JPH05156157A - 芳香族ポリアミドをベースとする成形材料 - Google Patents
芳香族ポリアミドをベースとする成形材料Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 芳香族ポリアミドの溶融粘度の改善、ならび
に加工の際の製品の損傷、変色および機械特性の悪化の
改善。 【構成】 I. 次の基本構造: 【化1】 [式中、Xは−SO2−;−CO−を表わし、Yは−O
−;−S−を表わす]で示される芳香族ポリアミドと、 II. 芳香族液晶熱可塑性樹脂とを含有する芳香族ポ
リアミドをベースとする成形材料。
に加工の際の製品の損傷、変色および機械特性の悪化の
改善。 【構成】 I. 次の基本構造: 【化1】 [式中、Xは−SO2−;−CO−を表わし、Yは−O
−;−S−を表わす]で示される芳香族ポリアミドと、 II. 芳香族液晶熱可塑性樹脂とを含有する芳香族ポ
リアミドをベースとする成形材料。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリアミドをベ
ースとする成形材料に関する。
ースとする成形材料に関する。
【0002】
【従来の技術】次の基本構造:
【0003】
【化2】
【0004】を有する芳香族ポリアミドの製造は、原則
として公知である(ドイツ連邦共和国特許出願公開第3
609011号明細書)。この芳香族ポリアミドの溶融
粘度はもちろん著しい。従って、その製造および加工の
場合に著しく高い温度、一般に少なくとも350℃が必
要である。このような温度では、製品の損傷が頻繁に観
察され、変色および機械特性の悪化が確認される。さら
に、前記の芳香族ポリアミドの機械特性を改善する必要
がある。
として公知である(ドイツ連邦共和国特許出願公開第3
609011号明細書)。この芳香族ポリアミドの溶融
粘度はもちろん著しい。従って、その製造および加工の
場合に著しく高い温度、一般に少なくとも350℃が必
要である。このような温度では、製品の損傷が頻繁に観
察され、変色および機械特性の悪化が確認される。さら
に、前記の芳香族ポリアミドの機械特性を改善する必要
がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、先行
技術の製品の前記した欠点を有しない芳香族ポリアミド
を提供することであった。
技術の製品の前記した欠点を有しない芳香族ポリアミド
を提供することであった。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題は、 I. 次の基本構造:
【0007】
【化3】
【0008】[式中、Xは−SO2−;−CO−を表わ
し、Yは−O−;−S−を表わす]を有する芳香族ポリ
アミドと、 II. 芳香族液晶熱可塑性樹脂とを含有する芳香族ポ
リアミドをベースとする成形材料により解決される。
し、Yは−O−;−S−を表わす]を有する芳香族ポリ
アミドと、 II. 芳香族液晶熱可塑性樹脂とを含有する芳香族ポ
リアミドをベースとする成形材料により解決される。
【0009】成分I対成分IIとの重量比が99:1〜
50:50の範囲内にある、特に、98:2〜60:4
0の範囲内にある成形材料が有利である。
50:50の範囲内にある、特に、98:2〜60:4
0の範囲内にある成形材料が有利である。
【0010】ポリアミド(成分I)は、芳香族ジカルボ
ン酸としてイソフタル酸、テレフタル酸、1,4−、
1,5−、2,6−、2,7−ナフタリンジカルボン
酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸または
4,4′−ベンゾフェノンジカルボン酸、4,4′−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、2−フェノキシ−テレ
フタル酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸またはこ
れらの混合物を包含する。
ン酸としてイソフタル酸、テレフタル酸、1,4−、
1,5−、2,6−、2,7−ナフタリンジカルボン
酸、4,4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸または
4,4′−ベンゾフェノンジカルボン酸、4,4′−ジ
フェニルスルホンジカルボン酸、2−フェノキシ−テレ
フタル酸、4,4′−ビフェニルジカルボン酸またはこ
れらの混合物を包含する。
【0011】イソフタル酸単独またはイソフタル酸と前
記した1種以上の酸との混合物を使用するのが有利であ
る。後者の場合、イソフタル酸45モル%までが置き換
えられる。
記した1種以上の酸との混合物を使用するのが有利であ
る。後者の場合、イソフタル酸45モル%までが置き換
えられる。
【0012】芳香族ジアミンとして、たとえば4,4′
−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ルホン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾフェノン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−アミノフェニル
メルカプト)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−ア
ミノフェニルメルカプト)ジフェニルスルホンおよびこ
れらの混合物が挙げられる。
−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン、
4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ルホン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゾフェノン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−アミノフェニル
メルカプト)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(p−ア
ミノフェニルメルカプト)ジフェニルスルホンおよびこ
れらの混合物が挙げられる。
【0013】4,4′−ビス(4−アミノフェニル)ジ
フェニルスルホンを使用するのが有利である。
フェニルスルホンを使用するのが有利である。
【0014】ジカルボン酸対ジアミンのモル使用割合は
約0.9:1〜1:0.9の範囲内にある。
約0.9:1〜1:0.9の範囲内にある。
【0015】芳香族ポリアミド(成分I)の改善された
加水分解安定性を達成するために、ジカルボン酸および
ジアミンの総和に対してなお0.01〜10モル%の低
分子脂肪族、芳香脂肪族または芳香族カルボン酸アミド
を添加することができる。この場合、芳香族基はハロゲ
ンによりまたはC1〜C4アルキル基により置換されてい
てもよい。この処置はドイツ連邦共和国特許出願公開第
3804401号明細書に記載されている。
加水分解安定性を達成するために、ジカルボン酸および
ジアミンの総和に対してなお0.01〜10モル%の低
分子脂肪族、芳香脂肪族または芳香族カルボン酸アミド
を添加することができる。この場合、芳香族基はハロゲ
ンによりまたはC1〜C4アルキル基により置換されてい
てもよい。この処置はドイツ連邦共和国特許出願公開第
3804401号明細書に記載されている。
【0016】同様に、加水分解安定性は、ジカルボン酸
を過剰量で使用する(ドイツ連邦共和国特許出願公開第
3935467号明細書)か、またはジカルボン酸およ
びジアミンがほぼ等モル量で存在する際に付加的にモノ
カルボン酸を添加する(ドイツ連邦共和国特許出願公開
第3935468号明細書)ことにより改善することが
できる。
を過剰量で使用する(ドイツ連邦共和国特許出願公開第
3935467号明細書)か、またはジカルボン酸およ
びジアミンがほぼ等モル量で存在する際に付加的にモノ
カルボン酸を添加する(ドイツ連邦共和国特許出願公開
第3935468号明細書)ことにより改善することが
できる。
【0017】芳香族ポリアミドの製造は原則として公知
である。この製造はたとえばドイツ連邦共和国特許出願
公開第3609011号明細書に記載されいる。
である。この製造はたとえばドイツ連邦共和国特許出願
公開第3609011号明細書に記載されいる。
【0018】芳香族ポリアミドを製造する際に、リン含
有の触媒を使用するのが有利である。これについて、特
に一般式:H3POa(a=2〜4)の酸ならびにその誘
導体が挙げられる。特に、リン酸、亜リン酸、次亜リン
酸、ホスホン酸、たとえばメタンホスホン酸、フェニル
ホスホン酸、亜ホスホン酸、たとえばベンゼン亜ホスホ
ン酸、ホスフィン酸たとえばジフェニルホスフィン酸が
挙げられる。純粋な酸の他にその塩を使用してもよい。
適当なカチオンはたとえばアルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属、たとえばスズ等である。
有の触媒を使用するのが有利である。これについて、特
に一般式:H3POa(a=2〜4)の酸ならびにその誘
導体が挙げられる。特に、リン酸、亜リン酸、次亜リン
酸、ホスホン酸、たとえばメタンホスホン酸、フェニル
ホスホン酸、亜ホスホン酸、たとえばベンゼン亜ホスホ
ン酸、ホスフィン酸たとえばジフェニルホスフィン酸が
挙げられる。純粋な酸の他にその塩を使用してもよい。
適当なカチオンはたとえばアルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属、たとえばスズ等である。
【0019】触媒は、ジカルボン酸およびジアミンの総
和に対して0.01〜4.0モル%、有利に0.2〜
2.0モル%の量で使用される。
和に対して0.01〜4.0モル%、有利に0.2〜
2.0モル%の量で使用される。
【0020】芳香族ポリアミドの製造の際の有利な作業
方法は、触媒の他になお、共触媒としてジアルキルアミ
ノピリジンを使用することである。
方法は、触媒の他になお、共触媒としてジアルキルアミ
ノピリジンを使用することである。
【0021】特に適したジアルキルアミノピリジンは、
アルキル基中で1〜10個のC原子を有するようなもの
である。場合によりアミノ窒素と一緒にピロリジンまた
はピペリジン環を形成することができる4−ジメチルア
ミノピリジン、4−ジブチルアミノピリジン、4−ピペ
リジニルピリジンを使用するのが有利である。
アルキル基中で1〜10個のC原子を有するようなもの
である。場合によりアミノ窒素と一緒にピロリジンまた
はピペリジン環を形成することができる4−ジメチルア
ミノピリジン、4−ジブチルアミノピリジン、4−ピペ
リジニルピリジンを使用するのが有利である。
【0022】共触媒を使用する場合には、ジカルボン酸
およびジアミンの総和に対して0.05〜4モル%、有
利に0.2〜2モル%の量で使用する。特に有利な場合
には、この共触媒は触媒と当量で反応混合物に添加され
る。
およびジアミンの総和に対して0.05〜4モル%、有
利に0.2〜2モル%の量で使用する。特に有利な場合
には、この共触媒は触媒と当量で反応混合物に添加され
る。
【0023】この反応は、溶融液中で、200〜400
℃、有利に230〜360℃の範囲内の温度で実施され
る。
℃、有利に230〜360℃の範囲内の温度で実施され
る。
【0024】通常は、常圧で不活性ガス下で作業され
る。しかし過圧または減圧で作業することもできる。
る。しかし過圧または減圧で作業することもできる。
【0025】分子量を高めるために、芳香族ポリアミド
を不活性雰囲気中で固相後縮合にさらすことができる。
を不活性雰囲気中で固相後縮合にさらすことができる。
【0026】芳香族ポリアミドのガラス転位温度
(Tg)は、190〜270℃の範囲内にあり、粘度数
(J値)は約30〜150cm3/g、有利に60〜1
20cm3/gにある。溶融粘度指数(MVI値)は
0.1〜200cm3/10分、有利に1.0〜60c
m3/10分の値にある。
(Tg)は、190〜270℃の範囲内にあり、粘度数
(J値)は約30〜150cm3/g、有利に60〜1
20cm3/gにある。溶融粘度指数(MVI値)は
0.1〜200cm3/10分、有利に1.0〜60c
m3/10分の値にある。
【0027】芳香族液晶熱可塑性樹脂(成分II)は原
則として公知である。「液晶」の特徴の定義は、Polyme
r 31, 979 f (1990)もしくは Kunststoffe 80, 1159 f
(1990)から推知することができる。第一線には芳香族ポ
リエステルおよびポリエステルアミドが挙げられてい
る。しかし、他の熱可塑性樹脂も、液晶特性を示すかぎ
り適している。
則として公知である。「液晶」の特徴の定義は、Polyme
r 31, 979 f (1990)もしくは Kunststoffe 80, 1159 f
(1990)から推知することができる。第一線には芳香族ポ
リエステルおよびポリエステルアミドが挙げられてい
る。しかし、他の熱可塑性樹脂も、液晶特性を示すかぎ
り適している。
【0028】有利な芳香族液晶ポリエステルもしくはポ
リエステルアミドは、ジカルボン酸、ジヒドロキシ化合
物、ジアミン、ヒドロキシ−もしくはアミノカルボン
酸、アミノフェノールから構成されている。
リエステルアミドは、ジカルボン酸、ジヒドロキシ化合
物、ジアミン、ヒドロキシ−もしくはアミノカルボン
酸、アミノフェノールから構成されている。
【0029】(ジ)カルボン酸として、たとえばテレフ
タル酸、イソフタル酸、1,4−もしくは2,6−ナフ
タリンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジ
カルボン酸、4,4′−ジカルボキシジフェニルスルホ
ンならびにp−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−
2−ナフタリンカルボン酸、3−または4−アミノ安息
香酸が挙げられる。
タル酸、イソフタル酸、1,4−もしくは2,6−ナフ
タリンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルエーテルジ
カルボン酸、4,4′−ジカルボキシジフェニルスルホ
ンならびにp−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−
2−ナフタリンカルボン酸、3−または4−アミノ安息
香酸が挙げられる。
【0030】ジヒドロキシ化合物として、たとえばヒド
ロキノン、レソルシン、4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン(ビ
スフェノールS)、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド(ビスフェノールT)、4,4′−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、1,4−もしくは2,6−ジヒド
ロキシナフタリンが挙げられる。
ロキノン、レソルシン、4,4′−ジヒドロキシビフェ
ニル、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン(ビ
スフェノールS)、4,4′−ジヒドロキシジフェニル
スルフィド(ビスフェノールT)、4,4′−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、1,4−もしくは2,6−ジヒド
ロキシナフタリンが挙げられる。
【0031】適当なアミノ化合物は、たとえば3−もし
くは4−アミノフェノール、3−もしくは4−アミノ安
息香酸、1,3−もしくは1,4−ジアミノベンゼンで
ある。
くは4−アミノフェノール、3−もしくは4−アミノ安
息香酸、1,3−もしくは1,4−ジアミノベンゼンで
ある。
【0032】特に有利な芳香族液晶熱可塑性樹脂は、欧
州特許出願公開第0063680号、同第008190
0号、同第0102160号、同第0134956号、
同第0170935号、同第0201831号、同第0
205855号、同第0257558号明細書、および
米国特許第3778410号、同第0380485号、
同第4574066号明細書に記載されている。前記の
刊行物からその製造および組成は公知である。
州特許出願公開第0063680号、同第008190
0号、同第0102160号、同第0134956号、
同第0170935号、同第0201831号、同第0
205855号、同第0257558号明細書、および
米国特許第3778410号、同第0380485号、
同第4574066号明細書に記載されている。前記の
刊行物からその製造および組成は公知である。
【0033】この液晶熱可塑性樹脂は、特に、溶融粘度
(MVI値)が380℃で10Kpの荷重で5〜200
cm3/10分の範囲内にあることにより特徴付けられ
ている(DIN53735−B)。
(MVI値)が380℃で10Kpの荷重で5〜200
cm3/10分の範囲内にあることにより特徴付けられ
ている(DIN53735−B)。
【0034】適当な芳香族液晶熱可塑性樹脂は、約25
0〜330℃の範囲内の融点を有し、400℃まで、有
利に350℃まで温度安定性であり、成形材料の加工領
域いおいて液晶相を有し成分Iと非相容性である。
0〜330℃の範囲内の融点を有し、400℃まで、有
利に350℃まで温度安定性であり、成形材料の加工領
域いおいて液晶相を有し成分Iと非相容性である。
【0035】この非相容性は−273〜400℃の温度
範囲内で芳香族ポリアミドと液晶熱可塑性樹脂との相分
離により特徴付けられる。液晶熱可塑性樹脂の相領域の
直径は少なくとも0.05μmである。
範囲内で芳香族ポリアミドと液晶熱可塑性樹脂との相分
離により特徴付けられる。液晶熱可塑性樹脂の相領域の
直径は少なくとも0.05μmである。
【0036】成分IおよびIIは、通常の機械で、射出
成形または押し出しにより混合し、成形材料に加工する
ことができる。
成形または押し出しにより混合し、成形材料に加工する
ことができる。
【0037】この成形材料は、付加的になお充填材、た
とえばタルク、または補強材、たとえばガラス繊維、A
RAMIDR繊維または炭素繊維、ならびにその他の通
常の添加剤、たとえば顔料または安定剤を含有していて
もよい。
とえばタルク、または補強材、たとえばガラス繊維、A
RAMIDR繊維または炭素繊維、ならびにその他の通
常の添加剤、たとえば顔料または安定剤を含有していて
もよい。
【0038】本発明により成形材料は、通常の方法、た
とえば射出成形、押し出し等により、成形体、繊維、シ
ート等に加工される。同様に粉末(たとえば流動燒結
法)、液体分散液または溶液から出発する被覆材料とし
ての使用が可能である。
とえば射出成形、押し出し等により、成形体、繊維、シ
ート等に加工される。同様に粉末(たとえば流動燒結
法)、液体分散液または溶液から出発する被覆材料とし
ての使用が可能である。
【0039】本発明による成形材料は、芳香族ポリアミ
ド(成分I)と比較して、明らかにより良好に加工する
ことができる、つまりより低い溶融粘度を有し、かつ、
機械特性の主要な点において顕著に改善された特性を示
すことが確認された。
ド(成分I)と比較して、明らかにより良好に加工する
ことができる、つまりより低い溶融粘度を有し、かつ、
機械特性の主要な点において顕著に改善された特性を示
すことが確認された。
【0040】発明の詳細な説明および実施例において記
載したパラメータは、次に記載する方法を用いて測定し
た。
載したパラメータは、次に記載する方法を用いて測定し
た。
【0041】ガラス転移温度(Tg)および融点(Tm)
は、加熱速度20℃/分でのDSC(METTLER TA 300
0)の使用下で測定した。
は、加熱速度20℃/分でのDSC(METTLER TA 300
0)の使用下で測定した。
【0042】粘度数(J)は、DIN53728によ
り、25℃でフェノール/o−ジクロロベンゼン混合物
(1:1重量部)中のポリアミドの0.5重量%の溶液
について測定した。
り、25℃でフェノール/o−ジクロロベンゼン混合物
(1:1重量部)中のポリアミドの0.5重量%の溶液
について測定した。
【0043】溶融粘度(MVI値)は、DIN5373
5−Bにより、320℃でおよび21.6Kpの荷重
で、ゲットフェルト粘度計(Goettfert-Viskosimeter)
について測定した。
5−Bにより、320℃でおよび21.6Kpの荷重
で、ゲットフェルト粘度計(Goettfert-Viskosimeter)
について測定した。
【0044】曲げEモジュラスは、DIN53547−
B 3により、引っ張りEモジュラスはDIN5354
7−tにより、曲げ強さはDIN53452により、引
っ張り強さはDIN53455により得られた。
B 3により、引っ張りEモジュラスはDIN5354
7−tにより、曲げ強さはDIN53452により、引
っ張り強さはDIN53455により得られた。
【0045】
【実施例】アルファベットで記載した例は本発明による
ものではない。
ものではない。
【0046】例A:(ドイツ連邦共和国特許出願公開第
3609011号−例1) 4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ルホン21.62g(0.05モル)、イソフタル酸
8.31g(0.05モル)を、50%の水性次亜リン
酸109μl(0.001モル)および4−ジメチルア
ミノピリジン122mg(0.001モル)の存在で、
攪拌機、窒素導入装置および蒸留装置を備えた重縮合反
応器中で250℃で溶融させた。この温度を20分後に
300℃に高めた。この場合、反応の進行において放出
される水を留去する間に、溶融液の粘度は常に増加し
た。300℃で30分後反応を止めた。粘度数(J)は
35cm3/gであった。250℃で0.5mbarで
の固相後縮合により24時間後に75cm3/gを有す
るポリアミドが得られた。
3609011号−例1) 4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ルホン21.62g(0.05モル)、イソフタル酸
8.31g(0.05モル)を、50%の水性次亜リン
酸109μl(0.001モル)および4−ジメチルア
ミノピリジン122mg(0.001モル)の存在で、
攪拌機、窒素導入装置および蒸留装置を備えた重縮合反
応器中で250℃で溶融させた。この温度を20分後に
300℃に高めた。この場合、反応の進行において放出
される水を留去する間に、溶融液の粘度は常に増加し
た。300℃で30分後反応を止めた。粘度数(J)は
35cm3/gであった。250℃で0.5mbarで
の固相後縮合により24時間後に75cm3/gを有す
るポリアミドが得られた。
【0047】 Tg:250℃ MVI値:5.3cm3/10分 例1 例Aによる芳香族ポリアミド39.6gおよび市販の液
晶ポリエステルアミド0.4g(VECTRAR B9
50 − p−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ヒドロキ
シナフタリンジカルボン酸、p−アミノ安息香酸をベー
スとするポリエステルアミド;MVI値:300℃で
2.16Kpの荷重で258g/10分)を、実験室ニ
ーダー(Haake社)中で320℃で15分間に窒素保護
下で相互に混合した。不透明のブレンドが得られた。
晶ポリエステルアミド0.4g(VECTRAR B9
50 − p−ヒドロキシ安息香酸、2,6−ヒドロキ
シナフタリンジカルボン酸、p−アミノ安息香酸をベー
スとするポリエステルアミド;MVI値:300℃で
2.16Kpの荷重で258g/10分)を、実験室ニ
ーダー(Haake社)中で320℃で15分間に窒素保護
下で相互に混合した。不透明のブレンドが得られた。
【0048】 J値:54cm3/g Tg:251℃ MVI値:
7.3cm3/10分 例2−6 例2−6は、例1と同様に実施するが、芳香族ポリアミ
ドと液晶ポリエステルアミドとの混合比を変えた。個々
の成分比ならびに得られた成形材料の特性を表1に示し
た。
7.3cm3/10分 例2−6 例2−6は、例1と同様に実施するが、芳香族ポリアミ
ドと液晶ポリエステルアミドとの混合比を変えた。個々
の成分比ならびに得られた成形材料の特性を表1に示し
た。
【0049】
【表1】
【0050】例7 例Aによる芳香族ポリアミド95重量部および例1によ
る液晶ポリエステルアミド5重量部からなる混合物を、
Berstorff社(タイプ ZE 25)の2軸スクリュー
ニーダーで、ケーシング温度330℃、スクリュー回転
数70/分および流量3kg/hで製造し、引き続き顆
粒化した。得られた顆粒を試験成形体に加工し、次の特
性を示した:
る液晶ポリエステルアミド5重量部からなる混合物を、
Berstorff社(タイプ ZE 25)の2軸スクリュー
ニーダーで、ケーシング温度330℃、スクリュー回転
数70/分および流量3kg/hで製造し、引き続き顆
粒化した。得られた顆粒を試験成形体に加工し、次の特
性を示した:
フロントページの続き (72)発明者 ホルスト バイアー ドイツ連邦共和国 マール ビッターフェ ルダー シュトラーセ 9 アー (72)発明者 ハラルド モードラー ドイツ連邦共和国 ボーフム ハッティン ガー シュトラーセ 103
Claims (3)
- 【請求項1】 I. 次の基本構造: 【化1】 [式中、Xは−SO2−;−CO−を表わし、 Yは−O−;−S−を表わす]で示される芳香族ポリア
ミドと、 II. 芳香族液晶熱可塑性樹脂とを含有する芳香族ポ
リアミドをベースとする成形材料。 - 【請求項2】 成形材料中で成分I対成分IIとの重量
比が99:1〜50:50である請求項1記載の成形材
料。 - 【請求項3】 成形材料中で成分I対成分IIとの重量
比が98:2〜60:40である請求項1記載の成形材
料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4119301A DE4119301A1 (de) | 1991-06-12 | 1991-06-12 | Formmassen auf basis aromatischer polyamide |
| DE4119301.6 | 1991-06-12 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05156157A true JPH05156157A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=6433727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4149149A Pending JPH05156157A (ja) | 1991-06-12 | 1992-06-09 | 芳香族ポリアミドをベースとする成形材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5258470A (ja) |
| EP (1) | EP0518022A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05156157A (ja) |
| DE (1) | DE4119301A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
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| US6121388A (en) * | 1998-05-12 | 2000-09-19 | Toray Industries, Inc. | Polyamide resin composition |
| TW200615367A (en) * | 2004-08-31 | 2006-05-16 | Polyplastics Co | Thermoplastic resin composition and injection moulding material therefrom |
| EP1847569B1 (de) * | 2006-04-21 | 2010-01-06 | Ems-Chemie Ag | Transparente Polyamid-Formmassen |
| WO2013032977A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Heat-resistant liquid crystalline polymer composition having a low melting temperature |
| WO2013032967A1 (en) | 2011-08-29 | 2013-03-07 | Ticona Llc | Cast molded parts formed form a liquid crystalline polymer |
| CN103764741B (zh) | 2011-08-29 | 2015-09-23 | 提克纳有限责任公司 | 低熔体粘度液晶聚合物的熔融聚合 |
| JP2014525501A (ja) | 2011-08-29 | 2014-09-29 | ティコナ・エルエルシー | 高流動性液晶ポリマー組成物 |
| US8669341B2 (en) | 2011-08-29 | 2014-03-11 | Ticona Llc | Solid-state polymerization of a liquid crystalline polymer |
| CN103764623B (zh) | 2011-08-29 | 2016-04-27 | 提克纳有限责任公司 | 芳族酰胺化合物 |
| TW201319023A (zh) | 2011-08-29 | 2013-05-16 | Ticona Llc | 具改良低剪切黏度之熱向性液晶聚合物 |
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