JPH05150529A

JPH05150529A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH05150529A
Application number: JP31291091A
Authority: JP
Inventors: Eiichi Miyamoto; 栄一宮本; Yasuyuki Hanatani; 靖之花谷; Hiroaki Iwasaki; 宏昭岩崎; Yasushi Mizuta; 泰史水田; Arihiko Kawahara; 在彦川原
Original assignee: Mita Industrial Co Ltd
Current assignee: Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Priority date: 1991-11-28
Filing date: 1991-11-28
Publication date: 1993-06-18

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】高い感度を有し、且つ耐久性に優れた電子写
真感光体を提供する。【構成】導電性基材上に、下記一般式（Ｉ）で表され
るアゾ系化合物を含む感光層を設けた。〔式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して水素原子
または低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁴は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミ
ノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホキサイド基、Ａはア
クセプター性を有するカップラー残基を示す〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性基体上に有機感
光層が設けられている電子写真感光体に関し、詳しく
は、可視光領域全体にわたり高感度でかつ繰り返し特性
に優れた電子写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真用の有機感光体には、光照射に
より電荷を発生する電荷発生材料と、発生した電荷を輸
送する電荷輸送材料とを併用することにより、電荷発生
機能と電荷輸送機能とを分離した、いわゆる機能分離型
のものがある。この機能分離型の感光体としては、導電
性基体上に電荷発生材料および電荷輸送材料をそれぞれ
含有した感光層を形成する単層型と、導電性基体上に電
荷発生材料を含有する電荷発生層を形成し、さらに電荷
輸送材料を含有する電荷輸送層を積層したもの、または
電荷発生層の積層順序が逆になったものの積層型があ
る。

【０００３】上記の電荷発生材料としては、従来より、
インジゴ顔料、ペリレン顔料、カルバゾール系ジスアゾ
顔料、オキサゾール系ジスアゾ顔料等が使用されてい
る。しかし、上記のインジゴ顔料は、電荷発生効率が低
いために、この材料を電子写真感光体の電荷発生材料と
して使用した場合には、感度が悪く、また、感光波長領
域が狭かったり、近赤外領域に強い吸収を有するものが
多く、可視光領域全体にわたって感度が低く、繰り返し
特性が悪いという欠点があった。このため、例えば、カ
ラー画像を形成する感光体用に使用することができなか
った。

【０００４】そこで本出願人は、上記問題点を解決する
ために新しいアゾ系化合物を含有した電子写真感光体を
提案した。（特願平３─２３８３９１）

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
者らが鋭意研究の結果、電子密度分布の偏りが、電荷発
生効率の向上及び繰り返し安定性の向上に大きく影響す
ることを見出した。

【０００６】従って、本発明はさらに高い感度を有し、
かつ耐久性に優れる等、特性の向上した優れた電子写真
感光体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための、本発明の電子写真感光体は、導電性基材
上に、下記一般式(I) で表されるアゾ系化合物を含む感
光層を設けたことを特徴とする。

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立し
て水素原子または低級アルキル基表し、ｍおよびｎはそ
れぞれ独立して１または２を表し、Ｒ¹⁴は水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、
アミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホキサイド基を表
し、Ａはアクセプター性を有するカップラー残基を表
す。）本発明者らの検討によれば、上記一般式(I) で表される
ビスアゾ顔料は、下記式(II)

【００１０】

【化３】

【００１１】で表されるアクセプター性のコア部分と、
下記式(III)

【００１２】

【化４】

【００１３】で表される中程度のドナー性を示すカップ
ラー残基部分を固定し、これに対してもう一方のカップ
ラー残基としてのＡに強いアクセプター性を示すカップ
ラー残基を導入している為、その分子の電子密度分布に
偏りが生じ、感度の著しい向上が得られる。即ち、分子
の電子密度分布の偏りにより、励起状態での分子の分極
が大きくなり、顔料の内部分極の強さによる電荷発生効
率の向上と、電荷輸送物質との相互作用の増大による電
荷輸送物質へのキャリア注入効率の向上が得られるので
ある。

【００１４】上記一般式(I) で表されるアゾ系化合物
は、基本的に下記の一般式(Ia)で表されるビスアゾ系化
合物を含んでいる。

【００１５】

【化５】

【００１６】（式中、Ｒ¹⁴は前記と同じ基、Ａは前記と
同じカップラー残基を示す。）前記一般式(I) で表されるアゾ系化合物において、アク
セプター性を有するカップラー残基Ａとしては、下記一
般式(a) 〜(f) で表される基が例示される。

【００１７】

【化６】

【００１８】次に本発明を詳しく説明する。上記カップ
ラー残基Ａにおいて、Ｒ³は水酸基、−ＮＲ⁹Ｒ¹⁰ （式中、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は、それぞれ独立して水素原子
またはアルキル基を表す）または−ＮＨＳＯ₂Ｒ¹¹ （式中、Ｒ¹¹は、水素原子またはアルキル基、アルケニ
ル基またはアリール基を表す）を表す。

【００１９】Ｒ⁴は、ハロゲン原子、カルボキシル基、
スルファモイル基を表し、スルファモイル基は、カルボ
ニル基、カルボキシル基等の置換基を有していてもよ
い。Ｒ⁵は、Ｒ³およびＲ⁴を有するベンゼン環と縮合し
て芳香族環または脂肪族または複素環を形成するのに必
要な原子団を表し、これらの環は前記と同じ置換基を有
していてもよい。

【００２０】Ｒ⁷は、水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表し、アルキル基またはアリール基は、前記と
同様の置換基を有していてもよい。Ｒ⁸は、フェニレン
基またはナフチレン基を表し、これらは、前記と同様の
置換基を有していてもよい。

【００２１】前記アルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、プロピル、イソブチル、ペンチル、ヘキシ
ル等の炭素数が１〜６のアルキル基が挙げられる。前記
アルケニルとしては、例えば、ビニル、アリル、２−ブ
テニル、３−ブテニル、１−メチルアリル、２−ペニテ
ニル、２−ヘキセニル等の炭素数２〜６のアルケニル基
を例示できる。前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素が挙げられる。

【００２２】またＲ⁵において、Ｒ³およびＲ⁴を有する
ベンゼン環と縮合して脂肪族環を成する原子団として
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基などの炭素数１〜４のアルキレン基が挙げられる。ま
たＲ⁵において、Ｒ³および⁴を有するベンゼン環と縮合
して形成される複素環としては、ベンゾフラニル、ベン
ゾチオフェニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１Ｈ−インダゾリル、クロメニル、クロマニル、イ
ソクロマニル、ジベンゾフラニル、キサンテニル、アク
リジニル、フェナントリジニル、フェナンジニル、フェ
ナキサジニル、チアントレニル等が挙げられる。

【００２３】上記一般式(a) 〜(f) で表されるアクセプ
ター性を有するカップラー残基Ａの具体例としては、以
下のような強いアクセプター性を示すＣ１〜Ｃ４で表さ
れる基及び極めて強いアクセプター性を示すＤ１〜Ｄ３
で表される基があげられる。

【００２４】

【化７】

【００２５】前記一般式(I) で表される本発明のアゾ系
化合物は、下記一般式(IV)で表されるジアゾニウム塩を
中間体として経由する、種々の方法で合成することがで
きる。

【００２６】

【化８】

【００２７】（式中、Ｘは塩酸等のハロゲン化水素酸、
ホウフッ化水素酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、過塩酸そ
の他の酸の陰イオンを示す。）例えば、後述の方法により容易に製造することができ
る。

【００２８】式(IV)で示したテトラゾニウムジフルオロ
ボレイト０．００２ｍｏｌと式(III) で表されるカップ
ラー０．００２ｍｏｌをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
１００ｍｌ中に溶解し、これに酢酸ソーダ０．００２ｍ
ｏｌを水５ｍｌに溶解したものを１７℃〜２１℃に液温
を保ちながら５分間かけて滴下する。次いで３時間攪拌
した後、ＨＡ〔Ａは、前記一般式(I)中のカップラー残
基〕で表されるカップラー０．００２ｍｏｌを加え、こ
れに酢酸ソーダ０．００２ｍｏｌを水５ｍｌに溶解した
ものを先程と同様に滴下し、次いで更に３時間攪拌す
る。

【００２９】生成した沈澱物を濾過し、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド２００ｍｌで５回洗浄し、次いで水２０
０ｍｌで３回洗浄した後、減圧乾燥することにより本発
明のアゾ系化合物が得られる。

【００３０】本発明の電子写真感光体は、導電性基体上
に上記一般式（Ｉ）で表されるビスアゾ化合物を電荷発
生材料として含有する有機感光層を設けて構成されてい
る。上記有機感光層は、単層であってもよく、あるいは
複数層（例えば、電荷発生層と電荷輸送層）から形成さ
れていてもよい。さらに、上記有機感光層上に保護層が
設けられていてもよく、上記有機感光層と導電性基体と
の間に中間層が設けられていてもよい。上記ビスアゾ化
合物は、１種または２種以上を用いることができる。

【００３１】本発明において、前記一般式（Ｉ）で表さ
れるビスアゾ化合物以外に、電荷発生材料を含有しても
よく、例えば、セレン、セレン−テルル、アモルファス
シリコン、ピリリウム塩、従来より公知のビスアゾ化合
物、アンサンスロン系化合物、フタロシアニン系化合
物、インジゴ系化合物、トリフェニルメタン系化合物、
スレン系化合物、トルイジン系化合物、ピラゾリン系化
合物、ペリレン系化合物、キナクリドン系化合物等が挙
げられる。

【００３２】さらに、上記有機感光層には電荷輸送材料
が含有されてもよい。このような電荷輸送材料として
は、例えば、ｍ−フェニレンジアミン系化合物；テトラ
シアノエチレン；２，４，７，−トリニトロ−９−フル
オレノン等のフルオレノン系化合物；ジニトロアントラ
セン等のニトロ化化合物；無水コハク酸；無水マレイン
酸；ジブロモ無水マレイン酸；トリフェニルメタン系化
合物；２，５−ジ（４−ジメチルアミノフェニル）−
１，３，４，−オキサジアゾール等のオキサジアゾール
系化合物；９−（４−ジエチルアミノスチリル）アント
ラセン等のスチリル系化合物；ポリ−Ｎ−ビニルカルバ
ゾール等のカルバゾール系化合物；１−フェニル−３−
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン等のピラゾ
リン系化合物；４，４’，４’’，−トリス（Ｎ，Ｎ−
ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン等のアミン誘導
体；１，１−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−
４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエン等の共役不飽
和化合物；４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンズアル
デヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン
系化合物；インドール系化合物、オキサゾール系化合
物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、
チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラ
ゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系
化合物等の含窒素環式化合物；縮合多環族化合物等があ
げられる。

【００３３】上記ｍ−フェニレンジアミン系化合物とし
ては、次のような化合物が例示される。Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラフェニル−１，３−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−１，
３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
フェニル−３，５−トリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−３，５−トリレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−トリ
ル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラキス（４−トリル）−３，５−トリレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−エチル
フェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−プロピルフェニル）−
１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テ
トラフェニル−５−メトキシ−１，３−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ−ビス（３−トリル）−Ｎ’，Ｎ’−ジフ
ェニル−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス
（4-トリル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，３−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−トリル）−Ｎ，
Ｎ’−ビス（３−トリル）−１，３−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−トリル）−Ｎ，Ｎ’−ビス
（３−トリル）−３，５−トリレンジアミン、Ｎ，Ｎ’
−ビス（１−エチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−
エチルフェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（４−エチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ビス
（３−エチルフェニル）−３，５−トリレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２，４，６，−トリ
メチルフェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２，４，６，−トリメチ
ルフェニル）−３，５−トリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３，５−ジメチル）−１，３
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキ
ス（３，５−ジメチル）−３，５−トリレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３，５−ジエチル）
−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
テトラキス（３，５−ジメチル）−３，５−トリレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−クロロ
フェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−ブロモフェニル）−１，
３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
キス（３−ヨードフェニル）−１，３−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−フルオロ
フェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−トリル）−１，３−フェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２
−メトキシフェニル）−５−メチル−１，３−フェニレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ク
ロロフェニル）−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−アミノフェニル）−
５−メチル−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−５−メチル−
１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−ヘ
キサキス（４−トリル）−１，３，５，−ベンゼントリ
アミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリ
ル）−５−メトキシ−１，３−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−１，
３，５，−ベンゼントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
テトラキス（３−トリル）−５−アリル−１，３−フェ
ニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３
−トリル）−５−フェニル−１，３−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−
５−クロロ−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−５−ニトロ−
１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テ
トラキス（３−トリル）−５−スルホ−１，３−フェニ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−
トリル）−５−シアノ−１，３−フェニレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−５−
ホルミル−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（３−トリル）−５−アセチル
−１，３−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−
テトラキス（３−トリル）−５−カルボキシ−１，３−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス
（３−トリル）−５−エトキシカルボニル−１，３−フ
ェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−トリル）−
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，４，６，−トリメチルフェニル）
−１，３−フェニレンジアミン。

【００３４】上記有機感光層に含まれる結着樹脂として
は従来より感光体塗布液に使用されている全てのものが
使用可能であり、例えば、熱硬化性シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、硬化性アクリル樹脂、アク
リル変性ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、不飽和ポリエ
ステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フェノール樹
脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、
スチレン系重合体、アクリル系重合体、スチレン−アク
リル系重合体、ポリエチレン、エチレンー酢酸ビニル系
重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオ
ノマー等のオレフィン系重合体；ポリ塩化ビニル；塩化
ビニルー酢酸ビニル共重合体；ポリ酢酸ビニル；飽和ポ
リエステル；ポリアミド；熱可塑性ウレタン樹脂；ビス
フェノールＡ型、ビスフェノールＺ型等のポリカーボネ
ート；ポリアリレート；ポリスルホン；ケトン樹脂；ポ
リビニルブチラール樹脂；ポリエーテル樹脂、ポリビニ
ルカルバゾール等があげられる。有機感光層が複数層で
形成される場合には、上記結着樹脂は各層を形成するた
めに使用することができる。

【００３５】有機感光層が単層で形成される場合は、有
機感光層の膜厚は５〜１００μｍが好ましく、さらに好
ましくは１０〜５０μｍである。有機感光層が単層で形
成される場合、上記一般式（Ｉ）で表されるビスアゾ化
合物は有機感光層の結着樹脂１００重量部に対して０．
１〜１５重量部の範囲で含有されるのが好ましく、さら
に好ましくは０．５〜１０重量部である。上記ビスアゾ
化合物の含有量が０．１重量部未満の場合、感光体の感
度が低下する。逆に上記ビスアゾ化合物の含有量が１５
重量部を超える場合、電子写真感光体の耐摩耗性が低下
するおそれがある。

【００３６】有機感光層が電荷発生層と電荷輸送層とか
ら形成される場合は、電荷発生層の膜厚は０．０１〜３
μｍが好ましく、さらに好ましくは０．１〜２μｍであ
る。電荷輸送層の膜厚は２〜１００μｍが好ましく、さ
らに好ましくは５〜５０μｍである。

【００３７】有機感光層が電荷発生層と電荷輸送層とか
ら形成される場合、上記一般式（Ｉ）で表されるビスア
ゾ化合物は電荷発生層の結着樹脂１００重量部に対して
２０〜５００重量部の範囲で含有されるのが好ましく、
さらに好ましくは５０〜３００重量部である。上記ビス
アゾ化合物の含有量が２０重量部未満の場合、電荷発生
能が小さく、逆に上記ビスアゾ化合物の含有量が５００
重量部を超える場合、有機感光層の機械的強度が低下す
るおそれがある。

【００３８】また有機感光層には、酸化防止剤、クエン
チャー等の各種添加剤が含有されていてもよい。本発明
に使用される導電性基体は電子写真感光体が組み込まれ
る画像形成装置の機構、構造に対応してシート状あるい
はドラム状等適宜形状に形成される。導電性基体として
は、その全体を金属等の導電性材料で形成してもよく、
あるいは基材は導電性を有していない材料で形成し、そ
の表面に導電性を有する材料を設けてもよい。上記導電
性材料としては、例えば、表面がアルマイト処理され
た、または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、
金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウ
ム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステ
ンレス鋼、真鍮等があげられ、特に硫酸アルマイト法に
よる陽極酸化を行い、酢酸ニッケルで封止処理したアル
ミニウムが好ましく用いられる。導電性を有していない
材料からなる基材の表面に導電性材料を設けて形成され
る導電性基体の場合には、合成樹脂製基材やガラス基材
の表面に、上記例示の金属やヨウ化アルミニウム、酸化
スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる薄膜が、
真空蒸着法、湿式メッキ法等公知の膜形成方法によって
形成されたもの、上記基材の表面に上記金属材料等のフ
ィルムがラミネートされたもの、上記基材の表面に導電
性を付与する物質が注入されたもの等を採用することが
できる。導電性基材は、必要に応じてシランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤等の表面処理剤で表面処理
を施し、有機感光層との密着性を高めてもよい。

【００３９】本発明の電子写真感光体は、例えば、少な
くとも結着樹脂と上記一般式（Ｉ）で表されるビスアゾ
化合物を溶媒または分散媒としてのテトラヒドロフラン
等に分散させた塗布液を、スプレーコーティング法、デ
ィッピング法、フローコーティング法等の通常の塗布方
法によって導電性基体上に塗布して有機感光層を形成す
ることにより作成することができる。有機感光層中に含
まれるテトラヒドロフランの残存量を低減するために熱
処理するのが好ましく、例えば、上記塗布液が塗布され
た導電性基体を１２０℃以上の温度で３０分以上加熱処
理することが好ましい。熱処理温度が上記条件を下回る
場合にはテトラヒドロフランの残存量を充分低減するこ
とができないおそれがある。

【００４０】なお、上記塗布液に使用する溶媒または分
散媒としては、テトラヒドロフランの他に他の溶媒また
は分散媒を単独でまたはテトラヒドロフランと併用する
ことができる。

【００４１】そのような溶媒または分散媒としては、例
えば、次のものがあげられる。ｎ−ヘキサン、オクタ
ン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素；ベンゼン、キ
シレン、トルエン等の芳香族炭化水素；ジクロロメタ
ン、四塩化炭素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハ
ロゲン化炭化水素；メチルアルコール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、シク
ロペンタノール、ベンジルアルコール、フルフリルアル
コール、ジアセトンアルコール等のアルコール類；ジメ
チルエーテル、ジエチルエーテル、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；ジメチル
ホルムアミド；ジメチルスルホキシド等。

【００４２】塗布液は、従来公知の方法、例えば、ミキ
サー、ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、
アトライター、超音波分散機等を用いて調製することが
できる。上記塗布液を調製する際には、分散性、塗工性
等を向上させるために、界面活性剤やレベリング剤等を
添加してもよい。

【００４３】

【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。実施例１〜７電荷発生材料として、前記一般式(Ia)に示されるアゾ系
化合物（カップラー残基Ａと、Ｒ¹⁴の導入装置及び種類
は表１に具体的に記載）を使用して、以下の手順で、単
層型及び積層型の感光体を作成した。

【００４４】単層型電子写真感光体の作成電荷発生材料として、アゾ系化合物８重量部、電荷輸送
材料として、３，３’−ジメチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラキス−４−メチルフェニル−（１，１’−ビス
フェニル）−４，４’−ジアミン１００重量部および結
着樹脂としてポリエステル１００重量部を所定量のテト
ラヒドロフランに加えてボールミルにて混合分散し、単
層型感光層用塗布液を調製した。この塗布液をアルミニ
ウム素管上に塗布した後、暗所にて１００℃で３０分間
乾燥させることにより、厚み２４μｍの感光層を有する
単層型の電子写真感光体を作成した。

【００４５】積層型電子写真感光体の作成結着樹脂として、ポリビニルブチラール１００重量部、
電荷発生材料として表８に示す化合物１００重量部およ
び所定量のテトラヒドロフランをボールミルに仕込み、
２４時間攪拌混合して電荷発生層用塗布液を調製し、こ
の調製液をアルミニウム素管上に浸漬法によって塗布
し、１１０℃で３０分間熱風乾燥して硬化させることに
より膜厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。

【００４６】次いで、結着樹脂として、ポリカーボネー
ト樹脂１００重量部、電荷輸送材料として、３，３’−
ジメチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス−４−メチ
ルフェニル−（１，１’−ビスフェニル）−４，４’−
ジアミン１００重量部および所定量のトルエンをホモミ
キサーで攪拌混合して電荷輸送層用塗布液を調製し、こ
の調製液を上記の電荷発生層上に浸漬法によって塗布
し、９０℃で３０分間熱風乾燥することにより膜厚２０
μｍの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作成し
た。

【００４７】比較例１〜５電荷発生材料として、下記一般式(V) で表されるビスア
ゾ系化合物を使用したこと以外は、上記実施例１と同様
にして、単層型および積層型の感光体を作成した。な
お、カップラー残基Ｂの具体例としては下記のようなＥ
１〜Ｅ５で表される基が上げられ、使用した基は表２に
示した。

【００４８】

【化９】

【００４９】（式中、Ｂはカップラー残基を示す）

【００５０】

【化１０】

【００５１】比較例６〜８電荷発生材料として、下記一般式（Ｉｂ）で表されるア
ゾ系化合物を使用したこと以外は、上記実施例１と同様
にして、単層型および積層型の感光体を作成した。な
お、カップラー残基Ｃの具体例としては下記のようなＥ
３，Ｅ５，Ｅ６で表される基が挙げられ、使用した基は
表２に示した。

【００５２】

【化１１】

【００５３】（式中、Ｃはカップラー残基を示す）

【００５４】

【化１２】

【００５５】上記各実施例、比較例の電子写真感光体に
ついて、以下の試験を行い、その特性を評価した。実施
例および比較例で得られた単層型および積層型電子写真
感光体について初期表面電位Ｖsp、半減露光量Ｅ1/2、
残留電位Ｖrpおよび繰り返し特性△ｓｐを測定した。そ
の結果を表１・表２に示す。 1)初期表面電位Ｖspの測定各電子写真感光体を静電複写試験装置（ジェンテック社
製、ジェンテックシンシア３０Ｍ）に充填し、その表面
を正または負に帯電させて、各感光体の表面電位Ｖsp
（Ｖ）を測定した。 2)半減露光量Ｅ1/2および残留電位Ｖrpの測定上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験
装置の露光光源であるハロゲンランプを用いて露光強度
１０ルックスで露光させ、表面電位Ｖspが１／２となる
までの時間を求め、半減露光量Ｅ1/2（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）を算出した。また、上記露光開始から０．５秒を経
過した後の表面段位を残留電位Ｖrp（Ｖ）とした。 3)繰り返し特性△ｓｐ各電子写真感光体を複写機（ＤＣ−１１１三田工業製）
を用い、５００回繰り返て使用した後のＶspを測定し、
その変化量を求めた。但し、表面電位は表面電位計（Ｍ
ＯＮＲＯＥ社製ＭＯＤＥＬ２２４）を用いて測定し
た。

【００５６】

【表１】

【００５７】

【表２】

【００５８】表１、２より、実施例の電子写真感光体
は、比較例の電子写真感光体と比べて、単層型および積
層型の何れのものも、高感度であり、かつ繰り返し特性
に優れていることがわかる。

【００５９】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
電子写真感光体によれば、可視光領域において高感度で
あり、かつ繰り返し特性に優れた電子写真感光体を提供
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者水田泰史大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号三田工業株式会社内 (72)発明者川原在彦大阪府大阪市中央区玉造１丁目２番28号三田工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性基体上に、下記一般式（Ｉ）で表さ
れるアゾ系化合物を含む感光層を設けたことを特徴とす
る感光体。【化１】（式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して水素原子ま
たは低級アルキル基表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立し
て１または２を表し、Ｒ¹⁴は水素原子、ハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基、シ
アノ基、ニトロ基、スルホキサイド基を表し、Ａはアク
セプター性を有するカップラー残基を表す。）