JPH05159621A - Conductive paste - Google Patents

Conductive paste

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JPH05159621A
JPH05159621A JP3324877A JP32487791A JPH05159621A JP H05159621 A JPH05159621 A JP H05159621A JP 3324877 A JP3324877 A JP 3324877A JP 32487791 A JP32487791 A JP 32487791A JP H05159621 A JPH05159621 A JP H05159621A
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JP
Japan
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cuo
conductive paste
paste
weight
reduction
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JP3324877A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Hakotani
靖彦 箱谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】銅を内部電極とする多層セラミック配線基板に
用いる導体ペーストにおいて、CuOからCuへの還元
を容易にし、還元処理時間の短縮化、工程の低コスト化
を目的とする。 【構成】CuOの他にガラスフリットとMgOと、さら
にH2 SO4 ,HNO3 ,H3 PO4 のうち少なくとも
一種を添加して得られる導電性ペーストは、内部電極層
1に適し、他の添加物としてさらにAl2 3 ,SnO
2 ,TiO2 ,MnO2 の内少なくとも1種以上を添加
して得られる導電性ペーストはピアホール電極3に適す
る。このペースト構成成分の内H2 SO4 ,HNO3
3 PO4の効果によりCuへの還元性が促進される。
(57) [Abstract] [Purpose] In a conductor paste used for a multilayer ceramic wiring substrate having copper as an internal electrode, the purpose is to facilitate the reduction of CuO to Cu, shorten the reduction treatment time, and reduce the process cost. To do. [Constitution] A conductive paste obtained by adding glass frit and MgO in addition to CuO and at least one of H 2 SO 4 , HNO 3 , and H 3 PO 4 is suitable for the internal electrode layer 1, Further, as additives, Al 2 O 3 and SnO
A conductive paste obtained by adding at least one of 2 , 2 , TiO 2 and MnO 2 is suitable for the pierhole electrode 3. Of the paste constituents, H 2 SO 4 , HNO 3 ,
The effect of H 3 PO 4 promotes the reducibility to Cu.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、回路基板用導電性ペー
ストに関するものであり、特に低温焼成多層セラミック
配線基板(以下MLCと略す)の電極材料およびビアホ
ール用電極材料として使用される導電ペーストに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste for a circuit board, and more particularly to a conductive paste used as an electrode material for a low temperature multilayer ceramic wiring board (hereinafter abbreviated as MLC) and a via hole electrode material. It is a thing.

【0002】[0002]

【従来の技術】セラミック誘電体基質に適用する導体組
成物には、Au,Ag/Pdなどの貴金属を用いるもの
と、W,Mo,Ni,Cuなどの卑金属を用いる場合が
ある。特にMLCは、この金属材料に有機バインダ、溶
剤を加えてペースト状にしたものをアルミナなどの絶縁
基板上にスクリーン印刷し、焼き付けて導体パターンを
形成するものである。また、MLCではこれらの導体ペ
ーストの他、絶縁材料としてのセラミックやガラス粉末
を有機バインダを溶かした溶剤中に分散させたものを用
いて多層化する方法と、前記絶縁粉末、有機バインダな
どからなるグリーンシート上に、前記導体ペーストでパ
ターン形成したものを積層して多層化する方法がある。
これらに使用される金属導体材料に注目すると、Au,
Ag/Pdは空気中で焼成できる反面、貴金属であるた
めコストが高い。一方、W,Ni,Cuは、卑金属で安
価であるが焼成雰囲気を還元雰囲気か中性の雰囲気で行
う必要がある。またW,Moでは、1500℃以上の高温焼
成となる。さらに信頼性の面からAuでは、半田食われ
が問題となり、Ag/Pdでは、マイグレーションおよ
び導体抵抗が高いという問題がある。そこで、安価で電
気抵抗が低く、半田付け性の良好なCuを用いるように
なってきた。
2. Description of the Related Art As a conductor composition applied to a ceramic dielectric substrate, there are cases where a noble metal such as Au and Ag / Pd is used and a case where a base metal such as W, Mo, Ni and Cu is used. In particular, MLC is one in which an organic binder and a solvent are added to this metal material to form a paste, which is screen-printed on an insulating substrate such as alumina and baked to form a conductor pattern. In addition, in MLC, in addition to these conductor pastes, a method in which a ceramic or glass powder as an insulating material is dispersed in a solvent in which an organic binder is dissolved to form a multi-layer, and the insulating powder, the organic binder, and the like are used. There is a method in which a pattern formed of the conductor paste is laminated on a green sheet to form a multilayer.
Focusing on the metal conductor materials used for these, Au,
Although Ag / Pd can be fired in air, it is expensive because it is a precious metal. On the other hand, W, Ni, and Cu are base metals and are inexpensive, but the firing atmosphere must be a reducing atmosphere or a neutral atmosphere. In addition, W and Mo are fired at a high temperature of 1500 ° C or higher. Further, from the viewpoint of reliability, Au has a problem of solder erosion, and Ag / Pd has a problem of high migration and conductor resistance. Therefore, Cu has come to be used, which is inexpensive, has low electric resistance, and has good solderability.

【0003】たとえば、米国特許第4072771号に
はCuペーストの組成が開示され、同じく特開昭56-933
96号公報にも開示されている。前者はCu粉にガラスフ
リットを含有する組成物、後者はガラスフリットを含ま
ない組成物での構成が記載されている。
For example, US Pat. No. 4,072,771 discloses the composition of a Cu paste, which is also disclosed in JP-A-56-933.
It is also disclosed in Japanese Patent Publication No. 96. The former describes a composition containing a glass frit in Cu powder, and the latter a composition containing a glass frit.

【0004】しかしCuを使う上でも課題がある。それ
は、Cu電極による誘電体基質への焼成は還元もしくは
中性雰囲気となり、ペースト中の有機バインダの分解除
去が困難となるからである。これは、窒素中の酸素濃度
が低いためバインダの分解が起こらず、カーボンの形で
残りメタライズ性能に悪影響を及ぼす。逆に酸素濃度が
高いと、Cu電極が酸化され誘電体中に拡散して電極と
して機能しなくなる。そのため焼成は、窒素雰囲気中に
若干の酸素をコントロールしながら供給することで行わ
れる。そして、残存したカーボンが酸化銅と反応して電
極層にブリスタを発生させたり、電極一誘電体間のマッ
チングを悪くさせる要因となる。このようにCuペース
トは、有機バインダの使用に多くの課題を有している。
However, there are problems in using Cu. This is because the firing of the dielectric substrate by the Cu electrode reduces or becomes a neutral atmosphere, and it becomes difficult to decompose and remove the organic binder in the paste. This is because the oxygen concentration in nitrogen is low, so that the binder does not decompose and remains in the form of carbon, which adversely affects the metallization performance. On the other hand, when the oxygen concentration is high, the Cu electrode is oxidized and diffused into the dielectric to stop functioning as an electrode. Therefore, the firing is performed by supplying a small amount of oxygen in a nitrogen atmosphere while controlling it. Then, the remaining carbon reacts with the copper oxide to generate blisters in the electrode layer or cause a deterioration in matching between the electrode and the dielectric. As described above, the Cu paste has many problems in using the organic binder.

【0005】そこで近年、導体材料の出発原料にCuO
を用いる新しいCu電極多層セラミック基板の製造方法
が開発された。つまりセラミックグリーンシート上にC
uO導体組成物によって配線パターンを形成し積層の
後、酸化性雰囲気中の熱処理で前記CuO導体組成物、
およびセラミックグリーンシート中の有機残基を熱分解
する工程と、還元雰囲気中の熱処理でCu金属に還元す
る工程と、窒素雰囲気でのセラミック基質の焼成を行う
工程により作製されるというものであり、たとえば特開
昭61-26293号公報、米国特許4 795 512 号公報、同じく
米国特許4 863 683 号公報に開示されている。このセラ
ミック積層体の製造方法によれば、絶縁基板およびペー
スト中の有機バインダの分解除去が容易となり、かつ良
好なCuのメタライズが得られる。
Therefore, in recent years, CuO has been used as a starting material for conductor materials.
A new Cu electrode multi-layer ceramic substrate manufacturing method has been developed. That is, C on the ceramic green sheet
After forming a wiring pattern with the uO conductor composition and stacking the layers, the CuO conductor composition is heat-treated in an oxidizing atmosphere.
And a step of thermally decomposing organic residues in the ceramic green sheet, a step of reducing to Cu metal by heat treatment in a reducing atmosphere, and a step of firing a ceramic substrate in a nitrogen atmosphere, For example, it is disclosed in JP-A-61-26293, US Pat. No. 4,795,512, and US Pat. No. 4,863,683. According to this method for producing a ceramic laminate, the organic binder in the insulating substrate and the paste can be easily decomposed and removed, and good Cu metallization can be obtained.

【0006】また、このセラミック積層体の製造方法で
用いる導体組成物としてはCuO粉末、接着強度を上げ
るためのガラスフリット、導体の収縮を防止するMg
O,Al2 3 ,SnO2 ,TiO2,MnO2 などの
無機組成物と、有機ビヒクルを含む導体ペーストが用い
られることが特願平2-86564 号に示されている。
The conductor composition used in the method for producing the ceramic laminate is CuO powder, glass frit for increasing the adhesive strength, and Mg for preventing the conductor from shrinking.
Japanese Patent Application No. 2-86564 discloses that a conductor paste containing an inorganic vehicle such as O, Al 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , and MnO 2 and an organic vehicle is used.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成において、MLCの内部電極およびビアホール
を形成するために、導体ペースト中のCuOを金属Cu
に還元するときに次のような問題が生じた。(1) CuO
粉の粒径によりCuへの還元され易さが異なるため、C
uOペーストのロットにより還元工程の条件を変えなけ
ればならない。(2) セラミックグリーンシートの組成に
より、還元温度を高く設定できない場合には、CuOを
還元するために、水素濃度を上げ、還元処理時間を長く
しなければならず、量産効率が悪く、また不経済であ
る。
However, in the above structure, CuO in the conductor paste is replaced with metal Cu in order to form the internal electrodes and via holes of the MLC.
The following problems occurred when returning to. (1) CuO
Since the easiness of reduction to Cu differs depending on the particle size of the powder, C
The conditions of the reduction process must be changed depending on the lot of uO paste. (2) If the reduction temperature cannot be set high due to the composition of the ceramic green sheet, the hydrogen concentration must be increased and the reduction treatment time must be lengthened in order to reduce CuO. It is an economy.

【0008】本発明は上記問題を解決するもので、Cu
OからCuへの還元性の良好な内部電極用導電性ペース
トとビアホール用導電性ペーストをあわせて提供するこ
とを目的とするものである。
The present invention solves the above problems by using Cu
It is an object of the present invention to provide a conductive paste for internal electrodes and a conductive paste for via holes, which both have a good reducing property from O to Cu, and are provided together.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の導電性ペーストは、CuO粉末の他にガラス
フリットと、MgO粉末を含有した無機成分と、少なく
とも有機バインダと溶剤よりなる有機ビヒクル成分と、
2 SO4 ,HNO3 ,H3 PO4 のうち少なくとも一
種より成り、もう一方の導電性ペーストはCuO粉末の
他にガラスフリットと、MgO粉末、さらにAl
2 3 ,SnO2 ,TiO2 ,MnO2 の内少なくとも
1種以上を含有した無機成分と、少なくとも有機バイン
ダと溶剤よりなる有機ビヒクル成分と、H2 SO4 ,H
NO3 ,H3 PO4 のうち少なくとも一種よりなるもの
である。
In order to solve the above problems, the conductive paste of the present invention is an organic paste composed of a glass frit in addition to CuO powder, an inorganic component containing MgO powder, and at least an organic binder and a solvent. Vehicle components,
At least one of H 2 SO 4 , HNO 3 , and H 3 PO 4 is used , and the other conductive paste includes CuO powder, glass frit, MgO powder, and Al.
2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , MnO 2 containing at least one inorganic component, at least an organic binder and an organic vehicle component composed of a solvent, H 2 SO 4 , H
It is composed of at least one of NO 3 and H 3 PO 4 .

【0010】特に前者の導電性ペーストは内部電極用と
して適し、後者はビアホール電極用として適している。
In particular, the former conductive paste is suitable for internal electrodes, and the latter is suitable for via-hole electrodes.

【0011】[0011]

【作用】本発明は、セラミック積層体をつくる上で上記
した構成のCuOペーストを用いることにより、還元工
程でのCuOのCuへの還元が容易になり、還元条件設
定の容易化、消費する水素量の低減、処理時間の短縮
化、コストの低減を得ることができる。本発明のCuO
ペーストは、CuOの他にガラスフリットとMgOと、
もしくはさらにAl2 3 ,SnO2 ,TiO2 ,Mn
2 の内少なくとも1種以上を添加し、さらにH2 SO
4 ,HNO3 ,H3 PO4 のうち少なくとも一種を添加
して得られる。このCuOペーストはセラミック積層体
として、主に多層セラミック配線基板(MLC)などに
適用され、上記添加物を加えることで還元工程のCuO
のCuへの還元を容易に行うことができるものである。
The present invention facilitates the reduction of CuO to Cu in the reduction step by using the CuO paste having the above-described structure for producing a ceramic laminate, facilitating the setting of reduction conditions and the consumption of hydrogen. The amount can be reduced, the processing time can be shortened, and the cost can be reduced. CuO of the present invention
The paste is glass frit and MgO in addition to CuO.
Alternatively, Al 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , Mn
Add at least one kind of O 2 and further add H 2 SO
It can be obtained by adding at least one of 4 , HNO 3 and H 3 PO 4 . This CuO paste is mainly applied to a multilayer ceramic wiring board (MLC) or the like as a ceramic laminated body.
Can be easily reduced to Cu.

【0012】本発明の導電性ペーストに含まれる添加物
のうちMgOは、種々の検討の結果、Cu粉の焼結性を
阻害する効果のあることが見いだされた。つまり、還元
工程後のCu粉が基板材料と比べ焼結のタイミングが早
過ぎる場合、セラミックとCu層間に隙間が生じたり、
セラミック層にクラックが生じる原因となっていたが、
MgOを添加することで基板材料の焼結温度付近で焼結
反応が起こるようになり、本発明のCuO組成物では上
記のような問題が起こらない。このときMgOの添加量
が3重量%以上では、焼結タイミングが遅すぎセラミッ
ク層にクラックを発生させる原因となる。望ましくは0.
5 〜3%が良い。
Of the additives contained in the conductive paste of the present invention, MgO was found as a result of various studies to have an effect of inhibiting the sinterability of Cu powder. In other words, when the Cu powder after the reduction process has an earlier sintering timing than the substrate material, a gap is generated between the ceramic and the Cu layer,
Although it caused cracks in the ceramic layer,
By adding MgO, the sintering reaction occurs near the sintering temperature of the substrate material, and the CuO composition of the present invention does not cause the above problems. At this time, if the addition amount of MgO is 3% by weight or more, the sintering timing is too late, which causes cracking in the ceramic layer. Desirably 0.
5 to 3% is good.

【0013】また、Al2 3 ,SnO2 ,TiO2
MnO2 などの添加物を同時に添加することで電極層の
焼結後の体積収縮がセラミック基板材料のそれと大差な
くなる。その結果ビアホールなどの電極層で良好なメタ
ライズが得られ、かつ良好な性能のビアホールが形成で
きる。また、これらの添加物の総添加物量が3重量%以
下では、電極層の体積収縮を抑えることができないた
め、ビアホールとセラミック層との間隙に空洞ができ
る。逆に20重量%以上では、導体層の収縮が小さすぎる
ため焼結体とのマッチング性が悪くなり、また導体層の
インピーダンスが著しく高くなるので良くない。望まし
くは、添加物が10〜15重量%が良い。
Al 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 ,
By simultaneously adding an additive such as MnO 2, the volumetric shrinkage of the electrode layer after sintering becomes almost the same as that of the ceramic substrate material. As a result, good metallization can be obtained in the electrode layer such as a via hole, and a via hole with good performance can be formed. Further, when the total amount of these additives is 3% by weight or less, the volume shrinkage of the electrode layer cannot be suppressed, so that a void is formed in the gap between the via hole and the ceramic layer. On the other hand, when the content is 20% by weight or more, the contraction of the conductor layer is too small, the matching property with the sintered body deteriorates, and the impedance of the conductor layer remarkably increases, which is not preferable. Desirably, 10 to 15% by weight of the additive is good.

【0014】H2 SO4 ,HNO3 ,H3PO4 などの
添加物は、種々検討の結果、水素・窒素混合雰囲気中で
のCuOのCuへの還元反応を促進することが分かっ
た。よって、これらの添加物のうち少なくとも一種を添
加することにより、より低温、より短時間、より低水素
濃度でのCuOの還元が可能となる。また、これらの添
加物のペースト全量に対する添加物量が0.05重量%以下
では、CuOの還元性を促進する効果はない。逆に5重
量%以上では、還元後の導体の焼結性が悪くなり、ま
た、導体抵抗も悪化させる。望ましくは、0.1 〜2.0 重
量%が良い。
As a result of various studies, it was found that additives such as H 2 SO 4 , HNO 3 and H 3 PO 4 promote the reduction reaction of CuO to Cu in a hydrogen / nitrogen mixed atmosphere. Therefore, by adding at least one of these additives, it becomes possible to reduce CuO at a lower temperature, a shorter time, and a lower hydrogen concentration. Further, when the amount of these additives is 0.05 wt% or less with respect to the total amount of paste, there is no effect of promoting the reducing property of CuO. On the other hand, when the content is 5% by weight or more, the sinterability of the conductor after reduction is deteriorated and the conductor resistance is also deteriorated. Desirably, 0.1 to 2.0% by weight is good.

【0015】[0015]

【実施例】以下本発明の一実施例の多層セラミック配線
基板について、図面を参照しながら説明する。図1は本
発明の一実施例における多層セラミック配線基板の断面
図を示す。図1において、1は内部電極層、2は誘電体
層、3はビアホール電極である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multilayer ceramic wiring board according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view of a multilayer ceramic wiring board according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is an internal electrode layer, 2 is a dielectric layer, and 3 is a via hole electrode.

【0016】多層セラミック配線基板に使用した材料
は、ガラス成分として硼珪酸ガラス(コーニング社製#
7059)をセラミック成分としてのアルミナ粉末に重量比
で50対50混合した物を用いた。つぎに前記基板材料粉末
を無機成分とし、有機バインダとしてポリブチルブチラ
ール、可塑剤としてジ−n−ブチルフタレート、溶剤と
してトルエンとイソプロピルアルコールの混合液(30対
70重量比)を混合しスラリーとした。
The material used for the multilayer ceramic wiring board is borosilicate glass (Corning
7059) was mixed with alumina powder as a ceramic component in a weight ratio of 50:50. Next, using the substrate material powder as an inorganic component, polybutyl butyral as an organic binder, di-n-butyl phthalate as a plasticizer, and a mixed solution of toluene and isopropyl alcohol as a solvent (30 pairs:
70 weight ratio) was mixed to form a slurry.

【0017】このスラリーを充分混合の後ドクターブレ
ード法で、有機フィルム上に造膜しグリーンシートとし
た。乾燥後の膜厚は約200 であった。このグリーンシー
トに必要に応じてビアホールを金型にてパンチングす
る。ビアホール径は0.2mm φであった。
After sufficiently mixing this slurry, a green sheet was formed on the organic film by the doctor blade method. The film thickness after drying was about 200. A via hole is punched in this green sheet with a mold if necessary. The via hole diameter was 0.2 mmφ.

【0018】つぎに導電性ペースト無機組成は、内部電
極用ペーストとしては、酸化第二銅粉(平均粒径3μ
m)に、接着強度を得るためのガラスフリット、Cuの
焼結抑制のためのMgOを添加し、またビアホール電極
用ペーストとしてはそこにさらにビアホール空洞を防止
する添加物としてAl2 3を表1のような組成で混合
した物を用いた。
Next, the conductive paste inorganic composition was used as the internal electrode paste, including cupric oxide powder (average particle size: 3 μm).
m) is added with glass frit for obtaining adhesive strength, MgO for suppressing Cu sintering, and Al 2 O 3 is added as an additive for preventing via hole cavities in the paste for via hole electrodes. A mixture having a composition such as 1 was used.

【0019】導電性ペーストの作製方法は、前記組成の
無機粉末に、有機バインダであるエチルセルロースをタ
ーピネオールに溶かしたビヒクルと、CuOの還元を促
進するH2 SO4 ,HNO3 ,H3PO4 とを加えて、
3段ロールにより適度な粘度になるまで混練したもので
ある。このようにして得られた導電性ペーストをスクリ
ーン印刷法にて前記のグリーンシート上に印刷し、乾燥
の後に所望の層数だけ熱と圧力を加えて積層する。グリ
ーンシート積層体の表面層には、導体ペーストの還元性
とシート抵抗値を測定するために図2に示すような配線
パターンを印刷した。図2において、4はグリーンシー
ト積層体表面、5はシート抵抗測定パターン、6はペー
ストの還元性評価パターンである。
The method for producing the conductive paste is as follows: a vehicle in which terpineol, which is an organic binder, is dissolved in an inorganic powder having the above composition, and H 2 SO 4 , HNO 3 , and H 3 PO 4 which accelerates the reduction of CuO. In addition,
It is kneaded by a three-stage roll until it has an appropriate viscosity. The conductive paste thus obtained is printed on the green sheet by a screen printing method, dried and then laminated by applying heat and pressure by a desired number of layers. A wiring pattern as shown in FIG. 2 was printed on the surface layer of the green sheet laminate to measure the reducing property and the sheet resistance value of the conductor paste. In FIG. 2, 4 is the surface of the green sheet laminate, 5 is a sheet resistance measurement pattern, and 6 is a paste reducibility evaluation pattern.

【0020】そののち脱バインダ工程として、空気中で
30分間熱処理した。脱バインダの温度は600 ℃であっ
た。次に還元工程として、水素を10%含む窒素雰囲気中
で250℃〜450 ℃の温度で1時間還元処理を行った。そ
して、最後に窒素雰囲気中で10分間焼成した。焼成温度
は900 ℃であった。それぞれの熱処理はメッシュベルト
炉で自動的に行われた。
After that, as a binder removal step, in the air
Heat treated for 30 minutes. The binder removal temperature was 600 ° C. Next, as a reduction step, reduction treatment was performed for 1 hour at a temperature of 250 ° C. to 450 ° C. in a nitrogen atmosphere containing 10% of hydrogen. And finally, it was baked for 10 minutes in a nitrogen atmosphere. The firing temperature was 900 ° C. Each heat treatment was automatically performed in a mesh belt furnace.

【0021】還元処理後のCuOからCuへの還元性
は、積層体表面のパターン6の外観変化、およびX線回
折測定により評価した。X線回折測定による評価は、還
元処理後のパターン6をX線回折測定し、ペースト中の
CuをCuOのピーク強度比からCuが100 %、90%以
上、90%から70%、70%未満の4段階の分け、それぞれ
A,B,C,Dの評価で表した。ペースト焼成後の導体
のシート抵抗値(膜厚10μm換算)は配線パターン5の
抵抗値より算出した。また、完成したMLC基板の内部
電極部とビアホール電極部のメタライズ性能は、内部電
極パターンとビアとで形成される一本の配線の抵抗値を
測定し、相対評価した。
The reducibility of CuO to Cu after the reduction treatment was evaluated by the appearance change of the pattern 6 on the surface of the laminate and the X-ray diffraction measurement. For the evaluation by X-ray diffraction measurement, pattern 6 after reduction treatment was measured by X-ray diffraction, and Cu in the paste was 100%, 90% or more, 90% to 70%, less than 70% from the peak intensity ratio of CuO. It was represented by the evaluation of A, B, C, and D in four stages. The sheet resistance value (converted to a film thickness of 10 μm) of the conductor after firing the paste was calculated from the resistance value of the wiring pattern 5. The metallization performance of the internal electrode portion and the via hole electrode portion of the completed MLC substrate was relatively evaluated by measuring the resistance value of one wiring formed by the internal electrode pattern and the via.

【0022】以上の結果を表1に示す。表1に示した抵
抗値、Cu還元度からも明らかなようにH2 SO4 ,H
NO3 ,H3 PO4 を添加することによって、より低い
還元温度でCuOからCuへの還元が可能であることが
分かる。このように、CuOからCuへの還元性にH2
SO4 ,HNO3 ,H3 PO4 の添加が効果的であるこ
とが明かである。
The above results are shown in Table 1. As is clear from the resistance value and Cu reduction rate shown in Table 1, H 2 SO 4 , H
It can be seen that CuO can be reduced to Cu at a lower reduction temperature by adding NO 3 and H 3 PO 4 . In this way, the reducing property of CuO to Cu is changed to H 2
It is clear that the addition of SO 4 , HNO 3 and H 3 PO 4 is effective.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】特に本実施例の場合、MgOを添加した導
電性ペーストはMLCの内部電極用に適し、他の添加物
としてとくに、Al2 3 を加えたものはビアホールの
埋設用の導電性ペーストとして最適である。
Particularly in the case of the present embodiment, the conductive paste added with MgO is suitable for the internal electrode of the MLC, and the other additive added with Al 2 O 3 is the conductive paste for filling the via hole. As is the best.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上のように本発明のCuOペースト
は、CuOの他にガラスフリットとMgOと、もしくは
さらにAl2 3 ,SnO2 ,TiO2 ,MnO2 の内
少なくとも1種以上を添加し、さらにH2 SO4 ,HN
3 ,H3 PO4 のうち少なくとも一種を添加すること
で、CuOのCuへの還元が容易になり、還元条件設定
の容易化、消費する水素量の低減、処理時間の短縮化、
コストの低減を得ることができる。
As described above, the CuO paste of the present invention contains, in addition to CuO, glass frit and MgO, or at least one of Al 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 and MnO 2. , Further H 2 SO 4 , HN
By adding at least one of O 3 and H 3 PO 4 , it becomes easy to reduce CuO to Cu, facilitating the setting of reducing conditions, reducing the amount of hydrogen consumed, and shortening the processing time.
A cost reduction can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の導電性ペーストを使用して
作製したMLCの内部電極ならびにビアホールの断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of internal electrodes and via holes of an MLC manufactured using a conductive paste according to an example of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の導電性ペーストのシート抵
抗測定パターンおよび還元性評価パターンを説明するグ
リーンシート積層体の表面図である。
FIG. 2 is a surface view of a green sheet laminate for explaining a sheet resistance measurement pattern and a reducibility evaluation pattern of a conductive paste according to an example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内部電極層 2 誘電体層 3 ビアホール電極 4 グリーンシート積層体表面 5 シート抵抗測定パターン 6 還元性評価パターン 1 Internal Electrode Layer 2 Dielectric Layer 3 Via Hole Electrode 4 Surface of Green Sheet Laminate 5 Sheet Resistance Measurement Pattern 6 Reducibility Evaluation Pattern

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 CuO粉末87.0〜99.4重量%に、ガラス
フリット0.5 〜10.0重量%と、MgO粉末0〜3.0 重量
%含有した無機成分と、少なくとも有機バインダと溶剤
よりなる有機ビヒクル成分と、H2 SO4 ,HNO3
3 PO4 のうち少なくとも一種を全量の0.05〜5.00重
量%備えたことを特徴とする導電性ペースト。
1. An inorganic component containing 87.0 to 99.4% by weight of CuO powder, 0.5 to 10.0% by weight of glass frit and 0 to 3.0% by weight of MgO powder, an organic vehicle component comprising at least an organic binder and a solvent, and H 2 SO 4 , HNO 3 ,
A conductive paste comprising at least one of H 3 PO 4 in an amount of 0.05 to 5.00% by weight based on the total amount.
【請求項2】 CuO粉末67.0〜96.4重量%に、ガラス
フリット0.5 〜10.0重量%、MgO粉末0〜3.0 重量
%、さらにAl2 3 ,SnO2 ,TiO2 ,MnO2
の内少なくとも1種以上を3.0 〜20.0重量%含有した無
機成分と、少なくとも有機バインダと溶剤よりなる有機
ビヒクル成分と、H2 SO4 ,HNO3 ,H3 PO4
うち少なくとも一種を全量の0.05〜5.00重量%備えたこ
とを特徴とする導電性ペースト。
2. CuO powder 67.0 to 96.4% by weight, glass frit 0.5 to 10.0% by weight, MgO powder 0 to 3.0% by weight, and further Al 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , MnO 2
An inorganic component containing at least one kind of 3.0 to 20.0 wt% of the organic vehicle component consisting of at least an organic binder and a solvent, at least one of the total amount of H 2 SO 4, HNO 3, H 3 PO 4 0.05 Conductive paste characterized by comprising ~ 5.00% by weight.
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