JPH05156128A - 高絶縁性ソルダーレジスト組成物 - Google Patents
高絶縁性ソルダーレジスト組成物Info
- Publication number
- JPH05156128A JPH05156128A JP34775291A JP34775291A JPH05156128A JP H05156128 A JPH05156128 A JP H05156128A JP 34775291 A JP34775291 A JP 34775291A JP 34775291 A JP34775291 A JP 34775291A JP H05156128 A JPH05156128 A JP H05156128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder resist
- resistance
- epoxy resin
- maleic anhydride
- styrene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 claims description 7
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 10
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 8
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 abstract description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 15
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;styrene Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1.C=CC1=CC=CC=C1 WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 heat resistance Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACUUVWABACRCCZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethyl-1h-imidazol-5-yl)propanenitrile Chemical compound CCC1=NC=C(C(C)C#N)N1 ACUUVWABACRCCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDQCONAKTCBAMG-UHFFFAOYSA-N 2-pentadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 SDQCONAKTCBAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylimidazol-1-yl)propanenitrile Chemical compound N#CCCN1C=CN=C1C1=CC=CC=C1 BVYPJEBKDLFIDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱硬化型ソルダーレジストインキの耐熱
性、耐薬品性、密着性、耐メッキ性等の諸特性を低下さ
せることなく、電気特性(絶縁抵抗、電蝕性等)の劣化
が極めて少なく、さらに、作業性の向上した高絶縁性ソ
ルダーレジスト組成物を提供する。 【構成】 (A)スチレン単位と無水マレイン酸単位と
の共重合割合が1〜3対1である、分子量が1000〜
5000のスチレン−無水マレイン酸共重合体、(B)
一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂
および(C)エポキシ樹脂硬化促進剤からなる高絶縁性
ソルダーレジスト組成物。
性、耐薬品性、密着性、耐メッキ性等の諸特性を低下さ
せることなく、電気特性(絶縁抵抗、電蝕性等)の劣化
が極めて少なく、さらに、作業性の向上した高絶縁性ソ
ルダーレジスト組成物を提供する。 【構成】 (A)スチレン単位と無水マレイン酸単位と
の共重合割合が1〜3対1である、分子量が1000〜
5000のスチレン−無水マレイン酸共重合体、(B)
一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂
および(C)エポキシ樹脂硬化促進剤からなる高絶縁性
ソルダーレジスト組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板上の導
体パターンの絶縁保護のために使用する高絶縁性ソルダ
ーレジスト組成物に関する。
体パターンの絶縁保護のために使用する高絶縁性ソルダ
ーレジスト組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、産業用、民生用共に電子機器の小
形化等に伴い、プリント配線基板も短小軽薄化が要求さ
れ、導電体パターンの多層化、細線化、高密度化が急速
に進んでいる。それに伴い、プリント配線板に対して、
高精度のものが要求されるようになってきている。なか
でも、電気的信頼性に対する要求は、特に重要性を増し
ている。また、一方では、大量消費化が進み、生産性の
面から、生産効率の良いプリント配線板の製造法の要求
も高まっている。
形化等に伴い、プリント配線基板も短小軽薄化が要求さ
れ、導電体パターンの多層化、細線化、高密度化が急速
に進んでいる。それに伴い、プリント配線板に対して、
高精度のものが要求されるようになってきている。なか
でも、電気的信頼性に対する要求は、特に重要性を増し
ている。また、一方では、大量消費化が進み、生産性の
面から、生産効率の良いプリント配線板の製造法の要求
も高まっている。
【0003】ところで、従来、プリント配線板の製造過
程において、導体回路等が、半田によって短絡すること
を防止するために、半田付けに必要な個所以外をソルダ
ーレジストで被覆することが行われている。その際使用
するレジストインキとしては、耐熱性、耐薬品性、密着
性、耐メッキ性等の諸特性が優れているために、熱硬化
型ソルダーレジストインキが繁用されている。
程において、導体回路等が、半田によって短絡すること
を防止するために、半田付けに必要な個所以外をソルダ
ーレジストで被覆することが行われている。その際使用
するレジストインキとしては、耐熱性、耐薬品性、密着
性、耐メッキ性等の諸特性が優れているために、熱硬化
型ソルダーレジストインキが繁用されている。
【0004】しかしながら、従来の熱硬化型ソルダーレ
ジストインキは、硬化成分として、エポキシ樹脂、アミ
ン系硬化剤、イミダゾール系硬化触媒などが主に使用さ
れているが、エポキシ樹脂に含有されているPPMオー
ダーの極微量の加水分解性塩素化物やアミン系硬化剤等
が、電気的信頼性に対して著しく悪影響を及ぼすという
欠点がある。また、熱硬化型ソルダーレジストインキ
は、基板の両面に塗布する場合、指触乾燥性が悪く作業
性が劣ると言う欠点もある。
ジストインキは、硬化成分として、エポキシ樹脂、アミ
ン系硬化剤、イミダゾール系硬化触媒などが主に使用さ
れているが、エポキシ樹脂に含有されているPPMオー
ダーの極微量の加水分解性塩素化物やアミン系硬化剤等
が、電気的信頼性に対して著しく悪影響を及ぼすという
欠点がある。また、熱硬化型ソルダーレジストインキ
は、基板の両面に塗布する場合、指触乾燥性が悪く作業
性が劣ると言う欠点もある。
【0005】上記の様に、熱硬化型ソルダーレジストイ
ンキは、耐熱性、耐薬品性、密着性および耐メッキ性
等、ソルダーレジストインキとしては、極めて優れた性
質を有しているにもかかわらず、電気特性および生産効
率において、プリント配線板における時代の要請に応え
られないのが実情であった。
ンキは、耐熱性、耐薬品性、密着性および耐メッキ性
等、ソルダーレジストインキとしては、極めて優れた性
質を有しているにもかかわらず、電気特性および生産効
率において、プリント配線板における時代の要請に応え
られないのが実情であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の熱硬
化型ソルダーレジストインキにおける上記した欠点を克
服するためになされたものでである。即ち、本発明の目
的は、熱硬化型ソルダーレジストインキの耐熱性、耐薬
品性、密着性、耐メッキ性等の諸特性を低下させること
なく、電気特性(絶縁抵抗、電蝕性等)の劣化が極めて
少なく、さらに、作業性の向上した高絶縁性ソルダーレ
ジスト組成物を提供することにある。
化型ソルダーレジストインキにおける上記した欠点を克
服するためになされたものでである。即ち、本発明の目
的は、熱硬化型ソルダーレジストインキの耐熱性、耐薬
品性、密着性、耐メッキ性等の諸特性を低下させること
なく、電気特性(絶縁抵抗、電蝕性等)の劣化が極めて
少なく、さらに、作業性の向上した高絶縁性ソルダーレ
ジスト組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の熱硬
化型ソルダーレジストインキにおける上記した欠点を克
服すべく、鋭意検討した結果、スチレンと無水マレイン
酸との共重合体を用いれば、上記本発明の目的を達成で
きることを見出だし、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物は、
(A)スチレン単位と無水マレイン酸単位との共重合割
合が1〜3対1である、分子量が1000〜5000の
スチレン−無水マレイン酸共重合体、(B)一分子中に
2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂および
(C)エポキシ樹脂硬化促進剤からなることを特徴とす
る。
化型ソルダーレジストインキにおける上記した欠点を克
服すべく、鋭意検討した結果、スチレンと無水マレイン
酸との共重合体を用いれば、上記本発明の目的を達成で
きることを見出だし、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物は、
(A)スチレン単位と無水マレイン酸単位との共重合割
合が1〜3対1である、分子量が1000〜5000の
スチレン−無水マレイン酸共重合体、(B)一分子中に
2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂および
(C)エポキシ樹脂硬化促進剤からなることを特徴とす
る。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。上記本発
明において、(A)成分であるスチレン−無水マレイン
酸との共重合体は、分子量が、1000〜5000で、
スチレン単位と無水マレイン酸単位の共重合割合が、1
〜3対1のものである。特に、次の一般式で示されるも
のが好ましい。
明において、(A)成分であるスチレン−無水マレイン
酸との共重合体は、分子量が、1000〜5000で、
スチレン単位と無水マレイン酸単位の共重合割合が、1
〜3対1のものである。特に、次の一般式で示されるも
のが好ましい。
【0009】
【化1】 (式中、mは1〜3であり、nは5〜12である。具体
的には、例えば、SMA−1000、SMA−200
0、SMA−3000(アーコ・ケミカル社製)があげ
られる。
的には、例えば、SMA−1000、SMA−200
0、SMA−3000(アーコ・ケミカル社製)があげ
られる。
【0010】また、(B)成分であるエポキシ樹脂は、
公知のエポキシ樹脂であれば、全て使用可能である。具
体的には、ビスフェノール系のエピコート828、10
01、807(以上、油化シェル社製)、フェノールノ
ボラック型のDEN−431、438(以上、ダウ・ケ
ミカル社製)、エピクロンN−770(大日本インキ化
学工業社製)、クレゾールノボラック型のエピクロンN
−695(大日本インキ化学工業社製)、EOCN−2
20HH(日本化薬社製)、脂環型のアラルダイトCY
−175(チバガイギー社製)等があげられる。
公知のエポキシ樹脂であれば、全て使用可能である。具
体的には、ビスフェノール系のエピコート828、10
01、807(以上、油化シェル社製)、フェノールノ
ボラック型のDEN−431、438(以上、ダウ・ケ
ミカル社製)、エピクロンN−770(大日本インキ化
学工業社製)、クレゾールノボラック型のエピクロンN
−695(大日本インキ化学工業社製)、EOCN−2
20HH(日本化薬社製)、脂環型のアラルダイトCY
−175(チバガイギー社製)等があげられる。
【0011】(A)成分および(B)成分の配合量は、
(A)成分の酸無水物1モルに対してエポキシ基1〜5
モルである。特に、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂を使用した場合、(A)成分の酸無水物1モルに対し
てエポキシ基1〜5モルであり、2〜3モルに設定する
ことが特に好ましい。(A)成分の酸無水物1モルに対
してエポキシ基が1モル以下であると(A)成分のカル
ボキシ基が未反応で多量に残り、電気特性(絶縁抵抗、
電蝕性等)の向上が見られない。 また、逆に、5モル
以上であると、(B)成分のエポキシ樹脂中のエポキシ
基が未反応で多量に残り、耐熱性、耐薬品性、密着性、
耐メッキ性等を低下させる要因となるので、いずれも好
ましくない。
(A)成分の酸無水物1モルに対してエポキシ基1〜5
モルである。特に、フェノールノボラック型エポキシ樹
脂を使用した場合、(A)成分の酸無水物1モルに対し
てエポキシ基1〜5モルであり、2〜3モルに設定する
ことが特に好ましい。(A)成分の酸無水物1モルに対
してエポキシ基が1モル以下であると(A)成分のカル
ボキシ基が未反応で多量に残り、電気特性(絶縁抵抗、
電蝕性等)の向上が見られない。 また、逆に、5モル
以上であると、(B)成分のエポキシ樹脂中のエポキシ
基が未反応で多量に残り、耐熱性、耐薬品性、密着性、
耐メッキ性等を低下させる要因となるので、いずれも好
ましくない。
【0012】更に、(C)成分であるエポキシ樹脂硬化
促進剤としては、ジシアンジアミド、ジシアンジアミド
誘導体、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミ
ダゾール、2−ペンタデシルイミダゾール、2−エチル
−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾー
ル、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シア
ノエチル−2−エチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール誘導体が
あげられる。使用に当たっては、ジシアンジアミド単独
でもよいが、イミダゾール誘導体と併用してもよい。こ
の場合、ジシアンジアミドと2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール(以上、四国化成工業社製)との併用が特に
好ましい。使用量は、(B)成分100重量部に対し
て、ジシアンジアミド0〜20重量部、好ましくは、
2.5〜10重量部であり、イミダゾール誘導体で0〜
10重量部、好ましくは1〜5重量部である。
促進剤としては、ジシアンジアミド、ジシアンジアミド
誘導体、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミ
ダゾール、2−ペンタデシルイミダゾール、2−エチル
−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾー
ル、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シア
ノエチル−2−エチルイミダゾール、1−シアノエチル
−2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール誘導体が
あげられる。使用に当たっては、ジシアンジアミド単独
でもよいが、イミダゾール誘導体と併用してもよい。こ
の場合、ジシアンジアミドと2−エチル−4−メチルイ
ミダゾール(以上、四国化成工業社製)との併用が特に
好ましい。使用量は、(B)成分100重量部に対し
て、ジシアンジアミド0〜20重量部、好ましくは、
2.5〜10重量部であり、イミダゾール誘導体で0〜
10重量部、好ましくは1〜5重量部である。
【0013】また、本発明の組成物には、必要に応じ
て、密着性を向上させるために、密着性向上剤、例え
ば、ベンゾトリアゾール等、印刷を改善するためのチキ
ソトロピー性付与剤、シリコン等の消泡剤、レベリング
剤等のほか、無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤およ
びシリカ、タルク、硫酸バリウム等の無機充填剤等を添
加することができる。
て、密着性を向上させるために、密着性向上剤、例え
ば、ベンゾトリアゾール等、印刷を改善するためのチキ
ソトロピー性付与剤、シリコン等の消泡剤、レベリング
剤等のほか、無機顔料、有機顔料、染料等の着色剤およ
びシリカ、タルク、硫酸バリウム等の無機充填剤等を添
加することができる。
【0014】更にまた、組成物を塗布しやすい適当な粘
度に調整するために、溶剤、例えば、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系;カルビトール
アセテート、ブチルカルビトールアセテート等のカルビ
トール系;ジエチレングリコールジエチルエーテル等の
エーテル系等の高・中沸点溶剤を加えることができる。
度に調整するために、溶剤、例えば、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系;カルビトール
アセテート、ブチルカルビトールアセテート等のカルビ
トール系;ジエチレングリコールジエチルエーテル等の
エーテル系等の高・中沸点溶剤を加えることができる。
【0015】
【作用】本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物は、
スチレンと無水マレイン酸との共重合体を構成成分とす
ることにより、絶縁性等の電気特性を劣化させることな
く、かつ、耐金メッキ性はもとより、数分間でBステー
ジへ移行するので、指触乾燥が優れ、液状エポキシ樹脂
成分を含有することによってもブリード(液状エポキシ
樹脂の沁み出し)の発生を確実に抑えることができる。
また、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物は、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体を含有することにより
アルカリ溶解性を有し、ソルダーレジスト塗布機(印刷
スクリーン)の洗浄に有機溶剤を使用することなくアル
カリ水溶液(NaOH、Na2 CO3 等)でもソルダー
レジストの洗浄が可能になる。
スチレンと無水マレイン酸との共重合体を構成成分とす
ることにより、絶縁性等の電気特性を劣化させることな
く、かつ、耐金メッキ性はもとより、数分間でBステー
ジへ移行するので、指触乾燥が優れ、液状エポキシ樹脂
成分を含有することによってもブリード(液状エポキシ
樹脂の沁み出し)の発生を確実に抑えることができる。
また、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物は、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体を含有することにより
アルカリ溶解性を有し、ソルダーレジスト塗布機(印刷
スクリーン)の洗浄に有機溶剤を使用することなくアル
カリ水溶液(NaOH、Na2 CO3 等)でもソルダー
レジストの洗浄が可能になる。
【0016】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、「部」は、特に断りがない限り重量部を意味
する。 実施例1〜14および比較例1〜3 下記表1および2に示される成分および量(数字は部を
示す)を用い、各成分を混合し、得られた混合物を、3
本ロールによって、十分混練し、レジストインキ組成物
を得た。
る。なお、「部」は、特に断りがない限り重量部を意味
する。 実施例1〜14および比較例1〜3 下記表1および2に示される成分および量(数字は部を
示す)を用い、各成分を混合し、得られた混合物を、3
本ロールによって、十分混練し、レジストインキ組成物
を得た。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】
【0019】なお、上記表1〜2中、商標名で記載され
たもの、ジシアンジアミド誘導体およびジシアンジア
ミド誘導体は、次に記載する物質を意味する。 SMA−3000:アーコ・ケミカル社製の無水マレイ
ン酸−スチレン共重合体 DEN−438:ダウ・ケミカル社製のフェノルノボラ
ック型エポキシ樹脂 ジシアンジアミド誘導体:ジシアンジアミドフェニル
グリシジルエーテルアダクト(三井石油化学社製) ジシアンジアミド誘導体:ジシアンジアミドアニリン
変性物(ノクセラーBG大内振興化学社製) J−67:ジョンソン・ポリマー社製のスチレン−アク
リル酸共重合体
たもの、ジシアンジアミド誘導体およびジシアンジア
ミド誘導体は、次に記載する物質を意味する。 SMA−3000:アーコ・ケミカル社製の無水マレイ
ン酸−スチレン共重合体 DEN−438:ダウ・ケミカル社製のフェノルノボラ
ック型エポキシ樹脂 ジシアンジアミド誘導体:ジシアンジアミドフェニル
グリシジルエーテルアダクト(三井石油化学社製) ジシアンジアミド誘導体:ジシアンジアミドアニリン
変性物(ノクセラーBG大内振興化学社製) J−67:ジョンソン・ポリマー社製のスチレン−アク
リル酸共重合体
【0020】得られたレジストインキ組成物の評価は、
次のようにして行った。即ち、両面銅張りのガラス繊維
強化エポキシ樹脂積層板の両面に、常法により回路パタ
ーンを形成し、酸処理、パフ研磨、水洗および乾燥を行
った。このエポキシ樹脂板の一面に、レジストインキを
スクリーン印刷法により膜厚10μm〜30μmになる
ように塗布し、140℃、60分、加熱硬化した後、他
の一面に、同様にしてレジストインキを塗布し、加熱硬
化して、試験片を作製した。
次のようにして行った。即ち、両面銅張りのガラス繊維
強化エポキシ樹脂積層板の両面に、常法により回路パタ
ーンを形成し、酸処理、パフ研磨、水洗および乾燥を行
った。このエポキシ樹脂板の一面に、レジストインキを
スクリーン印刷法により膜厚10μm〜30μmになる
ように塗布し、140℃、60分、加熱硬化した後、他
の一面に、同様にしてレジストインキを塗布し、加熱硬
化して、試験片を作製した。
【0021】得られた試験片について、塗膜の特性評価
を行った。その結果を表3および4に示す。なお、試験
条件および評価基準は、次の通りである。
を行った。その結果を表3および4に示す。なお、試験
条件および評価基準は、次の通りである。
【0022】体積抵抗 常態での測定値。
【0023】体積抵抗 高温高湿器にて、65℃、相対湿度95%の雰囲気中で
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定値。
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定値。
【0024】銅箔の変色 高温高湿器にて、65℃、相対湿度95%の雰囲気中で
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定結果を示すもので、変色がないものを○、やや
黒変したものを△、黒変したものは×とした。
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定結果を示すもので、変色がないものを○、やや
黒変したものを△、黒変したものは×とした。
【0025】マイグレーションの発生 高温高湿器にて、65℃、相対湿度95%の雰囲気中で
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定結果を示すもので、発生のないものを○、やや
発生を△、多量に発生したものは×とした。
直流50V印加の下に、試験片を2000時間保持した
後の測定結果を示すもので、発生のないものを○、やや
発生を△、多量に発生したものは×とした。
【0026】金めっき耐性(無電解めっき) 無電解ニッケルめっき液(85℃、30分)(3μ
m)、無電解金めっき液(95℃、30分)(0.5μ
m)に浸漬してめっきした。その後、セロテープ剥離試
験を行った。剥離なしを○、剥離したものは×とした。
m)、無電解金めっき液(95℃、30分)(0.5μ
m)に浸漬してめっきした。その後、セロテープ剥離試
験を行った。剥離なしを○、剥離したものは×とした。
【0027】半田耐性 ロジン系フラックスを塗布して、260℃の溶融半田に
1分間浸漬した後、セロテープ剥離試験を行った。剥離
なしを○、剥離したものは×とした。
1分間浸漬した後、セロテープ剥離試験を行った。剥離
なしを○、剥離したものは×とした。
【0028】タックフリー性 熱風循環式ボックス乾燥機140℃において、第1塗布
面が、第2回塗布可能な指触性および硬度になる状態を
言う。試験は、2分、5分および10分について
行った。ベタ付きなしを○、ややベタ付きありを△、ベ
タ付きありは×とした。
面が、第2回塗布可能な指触性および硬度になる状態を
言う。試験は、2分、5分および10分について
行った。ベタ付きなしを○、ややベタ付きありを△、ベ
タ付きありは×とした。
【0029】
【表3】
【0030】
【表4】 上記した結果から明らかのように、スチレン−無水マレ
イン酸共重合体をソルダーレジストに含有することによ
り電気特性(絶縁抵抗、電蝕性)が著しく向上すること
が分る。
イン酸共重合体をソルダーレジストに含有することによ
り電気特性(絶縁抵抗、電蝕性)が著しく向上すること
が分る。
【0031】
【発明の効果】本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成
物は、スチレン−無水マレイン酸共重合体をソルダーレ
ジストの成分とすることにより、耐熱性、耐薬品性、密
着性、耐金めっき性等が得られ、また、絶縁性等の電気
特性の劣化のない極めて高い信頼性を得ることができ
る。また、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物
は、スチレン−無水マレイン酸共重合体を含有するた
め、アルカリ溶解性を有し、ソルダーレジスト塗布機
(印刷スクリーン)の洗浄に有機溶剤を使用することな
く、アルカリ水溶液でソルダーレジストの洗浄が可能で
あるため、環境汚染を起こすことがない。
物は、スチレン−無水マレイン酸共重合体をソルダーレ
ジストの成分とすることにより、耐熱性、耐薬品性、密
着性、耐金めっき性等が得られ、また、絶縁性等の電気
特性の劣化のない極めて高い信頼性を得ることができ
る。また、本発明の高絶縁性ソルダーレジスト組成物
は、スチレン−無水マレイン酸共重合体を含有するた
め、アルカリ溶解性を有し、ソルダーレジスト塗布機
(印刷スクリーン)の洗浄に有機溶剤を使用することな
く、アルカリ水溶液でソルダーレジストの洗浄が可能で
あるため、環境汚染を起こすことがない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/28 C 6736−4E
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)スチレン単位と無水マレイン酸と
の共重合割合が1〜3対1である、分子量が1000〜
5000のスチレン−無水マレイン酸共重合体、(B)
一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂
および(C)エポキシ樹脂硬化促進剤からなることを特
徴とする高絶縁性ソルダーレジスト組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34775291A JPH05156128A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高絶縁性ソルダーレジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34775291A JPH05156128A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高絶縁性ソルダーレジスト組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05156128A true JPH05156128A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18392344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34775291A Withdrawn JPH05156128A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高絶縁性ソルダーレジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05156128A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779342A1 (fr) * | 1995-12-14 | 1997-06-18 | Coatex S.A. | Utilisation de copolymères de styrène et d'anhydride maléique comme agents dispersants et/ou de traitement de charges minérales. Compositions thermoplastiques les contenant |
| WO2001059002A1 (en) * | 2000-02-14 | 2001-08-16 | Resolution Research Nederland B.V. | Halogen-free phosphorous-containing flame-resistant epoxy resin compositions |
| JP2006515030A (ja) * | 2002-11-26 | 2006-05-18 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | エポキシ樹脂用硬化剤組成物 |
| JP4968257B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-07-04 | 住友ベークライト株式会社 | ソルダーレジスト材料及びそれを用いた配線板並びに半導体パッケージ |
| JP2016160420A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | Jnc株式会社 | 熱硬化性組成物、硬化膜、硬化膜付基板、電子部品および表示装置 |
-
1991
- 1991-12-04 JP JP34775291A patent/JPH05156128A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0779342A1 (fr) * | 1995-12-14 | 1997-06-18 | Coatex S.A. | Utilisation de copolymères de styrène et d'anhydride maléique comme agents dispersants et/ou de traitement de charges minérales. Compositions thermoplastiques les contenant |
| FR2742446A1 (fr) * | 1995-12-14 | 1997-06-20 | Coatex Sa | Utilisation de copolymeres de styrene et d'anhydride maleique comme agents dispersants et/ou de traitement de charges minerales. compositions thermoplastiques les contenant |
| WO2001059002A1 (en) * | 2000-02-14 | 2001-08-16 | Resolution Research Nederland B.V. | Halogen-free phosphorous-containing flame-resistant epoxy resin compositions |
| JP2006515030A (ja) * | 2002-11-26 | 2006-05-18 | ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド | エポキシ樹脂用硬化剤組成物 |
| JP4968257B2 (ja) * | 2006-04-28 | 2012-07-04 | 住友ベークライト株式会社 | ソルダーレジスト材料及びそれを用いた配線板並びに半導体パッケージ |
| JP2016160420A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | Jnc株式会社 | 熱硬化性組成物、硬化膜、硬化膜付基板、電子部品および表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO2001053890A1 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2001228606A (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物及びプリント配線板 | |
| US5412002A (en) | Composition of glycidylated phenol/vinylcyclohexene or vinylnorbornene resin | |
| JPS6210567B2 (ja) | ||
| JPH05156128A (ja) | 高絶縁性ソルダーレジスト組成物 | |
| JPH04355450A (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
| JPH101596A (ja) | 多層プリント配線板用層間電気絶縁材料 | |
| JPH05158240A (ja) | フォトソルダーレジスト組成物 | |
| EP0166588B1 (en) | Epoxy resin composition | |
| US20030144430A1 (en) | Resin composition for circuit boards | |
| KR101353825B1 (ko) | 접착제 조성물 및 플렉시블 인쇄 배선판용 기판 | |
| JP2820553B2 (ja) | ソルダーレジストインキ組成物及びその硬化物 | |
| JP2004085803A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
| JPH0528253B2 (ja) | ||
| JPS62273221A (ja) | 無電解メツキ用光硬化型レジスト樹脂組成物 | |
| JP2894460B2 (ja) | ソルダーレジストインキ組成物及びその硬化物 | |
| JP3095658B2 (ja) | シアノグアニジン誘導体及びそれを用いた熱硬化性又は光硬化性熱硬化性樹脂組成物 | |
| JPH09114096A (ja) | ソルダーレジスト組成物 | |
| TWI385191B (zh) | 熱硬化型防焊膜組成物 | |
| JPH11305430A (ja) | アルカリ現像型感光性樹脂組成物 | |
| JP2003295429A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JPS63238174A (ja) | レジストインク組成物及び印刷配線板における硬化塗膜の形成方法 | |
| JPH0649174A (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
| JPH06228253A (ja) | 樹脂組成物、ソルダーレジスト樹脂組成物及びこれらの硬化物 | |
| JPS6121132A (ja) | ソルダ−レジスト用樹脂組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |