JPH05161966A - はんだ付け装置 - Google Patents

はんだ付け装置

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JPH05161966A
JPH05161966A JP3293866A JP29386691A JPH05161966A JP H05161966 A JPH05161966 A JP H05161966A JP 3293866 A JP3293866 A JP 3293866A JP 29386691 A JP29386691 A JP 29386691A JP H05161966 A JPH05161966 A JP H05161966A
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JP
Japan
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pot
solder
bath
station
supply line
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Pending
Application number
JP3293866A
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English (en)
Inventor
Alexander J Ciniglio
アレグザンダー・ジェームズ・シニグリオ
Neil C Squire
ニール・クリストファー・スクワイア
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Pillarhouse International Ltd
Original Assignee
Pillarhouse International Ltd
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Publication date
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Priority claimed from GB9022336A external-priority patent/GB2249277B/en
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Publication of JPH05161966A publication Critical patent/JPH05161966A/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K3/00Tools, devices or special appurtenances for soldering, e.g. brazing, or unsoldering, not specially adapted for particular methods
    • B23K3/06Solder feeding devices; Solder melting pans
    • B23K3/0646Solder baths

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Molten Solder (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】はんだ付け操作にあたってポット内のはんだの
表面を十分に清浄にする。 【構成】ポット10を浴の表面8を介して上昇させる前
に第1のスクレ−パブレ−ド14がはんだ浴の表面の掻
取りを行ない、次いで、ポットが表面8を介して持ち上
げられたときに第2のブレ−ド20がポット内のはんだ
の表面の掻取りを行なう。ブレ−ドは操作を容易にする
ため円形に動かされる。複数の空気圧作動ステ−ション
を操作位置を介して順次割送りするようにステ−ション
を担持した回転テ−ブルを備えた回転ステ−ションが、
はんだ付け装置に処理部品を供給するために配設されて
いる。空気供給ラインが各操作位置に対して分離して設
けられている。供給ラインの端部は、テ−ブルの導管に
対してシ−ルされている。ラインの空気圧が高くなる
と、リップがテ−ブルの下側部に対して付勢されてシ−
ルを行なう。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、はんだ付け装置、特
に、浸漬はんだ付け装置に関する。
【0002】
【従来の技術】浸漬はんだ付け装置においては、はんだ
付け(soldering) またはすずめっき(tinning) されるべ
きタグ(tag) またはリ−ド(lead)をはんだのポット(po
t) に浸漬する。ポットを、はんだの浴の表面の下から
持ち上げる。このような装置には、はんだ浴の表面にド
ロス(dross) (酸化したはんだ)が形成されるという特
定の問題がある。ポット内のはんだの表面にドロスがな
いようにするために、ポットを浴を介して持ち上げる前
に、浴の表面の掻取り操作を手短に行うようにしてい
る。
【0003】このような操作を行なうのに種々の装置が
知られているが、そのうちの1つに、表面のはんだを介
して前後動されるブレ−ドを使用する装置があり、別の
装置としてはんだの回転浴の表面を介して径方向に延び
るブレ−ドを使用したものがある。かかる装置は、英国
特許第1442966号(GB−A−1442966)
に記載されている。英国特許第563846号(GB−
A−563846)には、浴表面を介して、あるいは持
ち上げられるポットの表面を介してブレ−ドを上下方向
にア−ク状に動かす装置が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の装置では、ポット内のはんだの表面が十分に清浄にさ
れなかったり、あるいは再操作を可能にするのに十分な
高さにならないといった問題がある。
【0005】本発明は、従来技術が有する上記課題を解
決するためになされたものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の観点によ
れば、はんだ付け装置が提供されている。このはんだ付
け装置は、溶融はんだを収容する浴と、浴のはんだの表
面の下から動かすことができるポットとを備え、ポット
をはんだの表面を介して上昇させる前に浴内のはんだの
表面を掻取るとともに、ポットを浴内のはんだの表面を
介して上昇させた後にポットの上面を掻取るスクレ−パ
手段が配設されていることを特徴とする構成に係る。
【0007】本発明の第2の観点によれば、はんだ付け
装置が提供されている。このはんだ付け装置は、はんだ
の浴と、浴内のはんだの表面を横切って掻取りを行なう
ように配設されたワイパ−ブレ−ドとを備え、ブレ−ド
は完全に円形に動かされることを特徴とする構成に係
る。このはんだ付け装置においては、複数のブレ−ドを
配設するのが好ましく、ブレ−ドは、はんだ浴の表面を
横切って順次動かされる。はんだ浴は、重量があり、し
かも周囲に対する熱損失を少なくするように熱的に絶縁
する必要がある。かくして、浴を固定して保持しかつブ
レ−ドを浴の表面を横切って一定方向に動かすことが有
利である。
【0008】本発明の第3の観点によれば、回転ステ−
ションが提供されている。この回転ステ−ションは、複
数の空気圧作動ステ−ションと、操作が行なわれる複数
の位置を介してステ−ションを回転させる手段と、複数
の気体供給ラインとを備え、特定の位置においてステ−
ションを空気作動させる気体供給ラインが該位置に対し
て分離されている(discrete)ことを特徴とする構成に係
る。
【0009】本発明の第4の観点によれば、気体供給ラ
インと該供給ラインに対して動かされる表面との間のシ
−ルが提供されている。このシ−ルは、供給ラインの端
部を囲むとともに、気体供給ラインに加圧気体があると
きに外方へ撓んで表面に対して当接することにより供給
ラインの端部と表面との間にシ−ルを形成するように配
設されたフレキシブルシル部材からなる構成を備えてい
る。
【0010】
【作用】上記構成の本発明の第1の観点に係るはんだ付
け装置においては、ポットが浴の表面を乱す前に浴の表
面からドロスまたは浮きかす(scum)(主として酸化した
はんだ)を除去するとともに、ポットがはんだの表面を
乱した後にポット表面の掻取りを行なうことにより、一
層清浄でかつ一層正確に制御されたはんだのレベルが、
錫めっきまたははんだ付けを行なおうとする処理部品(c
omponent) のリ−ドに対して形成される。ポットが前に
掻取りが行なわれた浴の表面を乱すと、幾分かのドロス
が依然として存在する可能性があり、この場合には、ド
ロスがポットのリップ(lip) に付着する。
【0011】これにより、はんだは上昇したポットから
吸い上げられて浴に戻され、ポット内のはんだのレベル
は予期し得ないものとなる。ポットの表面の掻取りを行
ない、特に、ポットの縁の掻取りを行なうことにより、
ポットの縁にある浮きかすは取り去られ、サイホン作用
を止める。また、ポット内のはんだ表面に残っている浮
きかすは除去され、ポット内のはんだのメニスカスはポ
ットの縁のレベル付近まで低下する。
【0012】はんだの表面は、該表面を横切って動かさ
れるブレ−ドにより掻取りを行なうのが特に好ましい。
2つのブレ−ドを迅速に連続して使用することができ、
第1のブレ−ドは浴内のはんだの掻取りを行ない、第2
のブレ−ドはポット表面の掻取りを行なうのに使用され
る。ブレ−ドは、はんだ表面を横切って水平方向にア−
ク(arc) 状に作動されるア−ムに支持するのが特に好ま
しい。ブレ−ドは、はんだがブレ−ドに付着するのを低
減させるように熱伝導率の低い非金属材料から形成する
のが好ましい。
【0013】下端部が方形のブレ−ドは、それぞれのラ
ジアルア−ム(radial arm)に回動自在に取着することが
できる。ブレ−ドを垂直に配置した場合には、ブレ−ド
の下端は、浴内のはんだの表面よりも下に位置しあるい
はポットの縁の下に位置するように配設されるので、ブ
レ−ドはポットの縁のはんだ表面を横切って動くときに
傾斜され、ブレ−ドの重量によりその前にあるはんだの
浮きかすを担持することができる。
【0014】ポットの持ち上げ操作は、ブレ−ドがポッ
トの表面を横切って動くときには停止するのが好まし
い。
【0015】次に、上記の態様で構成されている本発明
の第2の観点に係るはんだ付け装置においては、はんだ
付けまたは錫めっき処理されるべき部品は、一連の操作
を通じて、回転ステ−ションにより支持される。例え
ば、処理部品は、かかるステ−ションにより4つの位置
を介して移動される。第1の位置は処理部品をステ−シ
ョンに装填する装填位置であり、第2の位置は処理部品
をフラックス化合物に浸漬する位置であり、第3の位置
はリ−ドに錫めっきを行なう位置であり、第4の位置は
処理部品の試験を行なうとともに取り出しを行なう位置
であり、試験された部品はサイクルが終了したときに第
1の位置で取り出すこともできる。
【0016】このような回転ステ−ションは、4つのス
テ−ションまたは部品ホルダを有する。通常は、各ステ
−ションは、1つ以上の特定の位置において機能するこ
とが必要とされ、これは、通常は、空気圧制御ラインに
より行なわれる。米国特許第4,004,333号(U
S−A−4004333)には、各位置に別々の空気圧
制御ラインを有する4位置回転ステ−ションが開示され
ている。このラインはステ−ションの軸線方向のシャフ
トを介して供給が行なわれるとともに、スリップリング
構成と同様に、それぞれの環状通路により半径方向のフ
ィ−ドを介してそれぞれの部品ホルダに接続されてい
る。
【0017】例えば、動力により前方へ移動させてから
動力により後方へ移動させるといった操作を行なうのに
2つのラインが必要とされる場合には、かかるラインは
8つ必要となり、シャフトの構成が大形で複雑なものと
なる。各位置に共通のラインを設けることもできるが、
全ての位置を同時に作動させなければならない。
【0018】また、上記した構成の第3の観点に係る回
転ステ−ションにおいては、操作位置に対して分離され
た気体供給ラインを設けることにより、ステ−ションと
供給ラインの制御を簡単にすることができる。気体供給
ラインは、ステ−ションを支持するテ−ブルを介して配
設するのが好ましく、テ−ブルは特定の位置にある供給
ラインを通って回転するとともに、気体供給ラインから
ステ−ションへ空気を供給する導管を備えている。
【0019】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に関して説
明する。図1および図2には、溶融はんだ4の浴2が図
示されている。はんだは、浴内のヒ−タ(図示せず)に
より加熱される。浴の端部6aおよび6bは、はんだ4
の表面8から離れるように傾斜している。図1において
は、ポット即ち筒体(thimble) 10がはんだ4の表面8
の下方に配置され、上下に移動自在のア−ム12に支持
されている。
【0020】高さがLの第1のスクレ−パブレ−ド14
が、はんだ4の表面を介してブレ−ド14を動かすラジ
アルア−ム16に回動自在に取着されている。浴2は、
平面が略ア−ク状をなしており(図3)、ブレ−ド14
がはんだの表面の実質的な部分を掃除することができる
ようにしている。ブレ−ド14が、図1において、左か
ら右へ移動すると、ブレ−ドの下端部15が浴2の左側
の傾斜端部6aを通ってはんだの表面上へ摺動する。こ
れにより、はんだ4の表面のドロスはブレ−ド14の前
方へ運ばれ、浴2の右側の傾斜端部6bへ掻き上げられ
る。実際には、幾分かのドロスが浴の端部付近に残留す
る可能性があるが、はんだ表面のポット10の上方に位
置する領域は、はんだ表面を引きずられるブレ−ド14
の底端部15により掻き取られる。
【0021】ア−ム16とブレ−ド14がポットを通り
過ぎると、ポット10は、ア−ム12を持ち上げること
により上方へ移動される。これは、例えば、動きを正確
に制御するために、モ−タ駆動式の親ねじ機構により行
なうことができる。ポット10は、上端18がはんだの
表面8から出ると、図2に示すように直ちに停止され、
第2のスクレ−パブレ−ド20をポット10内のはんだ
24の表面22で動かし、かくして、ブレ−ドは浴4内
のはんだの表面から隔離された状態に置かれる。ブレ−
ド20は、第2のラジアルア−ム21に回動自在に取着
され、ラジアムア−ムの方向へ見た場合にポットの幅全
体に亘って延びている。
【0022】ブレ−ド20がポット10から離れると、
ポットは更に上方へ移動されて、処理部品(図示せず)
のはんだタグまたはリ−ドの浸漬を行なう(および/ま
たは素子を下降させてはんだ24と遭遇させる)。ブレ
−ド20の底端部21はポットの上端18の直下に位置
するポットの側部と接触するとともに、側部を上方へ摺
動して上端18をこすってきれいにする。ポットの上端
は、平坦であり、平面的に見ると、ブレ−ド20の底端
部と平行をなし、ブレ−ドが縁18をこすることができ
るようになっている。
【0023】処理部品のリ−ドにはんだ処理または錫め
っきが行なわれると、ポット10は、はんだ表面8の下
まで降下され、ア−ム14による次の掻取り操作および
次の浸漬操作に備える。
【0024】ブレ−ド14と20は、非金属の耐熱性材
料から形成される。熱伝導率または熱容量の小さい材料
を使用することにより、ブレ−ドがはんだの表面を動く
ときにはんだがブレ−ド上で固化しないようにすること
ができる。
【0025】ブレ−ド20は、ポット18の側部にある
ドロスをポット内のはんだから分離するとともに、ポッ
トの上端部の上方からはんだのメニスカスを除去する作
用を行なう。
【0026】ブレ−ド14および20は離隔して配置さ
れ、ブレ−ド20は90度遅れてブレ−ド14に従う。
ブレ−ドの掻取り操作は連続して行なうのが好ましい。
掻取り操作は、2通りの速度、即ち、掻取りの際の第1
の比較的遅い速度と第2の比較的早い速度とで行なっ
て、ブレ−ドを360度に亘って動かすようにすること
ができる。ポット10は連続的に動かされるが、第2の
ブレ−ドによる掻取りの際には瞬間的に停止されるとと
もに、処理部品のリ−ドをはんだに浸漬する際には、リ
−ドをはんだに浸漬するのに要する時間に応じて停止さ
れる。
【0027】ブレ−ド14と20は、それぞれ複数配設
することができ、この場合には、ブレ−ドは、これらの
ブレ−ドの一回転ごとに複数の浸漬操作を行なうことが
できるように均等に離隔して配置することができる。好
ましい実施例においては、各ブレ−ドが1つずつ設けら
れており、ブレ−ド機構は360度掻取りを行ない、次
の処理部品を、次の回転ステ−ションにより所定の位置
に配置する前あるいは処理部品を反転して他方の側のリ
−ドにはんだ処理を行なう前に、基準位置へ復帰するよ
うになっている。
【0028】図3および図4には、スクレ−パブレ−ド
支持機構とポット即ち筒体10の昇降機構が詳細に示さ
れている。ポット10とア−ム12は、例えば、異なる
形状のポットを使用するためにポットを容易に交換する
ことができるように、速やかに取外し自在となってい
る。
【0029】装置は作動を同期させて、操作の効率を高
めるようにするのが好ましいが、これは、循環移動させ
る部品をステップモ−タを使用して駆動させるととも
に、ポットをマイクロプロセッサの制御の下で上昇させ
ることにより行なうことができる。
【0030】図1乃至図4に関して説明した浸漬はんだ
付け装置と、該装置の全体構成、材料および操作の態様
は、当業者が容易に理解することができるものである。
上記した装置の特に新規な特徴は、はんだ表面を掻取る
態様とその操作態様にも存在する。
【0031】図5について説明すると、回転ステ−ショ
ン32は、下端部(図示せず)が駆動され、かつ、固定
支持体40により担持されているテ−パ付きロ−ルベア
リング38に軸受けされたシャフト36に支持されてい
る回転テ−ブル34を備えている。テ−ブル34は、4
つのステ−ション(3つが図示)42を支持し、該ステ
−ション42は、テ−ブル34に対して固定され、4つ
の位置44を通ってテ−ブル34とともに回転するよう
になっている。ステ−ション42は空気圧作動され、構
成部品43を保持するようになっている。
【0032】例えば、ステ−ション42により担持され
た製品に対する操作のシ−ケンスは次の通りとすること
ができる。
【0033】位置1:処理部品43をステ−ション42
に置く。
【0034】位置2:処理部品43の一方の側の電気リ
−ド45にフラックス処理を行ない、構成部品を反転し
て反対側にフラックス処理を行ない、処理部品を最初の
配向状態に戻す。
【0035】位置3:処理部品の一方の側の電気リ−ド
45に錫めっき(はんだ付け)を行ない、処理部品を反
転して反対側のリ−ドにはんだ付けを行ない、処理部品
を最初の配向状態に戻す。
【0036】位置4:処理部品の試験を行なう。
【0037】位置1:処理部品を取り除き、新しい処理
部品をステ−ションに配置する。
【0038】一般には、フラックスおよびはんだ付け操
作は、フラックスまたははんだのポットをリ−ド45の
位置まで持ち上げることにより、浸漬技術を使用して行
なうことができ、あるいは、それぞれの位置にあるオ−
バ−ヘッドラム(overhead ram)により下方へ動かされる
ばね作動のスライド(sprung slide)に取着することがで
きる。
【0039】制御を容易にするためには、処理部品を、
次の位置まで移動する前に、一定の配向状態に戻すのが
望ましい。空気圧装置を使用する場合には、これは、2
つの空気供給ラインを前方および反対方向に配置するこ
とにより最良に行なうことができ、処理部品ホルダは1
80度前方へ回転され、次に再び後方へ回転される。こ
のためには、各それぞれの位置に2つの空気供給ライン
が必要となる。動き止め(detent)機構によりホルダを各
配向状態に保持することができる。
【0040】かかる空気供給ライン48が1つずつ、図
5において、各位置44aおよび44cに図示されてい
る。ラインは支持体40に固着され、かつ、回転テ−ブ
ル34の下側部52から短い距離に亘って離隔して配置
された開放端部50を有している。ポリテトラフルオロ
エチレン(PTFE)のシ−ル部材54が、ライン48
の端部50の周囲に配置されている。部材54は、ライ
ン48の端部50の周囲に滑り嵌めされかつ一端にフラ
ンジ58を有するスリ−ブ部56を備え、フランジはラ
イン48の端部に近接して形成されたねじ付きリブ60
に対してナット61により保持されている。
【0041】スリ−ブ56の他端には、半径方向内方に
配置される環状のリップ62が形成されている。リップ
62は、図6に明瞭に示すように、横断面がスリ−ブの
軸線へ向けてテ−パが付されている。リップ62の内縁
部65は、テ−ブル34の下側部52から約0.04乃
至0.1mm離隔し、テ−ブル34の導管64の横断面
よりも大きい開口を画定している。
【0042】テ−ブル34が新たな位置まで90度割送
りされると、それぞれのステ−ションの導管64は、こ
の新たな位置においてライン48の開放端部50と整合
される。導管34はステ−ション42の空気取入れ部6
6と接続される。
【0043】空気が加圧下でステ−ション42に供給さ
れると、リップ62は空気圧により外方へ押圧されてテ
−ブルの下側部に当接することにより、ライン48と導
管64との間にシ−ルを形成する。操作の終了時であっ
て、テ−ブル34が別の位置を介して割送りされる前に
空気圧が解除されると、リップ62は、テ−ブル34か
ら後方へ解放され、テ−ブル34の回転によるリップ6
2の摩粍を低減させることができる。
【0044】ステ−ションが、処理部品の直線的な動き
の制御および製品の回転制御あるいは本実施例において
は前後の動きの制御のような別の空気圧作動制御を行な
う場合には、別の空気制御体、従って、別の導管64が
テ−ブル64に配設される。各導管64は、各位置にお
いて空気供給ライン48と連係されるが、その位置にお
いて操作が行なわれない場合には、導管は使用されな
い。
【0045】かくして、回転ステ−ションの各位置に多
数の空気圧作動ラインを配設することが可能であり、各
ラインは、該ラインに複雑かつ大きな回転接続体を設け
ることを必要とせずに、個々に制御することができる。
【0046】図7は、図1乃至図4に示すはんだ付け装
置と並列して配置された図5の回転ステ−ションを示
し、このように組み合わせて配設することにより、本発
明のはんだ付け装置は特に優れた効果を奏することがで
きる。
【0047】上記した実施例に関して種々の修正および
変更を加えることができるが、かかる修正および変更は
特許請求の範囲に包含される限り、本発明の範囲に含ま
れるものである。
【0048】
【発明の効果】本発明の装置は、上記のように構成され
ているので、ポット内のはんだの表面を十分に清浄にす
ることができるとともに、ポット内のはんだのレベルを
操作可能な高さに保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この図は、本発明に係るはんだ付け装置の第1
の実施例を示す概略横断面図である。
【図2】この図は、第2の操作位置にある図1に示すは
んだ付け装置の概略横断面図である。
【図3】この図は、スクレ−パブレ−ドが除去された図
1のはんだ浴と装置を詳細に示す平面図である。
【図4】この図は、図1の4−4線横断面図である。
【図5】この図は、本発明の実施例の装置における回転
ステ−ションを示す横断面図である。
【図6】この図は、本発明に係るシ−ルを示す図5の回
転ステ−ションの拡大横断面図である。
【図7】この図は、図1乃至4のはんだ浴装置と図5の
回転ステ−ションとの組み合わせを示す部分断面図であ
る。
【符号の説明】
2 浴 4 はんだ 6a、6b 浴端部 8 表面 10 ポット 12 ア−ム 14 スクレ−パブレ−ド 15 下端部 16 ラジアルア−ム 18 上端部 20 スクレ−パブレ−ド 21 ラジアルア−ム 22 はんだ表面 24 はんだ 32 回転ステ−ション 34 回転テ−ブル 36 シャフト 38 ロ−ルベアリング 40 支持体 42 ステ−ション 43 処理部品 44 位置 45 リ−ド 48 空気供給ライン 50 開放端部 52 下側部 54 シ−ル部材 56 スリ−ブ部 58 フランジ 62 環状リップ 64 導管 65 内側縁
フロントページの続き (72)発明者 ニール・クリストファー・スクワイア 英国,エセックス,シー・エム・1,9・ キュー・エイ,ケルムスフォード,モウル シャム・ドライブ,169

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶融はんだを収容する浴と、浴のはんだ
    の表面の下方から移動自在となっているポットとを備
    え、ポットをはんだの表面を介して上昇させる前に浴内
    のはんだの表面を掻取るとともに、ポットを浴内のはん
    だの表面を介して上昇させた後にポットの上面を掻取る
    スクレ−パ手段が配設されていることを特徴とするはん
    だ付け装置。
  2. 【請求項2】 浴をア−ク状に一方向にのみ横切るよう
    に円形に動かされるブレ−ドを備えることを特徴とする
    請求項1に記載のはんだ付け装置。
  3. 【請求項3】 ブレ−ドの移動速度は実質上一定である
    ことを特徴とする請求項2に記載のはんだ付け装置。
  4. 【請求項4】 スクレ−パ手段がポット内のはんだの表
    面の掻取りを行なっている際に、ポットの上端がはんだ
    の表面から上に出た直後にポットを停止させることを特
    徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のはんだ付け
    装置。
  5. 【請求項5】 ポットを、浴内のはんだの表面下の第1
    の固定位置からポットの上面が掻取られる第2の固定位
    置と、処理部品のリ−ドがポット内のはんだに浸漬され
    る第3の位置とへ動かすことを特徴とする請求項4に記
    載のはんだ付け装置。
  6. 【請求項6】 スクレ−パ手段は浴内のはんだの表面を
    掻取る第1のブレ−ドと、ポットの表面を掻取る第2の
    ブレ−ドとの2つのブレ−ドを備えることを特徴とする
    請求項1乃至5のいずれかに記載のはんだ付け装置。
  7. 【請求項7】 スクレ−パ手段はポットの上端の周囲か
    らドロスを除去するようにポットの上端を横切って掻取
    りを行なうことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか
    に記載のはんだ付け装置。
  8. 【請求項8】 はんだの浴と、浴内のはんだの表面を横
    切って掻取りを行なうように配設されたワイパ−ブレ−
    ドとを備え、ブレ−ドは完全に円形に動かされることを
    特徴とするはんだ付け装置。
  9. 【請求項9】 複数の空気圧作動ステ−ションと、操作
    が行なわれる複数の位置を介してステ−ションを回転さ
    せる手段と、複数の気体供給ラインとを備え、特定の位
    置においてステ−ションを空気作動させる気体供給ライ
    ンが該位置に対して分離されていることを特徴とする回
    転ステ−ション。
  10. 【請求項10】 特定の位置におけるステ−ションの作
    動を制御する供給ラインがステ−ションを支持するテ−
    ブルの導管に接続されていることを特徴とする請求項9
    に記載の回転ステ−ション。
  11. 【請求項11】 供給ラインはテ−ブルの下側部に接続
    されていることを特徴とする請求項10に記載の回転ス
    テ−ション。
  12. 【請求項12】 供給ラインの気体の圧力により供給ラ
    インとテ−ブルとの間にシ−ルを形成するように、供給
    ラインがテ−ブルに対して付勢されるシ−ル部材により
    テ−ブルにシ−ルされていることを特徴とする請求項9
    乃至11のいずれかに記載の回転ステ−ション。
  13. 【請求項13】 気体供給ラインと該供給ラインに対し
    て動かされる表面との間のシ−ルにおいて、供給ライン
    の端部を囲むとともに、気体供給ラインに加圧気体があ
    るときに外方へ撓んで表面に対して当接することにより
    供給ラインの端部と表面との間にシ−ルを形成するよう
    に配設されたフレキシブルシル部材からなることを特徴
    とするシ−ル。
  14. 【請求項14】 シ−ル部材は半径方向の内側端部に向
    けてテ−パが付されている環状リップからなり、内側端
    部は加圧気体により表面に対して軸線方向外方へ付勢さ
    れることを特徴とする請求項13に記載のシ−ル。
  15. 【請求項15】 シ−ル部材は供給ラインの端部の周囲
    に滑り嵌めされたスリ−ブ部を備えることを特徴とする
    請求項14に記載のシ−ル。
  16. 【請求項16】 溶融はんだを収容する浴と、浴のはん
    だの表面の下から動かすことができるポットと、ポット
    をはんだの表面を介して上昇させる前に浴内のはんだの
    表面を掻取るとともに、ポットを浴内のはんだの表面を
    介して上昇させた後にポットの上面を掻取るスクレ−パ
    手段とからなるはんだ付け部と、 複数の空気圧作動ステ−ションと、操作が行なわれる複
    数の位置を介してステ−ションを回転させる手段と、複
    数の気体供給ラインとを備え、特定の位置においてステ
    −ションを空気作動させる気体供給ラインが該位置に対
    して分離されている回転ステ−ション部とを備えること
    を特徴とするはんだ付け装置。
  17. 【請求項17】 ポットが浴内のはんだの表面の下の第
    1の位置からポットの上面の掻取りが行なわれる第2の
    固定位置と処理部品のリ−ドがポット内のはんだに浸漬
    される第3の固定位置とへ移動されるように配設されて
    いることを特徴とする浸漬はんだ付け装置。
JP3293866A 1990-10-15 1991-10-15 はんだ付け装置 Pending JPH05161966A (ja)

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