JPH05147105A - 形状記憶性高分子材料組成物の成形品、形状記憶性高分子材料組成物及びその使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ポリスチレン等の高分子材料にポリスチレン
の２０重量％のフタル酸ジ（２−エチルヘキシル）等の
可塑剤を含ませた組成物を ａ．１次成形し、固化した後、 ｂ．ガラス転移温度域にて２次成形し、冷却して固化し
た後、再びガラス転移温度域まで昇温して１次成形形状
を復活させる。 【効果】 汎用のあらゆる高分子材料に適用でき、２次
成形温度を自由に設定できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、所定の温度域において
成形加工した後、再加熱すると元の形状に回復する、い
わゆる形状記憶性を有する高分子材料組成物、その成形
体及びその使用方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、成形体を所定の温度域で成形
加工した後、冷却し、次いで加熱することにより成形加
工前の形状に回復せしめる、いわゆる形状記憶性を持た
せた高分子材料の開発が盛んに行われている。例えば特
開昭５９−５３５２８号公報にはこの様な形状記憶性を
有する高分子材料として特定のガラス転移温度と数平均
分子量とを有するノルボルネン系ポリマーを使用する技
術が、また特開昭６３−１７９９５５号公報にはスチレ
ン・ブタジエンブロック共重合体系の形状記憶性高分子
材料を用いた技術が開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術において、例えば特開昭５９−５３５２８号公
報記載の、ノルボルネン系ポリマーを使用した形状記憶
性高分子材料は加工性に劣る他、該高分子材料そのもの
が非常に高価であること、２次成形温度を任意に設定で
きない等の問題点があり、又、特開昭６３−１７９９５
５号公報記載のスチレン・ブタジエンブロック共重合体
系の形状記憶性高分子材料は、その分子構造が複雑化す
るために該高分子材料を製造するにあたり煩わしささを
伴う事、２次成形温度を任意に設定できない等の問題点
を有していた。

【０００４】即ち、上記従来の形状記憶性高分子材料は
その材料が厳しく限定されるために、入手あるいは製造
することが困難であったり、２次成形温度を任意に設定
できないため、その用途が制限されるという問題が生じ
ていた。

【０００５】本発明が解決しようとする課題は、用いる
高分子材料を特に限定することなく、極めて汎用であっ
て、且つあらゆる種類の高分子材料を用いることがで
き、しかも、使用する可塑剤の量により２次成形温度を
調節することが可能な形状記憶性高分子材料組成物、そ
の成形品及びその成形品の使用方法を提供することにあ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意研究
を重ねた結果、特定量の可塑剤を含有する高分子材料組
成物が、上記課題を解決することを見いだし本発明を完
成するに至った。

【０００７】即ち、本発明は可塑剤を含有する高分子材
料組成物を、 ａ．１次成形し、固化した後、 ｂ．ガラス転移点温度域にて２次成形し、 次いで、冷却し２次成形形状に固定することを特徴とす
る形状記憶性高分子材料組成物の成形品、

【０００８】ポリスチレンを必須成分とし、可塑剤を５
〜３０重量％含有する形状記憶性高分子材料組成物、ス
チレン−メタクリル酸共重合体を必須成分とし、可塑剤
を５〜５０重量％含有する形状記憶性高分子材料組成
物、ポリカーボネートを必須成分とし、可塑剤を１０〜
５０重量％含有する形状記憶性高分子材料組成物、

【０００９】スチレン−アクリロニトリルを必須成分と
し、可塑剤を５〜４０重量％含有する形状記憶性高分子
材料組成物、スチレン−無水マレイン酸共重合体を必須
成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有する形状記憶性
高分子材料組成物、ポリメチルメタクリレート共重合体
を主成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有する形状記
憶性高分子材料組成物、スチレン−メチルメタクリレー
ト共重合体を主成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有
する形状記憶性高分子材料組成物、

【００１０】ブタジエン系単量体、スチレン系単量体、
アクリロニトリル系単量体を含む混合物から成る共重合
体を必須成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有する形
状記憶性高分子材料組成物、ポリ塩化ビニル樹脂を必須
成分とし、可塑剤を０．５〜２５重量％含有する形状記
憶性高分子材料組成物、ポリフェニレンエーテルを必須
成分とし、可塑剤を２０〜５０重量％含有する形状記憶
性高分子材料組成物、ポリ酢酸ビニルを主成分とし、可
塑剤を０．５〜２０重量％含有する形状記憶性高分子材
料組成物、及び、

【００１１】可塑剤を含有する高分子材料組成物を、 ａ．１次成形し、固化した後、 ｂ．ガラス転移点温度域にて２次成形し、 ｃ．冷却し２次成形形状に固定した後、 ガラス転移温度域まで昇温し、再び１次成形形状に回復
させることを特徴とする形状記憶性高分子材料組成物か
らなる成形品の使用方法に関する。

【００１２】本発明の成形品は、高分子材料に可塑剤を
含有させた高分子材料組成物をａ．１次成形し、固化し
た後、ｂ．ガラス転移温度域にて２次成形し、次いで、
冷却し２次成形形状に固化したものであるが、ａ．１次
成形とは、その内部歪が２次成形品が有するものよりも
小さくなる様に成形することであり、例えば流動状態に
ある高分子材料組成物を成形し固化するものである。

【００１３】具体的には、ガラス転移温度域以上或いは
結晶融点以上において射出成形；無延伸、無軸延伸、一
軸延伸、二軸延伸等によるフィルムシート成形；ボード
押出成形、真空成形、圧空成形、異形成形、ブロー成
形、押出発泡成形などにより、各種成形品に成形後、ガ
ラス転移温度域以下において成形品形状を固定するも
の、モノマー或いはオリゴマー等低分子量体を型に入れ
た後、電子線、紫外線等のエネルギー線照射による重合
或いは加熱による硬化による重合、高分子材料を溶媒に
溶かした溶液からのキャスト成形等が挙げられる。

【００１４】ｂ．２次成形とは、１次成形した後、該成
形品のガラス転移温度域にて変形を施すものであり、具
体的には、例えば曲げ、圧縮、引張、ねじり及びこれら
の変形の組み合わせが挙げられる。

【００１５】本発明でいう、ガラス転移温度域とは、高
分子鎖のブラウン運動が開始する温度より、高分子材料
が変形により完全に流動するまでの成形可能な温度域を
示す。

【００１６】即ち、このガラス転移温度域はガラス転移
に伴う高分子鎖の分子運動の緩和時間の分布が広くなる
に従って広がるものあり、例えば、示差熱走査型熱分析
計（ＤＳＣ）等でこのガラス転移温度の測定を行った場
合に、ガラス転移に伴う吸熱カーブによって表わすこと
ができるものである。即ち、該吸熱カーブが緩やかにな
る程、ガラス転移温度域も広くなる。

【００１７】また、この２次成形を施すガラス転移温度
域は１次成形する温度よりも低いことが、２次成形品の
形状の安定性から好ましい。例えば、昇温して流動状態
とした高分子材料組成物を１成形する場合には、２次成
形を施すガラス転移温度域は該高分子材料が流動状態を
示す温度よりも低くなることが好ましい。

【００１８】本発明で使用し得る高分子材料としては、
特に限定されるものではなく、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ
アクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ポリビニ
ルエステル及びスチレン−メタクリル酸共重合体、スチ
レン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレ
イン酸共重合体、スチレン−メチルメタクリレート共重
合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
体及びメチル（メタ）アクリレート−アクリロニトリル
−ブタジエン−スチレン共重合体等のブタジエン系単量
体、スチレン系単量体、アクリロニトリル系単量体を含
む混合物からなる共重合体、アクリロニトリル−ブタジ
エン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）等のビニル系高
分子、ポリ塩化ビニル等の塩素原子含有ビニル系高分
子、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン等のビ
ニリデン系高分子、ナイロン６、ナイロン１１、ナイロ
ン６，６等のポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフ

【００１９】タレート等のポリエステル系樹脂、ポリ
（ビスフェノールＡカーボネート）等のポリカーボネー
ト系樹脂、ポリエチレングリコールの様なポリエーテル
系樹脂、シリコーン系樹脂、更にポリフェニレンオキシ
ド、ポリフェニレンサルファイド、ポリサルホン芳香族
ポリエステル、ポリアセタール等のエンジニアリングプ
ラスチックス、更にＡＥＳ樹脂、繊維素誘導体樹脂、ポ
リビニルブチラール、ポリメチルペンテン、ポリブテ
ン、ポリイソプレン、ポリカプロラクトン、シクロヘキ
サノン樹脂、石油樹脂、（メタ）アクリル酸変性ポリエ
チレン及び（メタ）アクリル酸変性ポリプロピレン、ア
イオノマー等の熱可塑性樹脂；或いはエポキシ樹脂、フ
ェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、ジアリールフタレート樹脂、シリコーン樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ウラキッド樹
脂等の熱硬化性樹脂などであってもよい。これらの樹脂
は１種或いは２種以上を組み合わせて使用できる。

【００２０】中でも、透明性が良好である点から、ポリ
スチレン、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン
−（メチル）メタアクリレート共重合体、スチレン−ア
クリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共
重合体、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニルが好まし
く、機械強度が良好である点からポリカーボネート、ポ
リフェニレンオキシド、アクリロニトリル−ブタジエン
−スチレン共重合体、ポリ塩化ビニルが好ましく、ま
た、耐候性が良好である点からポリメチルメタクリレー
トが好ましい。更に、難燃性が良好である点からポリ塩
化ビニルが好ましい。

【００２１】本発明において、可塑剤の使用量は用いる
高分子材料によって任意に設定でき、特に限定されるも
のではないが、通常、形状記憶性高分子組成物中０．１
〜７０重量％の範囲で使用でき、中でも適切な２次成形
温度領域を有し、かつ用いる高分子材料の特性を維持す
ることができる点から形状記憶性高分子材料組成物中、
０．５〜５０重量％の範囲で含有する事が好ましい。

【００２２】更に、特に好ましく使用できる範囲は、使
用する高分子材料によって異なり、例えば、ポリスチレ
ンを用いた場合には５〜３０重量％、２次成形の加工性
に優れる点から好ましくは１５〜３０重量％である。同
様に、スチレン−メタアクリル酸共重合体を用いた場合
には５〜５０重量％、好ましくは２０〜４５重量％、ポ
リカーボネートを用いた場合には１０〜５０重量％、好
ましくは１５〜３５重量％、スチレン−アクリロニトリ
ルを用いた場合は５〜４０重量％、好ましくは１５〜３
０重量％、スチレン−無水マレイン酸共重合体を用いた
場合には５〜３５重量％、好ましくは１５〜３０重量
％、ポリメチルメタアクリレートを用いた場合には５〜
３５重量％、好ましくは１５〜３５重量％、スチレン−
メチルメタアクリレート共重合体を用いた場合には５〜
３５重量％、好ましくは１５〜３５重量％、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン共重合体を用いた場合に
は、５〜３５重量％、好ましくは１５〜３５重量％、ポ
リ塩化ビニルを用いた場合には０．５〜２５重量％、好
ましくは３〜２２重量％、ポリフェニレンエーテルを用
いた場合には、ポリフェニレンエーテルを用いた場合に
は２０〜５０重量％、好ましくは３０〜５０重量％、ポ
リ酢酸ビニルを用いた場合には０．５〜２０重量％、好
ましくは０．５〜１５重量％である。

【００２３】更に、本発明の形状記憶性高分子材料組成
物は可塑剤の使用量を上述した範囲内で選択することに
より、任意に２次成形温度を設定できるものである。具
体的に一例を挙げると、高分子材料としてポリスチレン
を用いた場合、好ましい２次成形温度は可塑剤２０重量
％含有物で６０〜７０℃であり、可塑剤３０重量％使用
時の２次成形温度は５０〜６０℃である。

【００２４】本発明で使用する可塑剤としては、リン酸
トリブチル、リン酸トリ−２−ヘキシル、リン酸トリフ
ェニル、リン酸トリクレジル等のリン酸エステル系化合
物、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチ
ル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソ
ノニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ジイソデシ
ル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル系化
合物、オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エ
ステル等の脂肪族一塩基酸エステル系化合物、アジピン
酸ジ−ｎ−ブチル、アジピン酸ジ−ｎ−ヘキシル、アジ
ピン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸アルキル６
１０、アゼライン酸ジ−２−エチルヘキシル、セバシン
酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル等の脂
肪族二塩基酸エステル系化合物、ジエチレングリコール
ベンゾエート、トリエチレングリコールジ−２−エチル
ブチラート等の二価アルコールエステル系化合物、アセ
チルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチ
ル、ブチルフタリルブチルグリコレート、アセチルクエ
ン酸トリブチル等のオキシ酸エステル系化合物、塩素化
パラフィン、塩素化ビフェニル−２−ニトロビフェニ
ル、ジノニルナフタリン、ｏ−トルエンスルホンエチル
アミド、ｐ−トルエンスルホンエチルアミド、アビエチ
ン酸メチル等が挙げられ、特に限定されるものではない
が、なかでも樹脂との相溶性が良好である点からリン酸
トリクレジル、アジピン酸ジ−ｎ−ブチル又はフタル酸
ジ−２−エチルヘキシルが好ましい。

【００２５】本発明の高分子材料組成物は、例えば以下
の様にして製造できる。即ち、加熱ロール、バンバリー
ミキサー、単軸押出機、二軸押出機、単軸−二軸連結押
出機等を用いて混合する方法、或いは単にドライブレン
ドする方法、また共通溶媒に溶解後、溶媒をキャストす
る方法等通常用いられている方法により製造することが
できる。

【００２６】このようにして得られる本発明の形状記憶
性高分子材料はさらに通常用いられる酸化防止剤、紫外
線吸収剤、溶剤、難燃剤、帯電防止剤、顔料、染料、発
泡剤等の配合剤を配合することができる。

【００２７】さらにこれらの他に、ガラス繊維、炭素繊
維、金属繊維、ガラスビーズ、ガラスパウダー、ガラス
フレーク、アスベスト、ウエラスナイト、マイカ、タル
ク、クレー、炭酸カルシウム、チタン、チタン酸カルシ
ウム、硫酸バリウム等の充填剤を単独または併用して用
いることができる。

【００２８】本発明の成形品の使用方法は、２次成形形
状に固定した形状記憶性高分子材料組成物の成形品をガ
ラス転移温度域まで昇温し、再び１次成形形状に回復さ
せるものである。

【００２９】即ち、上述した１次成形を施した成形品
は、該成形品中の高分子鎖の配列が平衡点付近に位置
し、結果的に内部歪が非常に小さい状態となっている。
このような１次成形品にガラス転移温度域にて、例えば
曲げ、圧縮、引張、ねじり及びこれらの変形の組み合わ
せによる変形を加えた後、ガラス転移温度以下に急冷し
た２次成形品においては分子鎖の配列は非平衡状態にあ
り、大きな内部歪が存在する。

【００３０】この様にして得られた２次成形品を再びガ
ラス転移温度域に昇温すると内部歪が緩和され、１次成
形時の分子鎖が平衡点に近い状態に回復し、１次成形品
の形状に回復するものである。この形状回復速度も可塑
剤の混合により促進される。

【００３１】また、本発明の使用方法においては可塑剤
を含有し、ガラス転移温度域を異にする２種以上の高分
子材料を含有しており、且つ相分離構造を有する高分子
材料組成物を、 ａ．各々のガラス転移温度域以上で１次成形し、冷却固
化した後、 ｂ．１次成形温度より低い温度であって、且つ各々の高
分子材料のガラス転移温度域において高温側から順次成
形を加え、 更に冷却し最終成形物を固定し、該成形物を徐々に昇温
し段階的に形状を回復させることもできる。

【００３２】本発明の形状記憶性高分子材料組成物の用
途は広範なものにおよび、例えばパイプや電線等の接合
部のシール材、パイプや棒状物体の内部及び外部ラミネ
ート材、締め付けピン等の建築、工作材料；包装材料；
携帯用容器、ベビーバス、鬘用毛髪などの日用雑貨；ギ
ブス、歯列矯正材、血管閉鎖等の医療具材；人形、ラジ
コンカー、怪獣等の玩具、文具、教材；婦人下着、ワイ
シャツ襟芯などの衣料部品、自動車部品、家電、事務
機、通信機として有用である。また、透明性を利用した
光学用部品としても有用であり、各種アクチュエータ
ー、センサーとしても有用である。

【００３３】これらは主に温度変化に伴う形状変化を直
接利用したものであるが、他に形状変化に伴う該組成物
の物性の変化を利用した用途も有用であり、例えば透明
性の変化及び誘電分極率の変化を利用したセンサーや記
録材料；屈折率の変化を利用したセンサーとしても使用
することができる。

【００３４】

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００３５】実施例１ ポリスチレン３ｇを溶媒テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
３０ｍｌに溶解後、可塑材としてフタル酸ジ（２−エチ
ルヘキシル）（ＤＯＰ）をポリスチレンに対して２０重
量％（６００ｍｇ）を混合し、充分溶解した後ＴＨＦを
蒸発させ高分子材料組成物を得た。

【００３６】得られた高分子材料組成物を小型成形機
（カスタム サイエンティフィックインステュルメント
社製）を用いて１８０℃で溶解し、小型金型内に射出成
形し、小試験片（３．２×３．２×３０ｍｍ）を得た。
該試験片を５０℃の温水中に数分間放置した後、試験片
の中心より１８０度折り曲げ、その形状を保持したまま
温水から取り出し冷却し２次成形形状の成形品を得た。
次いで該成形品を再び５０℃の温水に入れ１分間２次成
形形状を保持するよう力を加えた後、力を解放し、解放
後１分後及び５分後の変形の回復率の測定から回復性を
評価した。結果を第１表に示す。

【００３７】尚、変形の回復率は折り曲がり角度の測定
から求めた。また、回復性の評価は次の通りである。 ○：１分後の回復率が９０％以上 △：１分後の回復率が９０％未満でかつ５分後の回復率
が９０％以上 ×：５分後の回復率が５０％未満

【００３８】実施例２〜６３ 第１〜１４表に示す配合で実施例１と同様にして高分子
材料組成物を得た。得られた高分子材料組成物を小型成
形機（カスタム サイエンティフィック インステュル
メント社製）を用いて第１〜１４表に示した１次成形を
行なう温度で溶解し、小型金型内に射出成形して小試験
片（３．２×３．２×３０ｍｍ）とした。更に、第１表
〜第１５表に示す各温度の温水を用る他は、実施例１と
同様にして２次成形形状の成形品を得、回復性を評価し
た。 結果を第１〜１５表に示す。尚、表中の回復率及
び回復性の評価基準は実施例１の場合と同様である。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】

【表３】

【００４２】

【表４】

【００４３】

【表５】

【００４４】

【表６】

【００４５】

【表７】

【００４６】

【表８】

【００４７】

【表９】

【００４８】

【表１０】

【００４９】

【表１１】

【００５０】

【表１２】

【００５１】

【表１３】

【００５２】

【表１４】 （第１〜１４表において、ＰＳはポリスチレン（大日本
インキ化学工業社製「ＣＲ５６００」）、ＳＭＡＡはス
チレン−メタアクリル酸共重合体、ＰＣはポリカーボネ
ート（三菱化成社製「ノバレックス７０２５Ａ」）、Ｐ
ＶＤはポリ塩化ビニル（日本ゼオン社製「Ｂ８１５
２」）、ＰＭＭＡはポリメチルメタアクリレート（住友
化学社製「スミペックスＢ−ＭＨ（Ｆ）」）、ＭＳはス
チレン−メチメタアクリレート共重合体（新日鐵化学社
製「ＭＳ−６００」）、ＡＳはスチレン−アクリロニト
リル共重合体（サイエンティフィックポリマープロダク
ト社製）、ＡＢＳ：アクリロニトリル−ブタジエン−ス
チレン共重合体（サイエンティフィックポリマープロダ
クト社製）、ＰＶＦはポリビニルホルマール（サイエン
ティフィックポリマープロダクト社製）、ＥＶＡはエチ
レン−酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル８０重量％）、
ＰＶＡＣはポリ酢酸ビニル（サイエンティフィックポリ
マープロダクト社製）、ＤＣＰはフタル酸ジ（２−エチ
ルヘキシル）、ＴＣＰはリン酸トリクレジル、ＤＢＡは
アジピン酸ジ−ｎ−ブチル、ＰＣ／ＰＳは上記のポリカ
ーボネトとポリスチレンとの重量比１／１の混合物、Ｓ
ＭＡＡ／ＥＶＡは上記のスチレン−メタアクリル酸とエ
チレン−酢酸ビニル共重合体との重量比１／１の混合物
である。）

【００５３】

【発明の効果】本発明によれば、用いる高分子材料を特
に限定されず、極めて汎用な高分子材料を用いて、使用
する高分子材料の特性を保持し、更に形状記憶性を有す
る高分子材料組成物が得られ、しかも、使用する可塑剤
の量により２次成形温度を任意に調節することができ
る。

【００５４】従って、本発明の成形品は、建材、工作材
料、包装材料、日用雑貨、医療機器、玩具、文具、教
材、医療部品、自動車部品、家電、事務機、通信機器、
アクチュエーター、センサー、光学部品等の幅広い用途
に適用できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 101:00

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 可塑剤を含有する高分子材料組成物を、 ａ．１次成形し、固化した後、 ｂ．ガラス転移点温度域にて２次成形し、 次いで、冷却し２次成形形状に固定することを特徴とす
   る形状記憶性高分子材料組成物の成形品。
2. 【請求項２】 １次成形する温度よりも低い温度であっ
   て、且つガラス転移温度域で２次成形する請求項１記載
   の成形品。
3. 【請求項３】 可塑剤がリン酸エステル類、フタル酸エ
   ステル類、脂肪族一塩基酸類又は脂肪族二塩基酸エステ
   ル類である請求項１又は２記載の成形品。
4. 【請求項４】 可塑剤がリン酸トリクレジル、アジピン
   酸ジ−ｎ−ブチル又はフタル酸ジ−２−エチルヘキシル
   である請求項３記載の成形品。
5. 【請求項５】 ポリスチレンを必須成分とし、可塑剤を
   ５〜３０重量％含有する形状記憶性高分子材料組成物。
6. 【請求項６】 スチレン−メタクリル酸共重合体を必須
   成分とし、可塑剤を５〜５０重量％含有する形状記憶性
   高分子材料組成物。
7. 【請求項７】 ポリカーボネートを必須成分とし、可塑
   剤を１０〜５０重量％含有する形状記憶性高分子材料組
   成物。
8. 【請求項８】 スチレン−アクリロニトリル共重合体を
   必須成分とし、可塑剤を５〜４０重量％含有する形状記
   憶性高分子材料組成物。
9. 【請求項９】 スチレン−無水マレイン酸共重合体を必
   須成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有する形状記憶
   性高分子材料組成物。
10. 【請求項１０】 ポリメチルメタクリレートを主成分と
    し、可塑剤を６〜３５重量％含有する形状記憶性高分子
    材料組成物。
11. 【請求項１１】 スチレン−メチルメタクリレート共重
    合体を主成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有する形
    状記憶性高分子材料組成物。
12. 【請求項１２】 ブタジエン系単量体、スチレン系単量
    体、アクリロニトリル系単量体を含む混合物からなる共
    重合体を必須成分とし、可塑剤を５〜３５重量％含有す
    る形状記憶性高分子材料組成物。
13. 【請求項１３】 ポリ塩化ビニルを必須成分とし、可塑
    剤を０．５〜２５重量％含有する形状記憶性高分子材料
    組成物。
14. 【請求項１４】 ポリフェニレンエーテルを必須成分と
    し、可塑剤を２０〜５０重量％含有する形状記憶性高分
    子材料組成物。
15. 【請求項１５】 ポリ酢酸ビニルを必須成分とし、可塑
    剤を０．５〜２０重量％含有する形状記憶性高分子組成
    物。
16. 【請求項１６】 可塑剤がリン酸エステル類、フタル酸
    エステル類、脂肪族一塩基酸類又は脂肪族二塩基酸エス
    テル類である請求項５〜１５いずれか１つに記載の形状
    記憶性高分子材料組成物。
17. 【請求項１７】 可塑剤がリン酸トリクレジル、アジピ
    ン酸ジ−ｎ−ブチル又はフタル酸ジ−２−エチルヘキシ
    ルである請求項１６記載の形状記憶性高分子材料組成
    物。
18. 【請求項１８】 可塑剤を含有する高分子材料組成物
    を、 ａ．１次成形し、固化した後、 ｂ．ガラス転移点温度域にて２次成形し、 ｃ．冷却し２次成形形状に固定した後、 ガラス転移温度域まで昇温し、再び１次成形形状に回復
    させることを特徴とする形状記憶性高分子材料組成物か
    らなる成形品の使用方法。