で図６に示すS67またはS68に待機させてあるレ
チクル１を取りに行く。次にS82でレチクルステージ１
０上にレチクル１をセットする。次にS83で決められた
露光条件通りで作業するかどうか判定し、その条件通り
で作業するのであればS84で露光作業し、露光作業終了
後レチクルステージ１０上のレチクル１１を除去する。
除去されたレチクル１１は移送治具７によってレチクル
カセット３に収納されるが、端部は露出した状態で停止
しており、バーコードリーダ５によりバーコード２が読
み取られる。読み取られたデータは一時的にデータ記憶
され、データ記憶部１３のデータと比較された後必要な
らばデータ記憶装置１３内の対応するデータを書き直
す。最後にS89でレチクル１１をカセット３に収納してS
90で露光作業が終了する。一方S83で決められた露光条
件通りに作業しないときには、一時的にS91で露光条件
を変更し、S92で変更した露光条件を露光装置内の一時
記憶装置１７に記憶させる。次にS93でデータベースの
露光条件記憶部１５の露光条件を書き換えるかどうかを
判定し、書き換えないのであればS84の露光作業に進む
が、書き換えるのであれば書き換えた後S84に進む。
【００２１】
【発明の効果】以上のように本発明は、パターン形成に
使用する多数のレチクルを収納したレチクルライブラリ
からレチクルを引き出しまたは収納する際にその端部を
レチクルライブラリから露出させて停止した状態でレチ
クルの認識マークを読み取る認識マーク読み取り手段を
設けた構成により、レチクルライブラリにレチクルを収
納した直後にレチクルライブラリの位置とレチクルとを
対応させることができるため、露光作業の迅速化とレチ
クルを正常に保つことのできる優れた露光装置を実現で
きるものであり、半導体装置、液晶表示装置などのパタ
ーン形成工程に用いて優れた効果を発揮するものであ
る。
使用する多数のレチクルを収納したレチクルライブラリ
からレチクルを引き出しまたは収納する際にその端部を
レチクルライブラリから露出させて停止した状態でレチ
クルの認識マークを読み取る認識マーク読み取り手段を
設けた構成により、レチクルライブラリにレチクルを収
納した直後にレチクルライブラリの位置とレチクルとを
対応させることができるため、露光作業の迅速化とレチ
クルを正常に保つことのできる優れた露光装置を実現で
きるものであり、半導体装置、液晶表示装置などのパタ
ーン形成工程に用いて優れた効果を発揮するものであ
る。
【図１】本発明の一実施例における露光装置の要部構成
図
図
【図２】同露光装置におけるデータ処理装置のブロック
図
図
【図３】同露光装置におけるレチクル収納作業のフロー
チャート
チャート
【図４】同露光装置におけるレチクル選択作業のフロー
チャート
チャート
【図５】同露光装置のレチクル再確認作業のフローチャ
ート
ート
【図６】同露光装置における塵埃検査作業のフローチャ
ート
ート
【図７】同露光装置におけるレチクル除去作業のフロー
チャート
チャート
【図８】同露光装置における露光作業のフローチャート
【図９】従来の露光装置に使用されるレチクル確認装置
の概略斜視図
の概略斜視図
１ レチクル ２ バーコード（認識マーク） ３ レチクルカセット ４ レチクルライブラリ ５ バーコードリーダ（認識マーク読み取り手段） ６ 移送治具 ７ 移送治具 ９ 露光光路 １０ レチクルステージ
Claims (9)
- 【請求項１】 レチクルカセットに納められた端部に認
識マークを有するレチクルを複数個収納するレチクルラ
イブラリと、前記複数個のレチクルから所定の１枚を選
択するレチクル選択手段と、前記レチクルライブラリか
らレチクルを引き出しまたは収納するための移送治具
と、レチクルを引き出しまたは収納する際にその端部を
レチクルライブラリから露出させて停止した状態でレチ
クルの認識マークを読み取る認識マーク読み取り手段
と、コンデンサレンズと縮小投影レンズとの間にあって
露光光路中に設けられたレチクルを固定するレチクルス
テージと、前記のレチクルステージとレチクルライブラ
リとの間でレチクルを移送するレチクル移送手段とを備
えた露光装置。 - 【請求項２】 レチクルの認識マークによるデータが、
適用製品、処理工程等を示すレチクル番号である請求項
１記載の露光装置。 - 【請求項３】 レチクルに設けた認識マークがバーコー
ドまたは光学的に読み取り可能な記号または文字である
請求項１記載の露光装置。 - 【請求項４】 レチクルライブラリとレチクルステージ
との間のレチクル移送路中またはバイパス路中に塵埃検
査機を有する請求項１記載の露光装置。 - 【請求項５】 レチクルカセットに納められたレチクル
をレチクルライブラリに収納した後に、移送治具により
認識マークが読み取れる程度にレチクルの端部をレチク
ルカセットから引き出す操作と、認識マークを認識マー
ク読み取り手段で読み取る操作と、レチクルをレチクル
カセットに戻す操作とを制御する制御手段を有する請求
項１記載の露光装置。 - 【請求項６】 認識マーク読み取り手段が移送治具に設
けられた請求項１記載の露光装置。 - 【請求項７】 レチクル移送手段が独立した複数個の移
送治具を有し、一方の移送治具がレチクルライブラリか
らレチクルステージへレチクルを移送しているときに、
他方の移送治具がレチクルステージからレチクルカセッ
トへレチクルを移送するものである請求項１記載の露光
装置。 - 【請求項８】 レチクルの認識マークから読み取ったデ
ータと、前記レチクルが収納されていたレチクルライブ
ラリの位置関係と、前記レチクルを用いた露光作業にお
ける露光条件とを記憶するデータ記憶部を付加した請求
項１記載の露光装置。 - 【請求項９】 データ記憶部と一時記憶装置とが付加さ
れ、かつレチクルステージにレチクルが固定されたと
き、前記レチクルに対応する露光条件が前記データ記憶
部から前記一時記憶装置に転送されるものである請求項
１記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3301582A JPH05144695A (ja) | 1991-11-18 | 1991-11-18 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3301582A JPH05144695A (ja) | 1991-11-18 | 1991-11-18 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05144695A true JPH05144695A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17898687
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3301582A Pending JPH05144695A (ja) | 1991-11-18 | 1991-11-18 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05144695A (ja) |
-
1991
- 1991-11-18 JP JP3301582A patent/JPH05144695A/ja active Pending
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