JPH05164677A - 粒状性物体の粒度分布測定方法 - Google Patents

粒状性物体の粒度分布測定方法

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JPH05164677A
JPH05164677A JP3330499A JP33049991A JPH05164677A JP H05164677 A JPH05164677 A JP H05164677A JP 3330499 A JP3330499 A JP 3330499A JP 33049991 A JP33049991 A JP 33049991A JP H05164677 A JPH05164677 A JP H05164677A
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particle size
size distribution
surface shape
granular object
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JP3330499A
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Daisuke Onoda
大介 斧田
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Kawasaki Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】短い時間で粒状性物体の正確な粒度分布を求め
ることを目的する。 【構成】粒状性物体1の表面がレーザー距離計3にて検
出され、距離信号が表面形状修正処理部4に伝達され
る。表面形状修正処理部4では、順次入力する距離信号
をもとに波形信号を求め、該波形信号を粒度抽出部5に
供給する。粒度抽出部5では、前記波形信号に対して微
分処理,及びスレッシュホールド処理を施して粒度分布
を算出して、該粒度分布を補正演算部6に供給する。補
正演算部6では、また、補正データ格納部7からのデー
タをもとに粒度確率ベクトルの逆行列 V -1を求め、そ
の逆行列V -1を前記粒度分布の値に掛けて、該粒度分
布を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鉱石等のばら物からな
る粒状性物体の表面形状から、その粒状性物体の粒度分
布を測定する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、鉱石等の粒状性物体を測定する方
法としては、篩を使用した方法が一般的である。この篩
を使用した方法は、例えば3mm,5mm,10mm,・・
・,30mm,50mmの篩目を有する篩を予め準備してお
き、搬送されてくる粒状性物体から試料をサンプリング
して、そのサンプリングした試料を篩目の最も小さい3
mmの篩から50mmの篩によって順次 篩い分け、篩い分
けられて分類された各試料の重量から、3mm以下,3〜
5mm,5〜10mm,・・・,50mm以上の夫々の原料の
重量比を求めることで、該粒状性物体の粒度分布として
いた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の篩を使用した測定方法では、搬送されてくる鉱石を
サンプリング装置でサンプリングした後に、篩にて各粒
度毎の重量分布を夫々測定するために時間がかかり即時
性に欠けるという問題があった。なお、本出願人は、粒
状性物体の粒度分布のオンライン判定を特願平2−14
2585号において提案したが、その測定原理は良いも
のの粒度決定に当たり補正すべき点を見出し、その改良
を図ったのである。
【0004】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、短い時間で粒状性物体の正確な粒度分
布を求めることを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の粒状性物体の粒度分布測定方法は、多数の
粒体から構成される粒状性物体の表面形状を測定し、そ
の表面形状に応じた波形信号に微分処理,及びスレッシ
ュホールド処理を実施して前記粒状性物体の粒度分布を
検出した後、その検出した粒度分布に、前記粒状性物体
を構成する各粒度が夫々,各階級の粒度として検出され
る確率をもとに統計処理を施して、前記粒度分布を補正
することを特徴としている。
【0006】
【作用】粒状性物体の表面形状をレーザ距離計等によっ
て測定し、その表面形状に応じた波形信号を微分処理及
びスレッシュホールド処理をすることで、該表面に顕れ
た各粒体によって形成される凹凸形状の凹部間のピッチ
を求め、その各ピッチを粒体の粒度と推定して測定対象
である粒状性物体の粒度分布を算出する。
【0007】しかしながら、表面形状を形成する凹凸の
状態からでは、図5に示されるように、同じ粒度の粒体
であっても、粒体同士の重なり具合によって実際の粒度
よりも小さい粒度として検出される場合がある。このた
め、前記方法で粒度Xに検出されたものの中には、実際
の粒度が、検出された粒度Xよりも大きいものが所定の
確率で混在している。
【0008】そこで、上記表面形状により算出した粒度
分布に各粒度の粒体が測定対象の各階級とみなされる確
率である粒度確率ベクトルを、測定した粒度分布に演算
して、実際よりも小さい粒度の階級として処理された粒
体を所定の大きさの粒度の階級とみなす補正をすること
で、前記測定した粒度分布を実際の粒度分布に収束させ
て、より実際の粒度分布に近い値に補正する。
【0009】次に、その補正の原理,及び上記粒度確率
ベクトルを説明する。例えば図4に示すような粒度Lの
粒体が、L1からL1+dL1と測定される確率を考え
てみる。このとき、どの測定ラインS(スレッシュホー
ルドされるライン)で検出されるかどうかの確率が同一
とすると、その粒体がL1〜L1+dL1の粒度と測定
される確率P(L1)は、下記式で表すことができる。
【0010】但し、Lxは検出可能域の高さ量を示して
いる。 これをもとに、W個の同じ粒度Lの粒体からなる粒状性
物体の表面形状を条件を変えて繰り返し測定すると、前
記方法で検出する粒度分布Wsは、測定回数を増やすほ
ど下記式に示すような粒度分布に収束するような値で検
出される。 Ws(0〜L1 ) = P(0〜L1 ,L) ・W Ws(L1 〜L2 ) = P(L1 〜L2 ,L)・W Ws(L2 〜L3 ) = P(L2 〜L3 ,L)・W ・ ・ ・ Ws(Ln-1〜Ln)= P(Ln-1〜Ln,L)・W なお、上記粒度分布においては、粒度を0〜L1 ,L1
〜L2 ,L2 〜L3 ,・・・,Ln-1〜Lnのn個の階
級に分割している。また、Ws(X1 〜X2 )はX1
2 の階級の度数を表し、P(X1 ,X2 )は、上記
(1)式に基づいて粒度X2 の粒体が階級X1 と見なさ
れる確率を表している。
【0011】また、他の各粒度の粒体においても上記と
同様な粒度分布が与えられる。すると、階級を前記と同
様のn個に分類し、0〜L1 の粒度がW(0〜L1
個,L1 〜L2 の粒度がW(L1 〜L2 )個,・・・,
Ln-1〜Lnの粒度がW(Ln-1〜Ln)個からなる粒
状性物体の粒度分布を測定した場合には、測定回数を増
やすほど、その粒状性物体の前記方法で測定される粒度
分布Wsは、次の式に近似した値で検出される。
【0012】 Ws(0〜L1 )= P(0〜L1 ,0〜L1 )・W(0〜L1 ) +P(0〜L1 ,L1 〜L2 )・W(L1 〜L2 ) ・ ・ ・ +P(0〜L1 ,Ln-1〜Ln)・W(Ln-1〜Ln) Ws(L1 〜L2 )= P(L1 〜L2 ,0〜L1 )・W(0〜L1 ) +P(L1 〜L2 ,L1 〜L2 )・W(L1 〜L2 ) ・ ・ ・ +P(L1 〜L2 ,Ln-1〜Ln)・W(Ln-1〜Ln) ・ ・ ・ Ws(Ln-1〜Ln)= P(Ln-1〜Ln,0〜L1 )・W(0〜L1 ) +P(Ln-1〜Ln,L1 〜L2 )・W(L1 〜L2 ) ・ ・ ・ +P(Ln-1〜Ln,Ln-1〜Ln)・W(Ln-1〜Ln) 但し、上記式において、実際の粒度よりも大きな粒度と
して測定されることはないので、P(Ln-1〜Ln,L
1 〜L2 )等の値はゼロとなる。
【0013】上記から分かるように、前記n個の階級に
分類される粒度の粒体からなる粒状性物体を測定する
と、測定回数を増やす程、下記の式に示される行列式に
近い値に収束して検出されるようになる。
【0014】
【数1】
【0015】これを、V Ws= V P・V Wのように表
すとすると、V Pが前記粒度確率ベクトルを表し、ま
た、上記式から分かるようにV Pは正方行列であるので
必ず逆行列が存在して、V W=V -1V Wsと置き換
えることができる。この式から分かるように、実測した
粒度分布に前記粒度確率ベクトルV Pの逆行列V -1
演算することで、実測された粒度分布Wsは実際の粒度
分布Wに近づいた値に補正される。
【0016】上記粒度確率ベクトルを構成する階級に属
する粒体の粒度が夫々の階級として検出される確率は、
各粒体のモデルの形状を選定して該モデルの形状から理
論的に計算して求めるか、各階級の粒状性物体が夫々の
階級と見なされる確率を、前もって個々に実測して求め
ておく。
【0017】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
なお、下記に説明する実施例では、測定対象の粒状性物
体は0〜50mmの粒度の粒体が混在して構成されている
ものとし、且つ0〜10,10〜20,20〜30,3
0〜40,40〜50の5個の階級に分類して粒度分布
を求める一例で説明する。
【0018】まず構成を説明すると、図1に示すよう
に、測定原料である粒状性物体1がベルトコンベヤ2の
上行ベルトに載せられて所定の位置まで搬送されてい
る。その上行ベルトが通過する途中の上方には受光軸を
下方に向けたレーザー距離計3が設置されて、コンベヤ
2で搬送されてくる粒状性物体1の表層部の凹凸を距離
の変化として測定している。
【0019】そのレーザー距離計3は、表面形状処理部
4に接続され、その表面形状処理部4に対象とする粒状
性物体1表層部までの距離に対応する距離信号を供給す
る。その表面形状処理部4では、入力した距離信号を解
析して、測定対象の粒状性物体1の表面形状を算出可能
になっている。表面形状修正処理部4は、粒度抽出部5
に接続されていて、その算出した表面形状に応じた波形
信号を粒度抽出部5に供給可能になっている。その粒度
抽出部5は、微分回路,スレッシュホールド処理回路,
及び粒度分布算出回路を備えて、入力した波形信号を微
分演算した後、所定の測定ラインでスレッシュホールド
処理を施して各粒体の粒度を求め、求めた各粒度の個数
をもとに粒状性物体1の粒度分布を算出可能になってい
る。
【0020】粒度抽出部5は、補正演算部6に接続され
ていて、該粒度抽出部5で算出した粒度分布の信号を該
補正演算部6に供給可能になっている。その補正演算部
6はまた補正データ格納部7と接続されていて該補正デ
ータ格納部7から目的の補正データを入力し、前記入力
した粒度分布と演算を行って粒度分布の補正するように
なっている。
【0021】該補正データ収納部7内に格納されている
データは、各階級の粒体のサンプル1000個を複数回
測定してその階級の確率分布を夫々予め算出したもので
ある。例えば、粒度が40〜50mmのサンプル1000
個をレーザー距離計3で複数回測定して、その結果が、
例えば粒度40〜50mmの階級が500個,粒度30〜
40mmの階級が200個,粒度20〜30mmの階級が1
50個,粒度10〜20mmの階級が100個,粒度0〜
10mmの階級が50個と見なされる粒度分布に収束する
ようであれば、実際の粒度が40〜50mmの階級の粒体
は、40〜50,30〜40,20〜30,10〜2
0,0〜10の粒度の階級と見なされる確率は夫々50
%,20%,15%,10%,5%となり、この値を補
正データ格納部7に格納しておく。他の階級についても
同様にして各階級と見なされる確率を求めておき、該補
正データ格納部に格納しておく。
【0022】上記のような粒度分布を測定する装置にお
いては、ベルトコンベヤ2によって0〜50mmの粒径の
粒体が混在してなる粒状性物体1が搬送されてくる。そ
して、その搬送されてくる粒状性物体1の表層部の凹凸
に応じた距離がレーザー距離計3にて検出されて該距離
に応じた距離信号が表面形状修正処理部4に伝達され
る。
【0023】表面形状修正処理部4においては、順次入
力する距離信号をもとに該粒状性物体1の表層部が形成
する凹凸形状を距離変化として認識し、該距離変化を波
形信号に変換する。例えば、図2(a)に示すように粒
状性物体の表面が形成されているとすると、図2(b)
に示すような表面形状の波形信号が算出される。算出さ
れた表面形状に応じた波形信号が粒度抽出部5に供給さ
れる。その粒度抽出部5においては、図3に示すよう
に、前記波形信号に対して(図3(a))微分処理を施
し、続いて、図3中の所定の測定ライン8でスレッシュ
ホールド処理を施して(図3(b))入力した凹部間の
ピッチを求め、その各ピッチを測定した粒状性物体の各
粒体の粒度と見なして(図3(c))各階級の粒度の個
数を算出し、もって対象とする粒状性物体1の粒度分布
を算出する。
【0024】粒度抽出部5は、算出した粒度分布を補正
演算部6に供給する。その補正演算部6では、また、対
象とする階級の各確率を補正データ格納部7から入力し
て、作用で説明した粒度確率ベクトルV P及びその逆行
V -1を求め、その逆行列V -1を入力した粒度分布
の値に掛けて、該粒度分布を補正する。上記補正は、作
用でも説明したが、全てが同じ粒度で構成される粒状性
物体であっても粒体同士の重なり具合によっては、図5
に示すように、測定し算出したピッチが実際の粒度より
も小さい粒度として算出される。このため、表面形状か
ら検出した粒度の中には、その粒度よりも実際の粒度が
大きいものが所定の確率で混在している。これを、該粒
度確率ベクトルの逆行列V -1を演算することで補正
し、もって実際の粒度分布に収束するようにするもので
ある。
【0025】このように、本実施例の粒度分布の検出で
は、短い時間で従来よりも精度の良い粒度分布を検出可
能になる。そして、その粒度分布に基づいて、リアルタ
イムに粒状性物体を搬送するベルトコンベヤ2の速度を
変更したり、該ベルトコンベヤ2に粒状性物体1を供給
する図示しないホッパからの該粒状性物体1の粒度の比
率を修正したりことができる。
【0026】上記補正処理をすることで実際の粒度分布
に向けて実際に収束するかどうかを実際に測定し、補正
前の検出した粒度分布,補正後の粒度分布,及び実際の
粒度分布を求めると、図6に示すような結果が得られ
た。ここで、図6中,点線が実際の粒度分布,鎖線が補
正前の粒度分布,実線が補正後の粒度分布である。
【0027】この図6から分かるように、小さい粒度と
誤認された粒体が所定の正しい粒度に補正されて、補正
後の粒度分布が実際の粒度分布側に収束し、実際の粒度
分布に近づいていることがわかる。なお、上記実施例に
おいて、補正データ格納部7には0〜50mmまでの粒度
に対応した確率値を格納しているが、0〜100mm等よ
り広い範囲の粒度に対応した値を格納しておいて、補正
データとして必要な粒度の確率値のみを補正演算部6に
供給可能にするようにしておいてもよい。また、補正デ
ータ格納部7に各粒度確率ベクトルを予め算出して格納
しておき、該粒度確率ベクトルのデータを補正演算部6
に供給可能にしてもよい。
【0028】また、前記実施例においては、対象とする
粒状性物体の粒度の範囲が既知のものとして説明してい
るが、粒度抽出部6で求めた粒度分布に存在する粒度の
範囲を補正データ格納部7に供給して、該粒度の範囲に
対応する階級の確率情報を該補正データ格納部7から補
正演算部6に伝達可能にしてもよい。
【0029】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の粒状
性物体の粒度分布測定方法では、検出した粒度分布に統
計処理をすることで、表面形状から検出された該粒状性
物体の粒度分布が、より実際の値に近づくと共に迅速に
検出可能になるという効果があり、これによって、検出
した粒度分布に基づく、原料ヤードの整粒,高炉粒度別
装入,若しくはベルレス原料装入等における粒度の制御
がより迅速に且つ正確に行えるようになるという効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る実施例の粒状性物体の粒度分布測
定装置を示す概略構成図である。
【図2】本発明に係る実施例の表面形状処理部での処理
状態を示す図である。
【図3】本発明に係る実施例の粒度抽出部での処理状態
を示す図である。
【図4】粒体の検出される粒度の変化を示す図である。
【図5】粒体間の重なり状態の一例を示す側面図であ
る。
【図6】本発明に係る実施例により測定した粒度分布を
示す図である。
【符号の説明】
1 粒状性物体 3 レーザー距離計 4 表面形状処理部 5 粒度抽出部 6 補正演算部 7 補正データ格納部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多数の粒体から構成される粒状性物体の
    表面形状を測定し、その表面形状に応じた波形信号に微
    分処理,及びスレッシュホールド処理を実施して前記粒
    状性物体の粒度分布を検出した後、その検出した粒度分
    布に、前記粒状性物体を構成する各粒度が夫々,各階級
    の粒度として検出される確率をもとに統計処理を施し
    て、前記粒度分布を補正することを特徴とする粒状性物
    体の粒度分布測定方法。
JP3330499A 1991-12-13 1991-12-13 粒状性物体の粒度分布測定方法 Pending JPH05164677A (ja)

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