JPH05166789A - 基板の洗浄乾燥装置 - Google Patents
基板の洗浄乾燥装置Info
- Publication number
- JPH05166789A JPH05166789A JP35077291A JP35077291A JPH05166789A JP H05166789 A JPH05166789 A JP H05166789A JP 35077291 A JP35077291 A JP 35077291A JP 35077291 A JP35077291 A JP 35077291A JP H05166789 A JPH05166789 A JP H05166789A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cleaning
- substrate
- roller conveyor
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
［目的］外部環境に影響されず、パーティクル付着を阻
止する。 ［構成］複数の洗浄ユニットを並設してローラーコンベ
アで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基板を
浸漬させ、超音波洗浄及びシャワー洗浄を行う洗浄手段
に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾燥槽、
プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲートバ
ルブをもうけ、乾燥槽には真空排気手段とローラーコン
ベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽には真空
排気手段とプラズマを発生させる高周波コイルとローラ
ーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アンローダ槽
には真空排気手段とスローリークバルブとを設けた基板
の洗浄乾燥装置
止する。 ［構成］複数の洗浄ユニットを並設してローラーコンベ
アで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基板を
浸漬させ、超音波洗浄及びシャワー洗浄を行う洗浄手段
に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾燥槽、
プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲートバ
ルブをもうけ、乾燥槽には真空排気手段とローラーコン
ベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽には真空
排気手段とプラズマを発生させる高周波コイルとローラ
ーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アンローダ槽
には真空排気手段とスローリークバルブとを設けた基板
の洗浄乾燥装置
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の洗浄槽やシャワ
ー槽を有し、これらの洗浄槽へローラーコンベアにより
ガラス基板を順次送りながら洗浄し、乾燥させるガラス
基板等の洗浄乾燥装置に関するものである。
ー槽を有し、これらの洗浄槽へローラーコンベアにより
ガラス基板を順次送りながら洗浄し、乾燥させるガラス
基板等の洗浄乾燥装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示装置用ガラス基板を洗浄
する装置は、一般に、洗浄槽、超音波洗浄槽、温液槽等
の複数の洗浄槽やシャワー槽を並設し、ローラーコンベ
アにより順次移送させながら、各槽間に浸漬又はシャワ
ーにより洗浄し、更に別体に設置したエアーナイフ装
置、赤外線加熱装置、紫外線照射装置で乾燥させる洗浄
乾燥装置が用いられてきた。
する装置は、一般に、洗浄槽、超音波洗浄槽、温液槽等
の複数の洗浄槽やシャワー槽を並設し、ローラーコンベ
アにより順次移送させながら、各槽間に浸漬又はシャワ
ーにより洗浄し、更に別体に設置したエアーナイフ装
置、赤外線加熱装置、紫外線照射装置で乾燥させる洗浄
乾燥装置が用いられてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記、洗
浄乾燥装置では、初期乾燥であるエアーナイフ装置以降
の処理乾燥機構が大気開放状態の為、装置外の環境によ
り塵埃等のパーティクルをよびこみ、ガラス基板に付着
するとともに湿度により水分乾燥に不都合が発生し、後
工程に影響をおよぼす要因となっていた。例として表１
にクラス１００００のクリンルーム内におかれた洗浄乾
燥装置で洗浄したガラス基板０．１ｍ2 当たりのパーテ
ィクル付着の平均の状態を示す。
浄乾燥装置では、初期乾燥であるエアーナイフ装置以降
の処理乾燥機構が大気開放状態の為、装置外の環境によ
り塵埃等のパーティクルをよびこみ、ガラス基板に付着
するとともに湿度により水分乾燥に不都合が発生し、後
工程に影響をおよぼす要因となっていた。例として表１
にクラス１００００のクリンルーム内におかれた洗浄乾
燥装置で洗浄したガラス基板０．１ｍ2 当たりのパーテ
ィクル付着の平均の状態を示す。
【表１】
【０００４】そこで、本発明においては外部環境に影響
されず、パーティクル付着を阻止し、基板を効率よく乾
燥することができるガラス基板等の洗浄乾燥装置を提供
するのが目的である。
されず、パーティクル付着を阻止し、基板を効率よく乾
燥することができるガラス基板等の洗浄乾燥装置を提供
するのが目的である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、複数の洗浄ユニットを並設してローラーコ
ンベアで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基
板を浸漬させ、超音波洗浄及びシャワーの洗浄を行う洗
浄手段に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾
燥槽、プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲ
ートバルブを設け、乾燥槽には真空排気手段と、ローラ
ーコンベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽に
は真空排気手段と、プラズマを発生させる高周波コイル
とローラーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アン
ローダ槽には真空排気手段とスローリークバルブとを設
けた基板の洗浄乾燥装置を構成したものである。
するために、複数の洗浄ユニットを並設してローラーコ
ンベアで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基
板を浸漬させ、超音波洗浄及びシャワーの洗浄を行う洗
浄手段に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾
燥槽、プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲ
ートバルブを設け、乾燥槽には真空排気手段と、ローラ
ーコンベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽に
は真空排気手段と、プラズマを発生させる高周波コイル
とローラーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アン
ローダ槽には真空排気手段とスローリークバルブとを設
けた基板の洗浄乾燥装置を構成したものである。
【０００６】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、各浸漬
槽内に基板を浸漬させて超音波洗浄及びシャワー洗浄を
行った基板をゲートバルブを開いて乾燥槽内にローラー
コンベアにて搬入してゲートバルブを閉じ、真空排気手
段にて真空状態にした後に赤外線ヒータで基板を予備加
熱させ、排出側のゲートバルブを開いて次ぎのプラズマ
槽に基板を移送し、ゲートバルブを閉じた後に、真空状
態で且つ不活性ガス雰囲気を形成せしめ、プラズマ発生
により乾燥させると同時に紫外線ランプで有機物の除去
を行う。その後排出側のゲートバルブを開いて次ぎのア
ンローダ槽に送り、そこで大気開放状態にした後に基板
を取り出す。
槽内に基板を浸漬させて超音波洗浄及びシャワー洗浄を
行った基板をゲートバルブを開いて乾燥槽内にローラー
コンベアにて搬入してゲートバルブを閉じ、真空排気手
段にて真空状態にした後に赤外線ヒータで基板を予備加
熱させ、排出側のゲートバルブを開いて次ぎのプラズマ
槽に基板を移送し、ゲートバルブを閉じた後に、真空状
態で且つ不活性ガス雰囲気を形成せしめ、プラズマ発生
により乾燥させると同時に紫外線ランプで有機物の除去
を行う。その後排出側のゲートバルブを開いて次ぎのア
ンローダ槽に送り、そこで大気開放状態にした後に基板
を取り出す。
【０００７】
【実施例】本発明の実施例を図１、図２に基いて詳細に
説明する。洗浄手段Ａはクリーンルーム内に５つの洗浄
ユニット１，２，３，４，５を直列に設置し、各洗浄ユ
ニット１，２，３，４，５にローラーコンベア６を配置
してガラス基板７を搬送洗浄するようになっている。
説明する。洗浄手段Ａはクリーンルーム内に５つの洗浄
ユニット１，２，３，４，５を直列に設置し、各洗浄ユ
ニット１，２，３，４，５にローラーコンベア６を配置
してガラス基板７を搬送洗浄するようになっている。
【０００８】洗浄ユニットの基本構造は図２に示すよう
に、外槽８の内側にオーバフロー槽９に設け、その内側
に浸漬槽１０を設けている。そして、外槽８、オーバフ
ロー槽９及び浸漬槽１０に搬入口１１と搬入口１２とを
連通するように閉口している。又、浸漬槽１０には搬入
口１１から搬入口１２に亘ってローラーコンベア６を設
けてガラス基板７を搬送する。この際、浸漬槽１０内に
は液を十分に満たしてガラス基板７の上面が液に接する
ようになっており、浸漬槽１０の搬入口１１及び搬出口
１２からオーバフローした液は夫々オーバフロー槽９内
に入り、外部に漏れないようになっている。そして、必
要に応じて外槽８内にポンプ１３を設置してオーバフロ
ー槽９内の液を浸漬槽１０に戻すようになっている。
に、外槽８の内側にオーバフロー槽９に設け、その内側
に浸漬槽１０を設けている。そして、外槽８、オーバフ
ロー槽９及び浸漬槽１０に搬入口１１と搬入口１２とを
連通するように閉口している。又、浸漬槽１０には搬入
口１１から搬入口１２に亘ってローラーコンベア６を設
けてガラス基板７を搬送する。この際、浸漬槽１０内に
は液を十分に満たしてガラス基板７の上面が液に接する
ようになっており、浸漬槽１０の搬入口１１及び搬出口
１２からオーバフローした液は夫々オーバフロー槽９内
に入り、外部に漏れないようになっている。そして、必
要に応じて外槽８内にポンプ１３を設置してオーバフロ
ー槽９内の液を浸漬槽１０に戻すようになっている。
【０００９】次に、各洗浄ユニット１，２，……５につ
いて説明する。洗浄ユニット１はローダユニットで外槽
８のみで形成されており、搬入口１１から搬入したガラ
ス基板７をローラーコンベア６で次の洗浄ユニット２に
送る。洗浄ユニット２は純水洗浄で純水を浸漬槽１０内
に貯留し、ローラーコンベア６の中間に複数対のローラ
ーブラシ１４，１４を設置してガラス基板７の両面をこ
すり、浸漬槽１０内の純水でこれを洗い、次の洗浄ユニ
ット３にガラス基板７を送るようになっている。尚、洗
浄ユニット２にはポンプ１３を設置して、オーバフロー
した純水をオーバフロー槽９から浸漬槽１０に戻し、常
時純水を充満させるようになっている。
いて説明する。洗浄ユニット１はローダユニットで外槽
８のみで形成されており、搬入口１１から搬入したガラ
ス基板７をローラーコンベア６で次の洗浄ユニット２に
送る。洗浄ユニット２は純水洗浄で純水を浸漬槽１０内
に貯留し、ローラーコンベア６の中間に複数対のローラ
ーブラシ１４，１４を設置してガラス基板７の両面をこ
すり、浸漬槽１０内の純水でこれを洗い、次の洗浄ユニ
ット３にガラス基板７を送るようになっている。尚、洗
浄ユニット２にはポンプ１３を設置して、オーバフロー
した純水をオーバフロー槽９から浸漬槽１０に戻し、常
時純水を充満させるようになっている。
【００１０】洗浄ユニット３は超音波洗浄ユニットで、
浸漬槽１０内にアルカリ或は中性の洗剤を入れ、底に周
波数１０ＫＨＺ〜１００ＭＨＺで作動する超音波振動子
１５を固定し、超音波振動による洗浄を行う。そして、
ポンプ１３でオーバフロー槽９内のオーバフローした洗
剤等を浸漬槽１０に戻すようになっている。洗浄ユニッ
ト４はシャワーユニットで純水リンスを充満させる浸漬
槽１０下面に加熱ヒータ１６を設け、ローラコンベア６
の上方に純水シャワーノズル１７を複数個設置して、純
水をガラス基板７の上面から流下させて洗浄を行い、浸
漬槽１０に流下したリンス後の純水はオーバフローして
オーバフロー槽９に落下し、必要に応じてポンプ１３で
浸漬槽１０に戻すようになっている。そして、浸漬槽１
０の下面に設けた加熱ヒータ１６で純水リンスを加熱
し、ガラス基板７を温熱水内に通過させるようになって
いる。
浸漬槽１０内にアルカリ或は中性の洗剤を入れ、底に周
波数１０ＫＨＺ〜１００ＭＨＺで作動する超音波振動子
１５を固定し、超音波振動による洗浄を行う。そして、
ポンプ１３でオーバフロー槽９内のオーバフローした洗
剤等を浸漬槽１０に戻すようになっている。洗浄ユニッ
ト４はシャワーユニットで純水リンスを充満させる浸漬
槽１０下面に加熱ヒータ１６を設け、ローラコンベア６
の上方に純水シャワーノズル１７を複数個設置して、純
水をガラス基板７の上面から流下させて洗浄を行い、浸
漬槽１０に流下したリンス後の純水はオーバフローして
オーバフロー槽９に落下し、必要に応じてポンプ１３で
浸漬槽１０に戻すようになっている。そして、浸漬槽１
０の下面に設けた加熱ヒータ１６で純水リンスを加熱
し、ガラス基板７を温熱水内に通過させるようになって
いる。
【００１１】洗浄ユニット５はエアーナイフユニットで
ローラーコンベア６の上下に１０μｍ〜１ｍｍのスリッ
トをもった間隔をおいて、エアーナイフ１８を設けてエ
アーを噴出させ、ガラス基板７上の水滴を吹き飛ばし、
下面のエアーナイフ槽１０´に落下させ、エアーナイフ
槽１０´からドレン（図示省略）で外部に放出する。
ローラーコンベア６の上下に１０μｍ〜１ｍｍのスリッ
トをもった間隔をおいて、エアーナイフ１８を設けてエ
アーを噴出させ、ガラス基板７上の水滴を吹き飛ばし、
下面のエアーナイフ槽１０´に落下させ、エアーナイフ
槽１０´からドレン（図示省略）で外部に放出する。
【００１２】洗浄ユニット５から搬出されたガラス基板
７は乾燥手段Ｃの密閉された乾燥槽１９、プラズマ槽２
０、アンローダ槽２１にローラーコンベア６で順次搬送
するようになっており、各槽１９，２０，２１の出入口
にはゲートバルブ２２，２３，２４，２５を設けて密閉
できるようになっている。又、乾燥槽１９には油回転ポ
ンプやターボ分子ポンプ等で構成した真空排気手段２６
とスローリークバルブ２７とにローラーコンベア６の上
下に赤外線ヒータ２８を設けている。
７は乾燥手段Ｃの密閉された乾燥槽１９、プラズマ槽２
０、アンローダ槽２１にローラーコンベア６で順次搬送
するようになっており、各槽１９，２０，２１の出入口
にはゲートバルブ２２，２３，２４，２５を設けて密閉
できるようになっている。又、乾燥槽１９には油回転ポ
ンプやターボ分子ポンプ等で構成した真空排気手段２６
とスローリークバルブ２７とにローラーコンベア６の上
下に赤外線ヒータ２８を設けている。
【００１３】プラズマ槽２０には真空排気手段２９とス
ローリークバルブ３０及び槽内に高周波コイル３１を設
け、高周波コイル３１に高周波電源３２からマッチング
ボックス３３を介して信号を送るようになっている。そ
して、ローラーコンベア６の上方には紫外線ラン３４を
設置している。又、アンローダ槽２０には真空排気手段
３５とスローリークバルブ３６と設けている。
ローリークバルブ３０及び槽内に高周波コイル３１を設
け、高周波コイル３１に高周波電源３２からマッチング
ボックス３３を介して信号を送るようになっている。そ
して、ローラーコンベア６の上方には紫外線ラン３４を
設置している。又、アンローダ槽２０には真空排気手段
３５とスローリークバルブ３６と設けている。
【００１４】乾燥手段は前記のように構成しているもの
で、ゲートバルブ２２を開いて乾燥槽１９内にガラス基
板７が搬入されると、ゲートバルブ２２，２３を閉じ真
空排気手段２６で１×１０ー3Ｔｏｒｒ〜１×１０ー4Ｔｏ
ｒｒまで排気し、赤外線ヒーター２８で１００℃〜２０
０℃にガラス基板６を加熱する。所定時間経過後、ゲー
トバルブ２３を開き、プラズマ槽２０へガラス基板７を
移送させる。
で、ゲートバルブ２２を開いて乾燥槽１９内にガラス基
板７が搬入されると、ゲートバルブ２２，２３を閉じ真
空排気手段２６で１×１０ー3Ｔｏｒｒ〜１×１０ー4Ｔｏ
ｒｒまで排気し、赤外線ヒーター２８で１００℃〜２０
０℃にガラス基板６を加熱する。所定時間経過後、ゲー
トバルブ２３を開き、プラズマ槽２０へガラス基板７を
移送させる。
【００１５】プラズマ槽２０ではあらかじめ真空排気手
段２９で１×１０ー3Ｔｏｒｒ〜１×１０ー4Ｔｏｒｒへ真
空排気させると共に、図面では省略したが下面からアル
ゴンガス等の不活性ガスを導入して不活性ガス雰囲気を
形成させておく。そして、ガラス基板７の搬入と共にゲ
ートバルブ２３を閉じ、高周波電源２９から周波数１
３．５６ＭＨＺの高周波を供給し、マッチングボックス
３３によりインビーダンス整合をとり高周波コイル３１
を介してプラズマを立たせる。又、上部からは紫外線ラ
ンプ３４から紫外線をガラス基板７に照射して有機物を
取り除きプラズマ効果によりガラス基板７の表面が活性
化される。
段２９で１×１０ー3Ｔｏｒｒ〜１×１０ー4Ｔｏｒｒへ真
空排気させると共に、図面では省略したが下面からアル
ゴンガス等の不活性ガスを導入して不活性ガス雰囲気を
形成させておく。そして、ガラス基板７の搬入と共にゲ
ートバルブ２３を閉じ、高周波電源２９から周波数１
３．５６ＭＨＺの高周波を供給し、マッチングボックス
３３によりインビーダンス整合をとり高周波コイル３１
を介してプラズマを立たせる。又、上部からは紫外線ラ
ンプ３４から紫外線をガラス基板７に照射して有機物を
取り除きプラズマ効果によりガラス基板７の表面が活性
化される。
【００１６】更に所定時間経過後、真空排気手段３５に
より真空排気されたアンローダ槽２１のゲートバルブ２
４を開いてガラス基板７をアンローダ槽２１へ移送し、
その後ゲートバルブ２４を閉じ、スローリークバルブ３
６を開けアンローダ槽２１を大気に開放させる。大気開
放後にゲートバルブ２５を開いてガラス基板７を取り出
す。前記一連の乾燥は一枚ごとのガラス基板７で繰返す
ように制御されている。
より真空排気されたアンローダ槽２１のゲートバルブ２
４を開いてガラス基板７をアンローダ槽２１へ移送し、
その後ゲートバルブ２４を閉じ、スローリークバルブ３
６を開けアンローダ槽２１を大気に開放させる。大気開
放後にゲートバルブ２５を開いてガラス基板７を取り出
す。前記一連の乾燥は一枚ごとのガラス基板７で繰返す
ように制御されている。
【００１７】前記実施例をクラス１００００のクリンル
ームに設置し、ガラス基板を洗浄した場合の基板０．１
ｍ2 当りのパーティクル付着の平均状態を表２に示す。
ームに設置し、ガラス基板を洗浄した場合の基板０．１
ｍ2 当りのパーティクル付着の平均状態を表２に示す。
【表２】
【００１８】表２と表１とを比較すると格段にパーティ
クルの付着量が減少していることがわかる。又、紫外線
とプラズマ効果により有機物の残査が減少すると共に、
真空処理のため、ガラス基板上の水分乾燥も格段と向上
を図ることができた。尚、前記実施例においてはガラス
基板の洗浄乾燥について説明したが、シリコンウエハに
も実施することができるもので、両者を含めて基板と称
す。
クルの付着量が減少していることがわかる。又、紫外線
とプラズマ効果により有機物の残査が減少すると共に、
真空処理のため、ガラス基板上の水分乾燥も格段と向上
を図ることができた。尚、前記実施例においてはガラス
基板の洗浄乾燥について説明したが、シリコンウエハに
も実施することができるもので、両者を含めて基板と称
す。
【００１９】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るから、外部環境に影響されず、基板へのパーティクル
の付着量を極力減少させ、且つ効率よく乾燥させること
ができる。
るから、外部環境に影響されず、基板へのパーティクル
の付着量を極力減少させ、且つ効率よく乾燥させること
ができる。
【００２０】
【図１】本発明に係る基板の洗浄乾燥装置の全体の設置
を示す搬略図。
を示す搬略図。
【図２】洗浄ユニットの一例を示す斜視図。
Ａ 洗浄手段 Ｂ クリーンルーム Ｃ 乾燥手段 １ 洗浄ユニット ２ 洗浄ユニット ３ 洗浄ユニット ４ 洗浄ユニット ５ 洗浄ユニット ６ ローラーコンベア ７ 基板（ガラス基板） ８ 外槽 ９ オーバフロー槽 １０ 浸漬槽 １０´ エアーナイフ槽 １１ 搬入口 １２ 搬出口 １３ ポンプ １４ ローラーブラシ １５ 超音波振動子 １６ 加熱ヒータ １７ シャワーノズル １８ エアーナイフ １９ 乾燥槽 ２０ プラズマ槽 ２１ アンローダ槽 ２２ ゲートバルブ ２３ ゲートバルブ ２４ ゲートバルブ ２５ ゲートバルブ ２６ 真空排気手段 ２７ スローリークバルブ ２８ 赤外線ヒータ ２９ 真空排気手段 ３０ スローリークバルブ ３１ 高周波コイル ３２ 高周波電源 ３３ マッチングボックス ３４ 紫外線ランプ ３５ 真空排気手段 ３６ スローリークバルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 複数の洗浄ユニットを並設してローラー
コンベアで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に
基板を浸漬させ、超音波洗浄及びシャワーの洗浄を行う
洗浄手段に続いて密閉されたローラーコンベアを有する
乾燥槽、プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間に
ゲートバルブを設け、乾燥槽には真空排気手段と、ロー
ラーコンベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽
には真空排気手段と、プラズマを発生させる高周波コイ
ルとローラーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、ア
ンローダ槽には真空排気手段とスローリークバルブとを
設けたことを特徴とする基板の洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35077291A JPH05166789A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 基板の洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35077291A JPH05166789A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 基板の洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166789A true JPH05166789A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18412767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35077291A Pending JPH05166789A (ja) | 1991-12-12 | 1991-12-12 | 基板の洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05166789A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| JP2002282807A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Toray Ind Inc | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
| KR100608452B1 (ko) * | 2002-04-19 | 2006-08-02 | 주식회사 디엠에스 | 플라즈마를 이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ 세정방법 및 이를이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ제조장비 |
| JP2010089014A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Jpe:Kk | プラズマ洗浄装置 |
| KR101317849B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-10-15 | 오성엘에스티(주) | 플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크 장치 |
| CN109201622A (zh) * | 2018-09-13 | 2019-01-15 | 成都菲斯普科技有限公司 | 一种医用清洗消毒设备 |
| CN109290287A (zh) * | 2018-10-16 | 2019-02-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种干式清洗装置及清洗方法 |
| CN112427387A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 昆山硅瑞自动化设备有限公司 | 一种硅原料边皮料清洗设备 |
| CN112820813A (zh) * | 2021-02-20 | 2021-05-18 | 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 | 烤箱及可见光通信用led晶圆片 |
-
1991
- 1991-12-12 JP JP35077291A patent/JPH05166789A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
| JP2002282807A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-02 | Toray Ind Inc | 基板の洗浄方法および洗浄装置 |
| KR100608452B1 (ko) * | 2002-04-19 | 2006-08-02 | 주식회사 디엠에스 | 플라즈마를 이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ 세정방법 및 이를이용한 ｔｆｔ－ｌｃｄ제조장비 |
| JP2010089014A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Jpe:Kk | プラズマ洗浄装置 |
| KR101317849B1 (ko) * | 2011-12-01 | 2013-10-15 | 오성엘에스티(주) | 플라즈마부를 구비한 인라인타입의 베이크 장치 |
| CN109201622A (zh) * | 2018-09-13 | 2019-01-15 | 成都菲斯普科技有限公司 | 一种医用清洗消毒设备 |
| CN109290287A (zh) * | 2018-10-16 | 2019-02-01 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种干式清洗装置及清洗方法 |
| CN112427387A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-03-02 | 昆山硅瑞自动化设备有限公司 | 一种硅原料边皮料清洗设备 |
| CN112820813A (zh) * | 2021-02-20 | 2021-05-18 | 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 | 烤箱及可见光通信用led晶圆片 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100271190B1 (ko) | 진공 부식 챔버 및 진공 부식 챔버의 교체가능한 부분을 처리하기 위한 방법 | |
| US5520744A (en) | Device for rinsing and drying substrate | |
| US6374837B2 (en) | Single semiconductor wafer processor | |
| EP1054457B1 (en) | Method and apparatus for manufacturing a semiconductor device | |
| WO1992012533A1 (en) | Improved drying apparatus | |
| JPH05275412A (ja) | 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置 | |
| TWI286780B (en) | Substrate processing system and manufacturing method of semiconductor device | |
| JP2001137800A (ja) | 基板処理装置及び処理方法 | |
| JPH05166789A (ja) | 基板の洗浄乾燥装置 | |
| JP2002282801A (ja) | 真空蒸気洗浄方法およびその装置 | |
| JP2002126678A (ja) | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP2002334863A (ja) | Ｆｏｕｐ用ドアシェルの洗浄乾燥方法及び装置 | |
| KR101008253B1 (ko) | 기판용 건식 유무기물 동시 세정장치 | |
| JP2001023907A (ja) | 成膜装置 | |
| JP2006310681A (ja) | 基板処理方法および装置 | |
| JP3123331B2 (ja) | 研磨装置と半導体装置の製造方法 | |
| JPH08148465A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH0745574A (ja) | ワークの洗浄及び乾燥方法とその装置 | |
| JPH0513400A (ja) | 治具洗浄乾燥方法および装置 | |
| TWI892292B (zh) | 用於清潔及/或處理特別是用於半導體晶圓或用於euv微影遮罩之運輸容器之鍋狀空心體之清潔裝置、處理裝置及方法 | |
| JP2002233844A (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JP3576216B2 (ja) | 合成樹脂製収納ケースの洗浄方法 | |
| JP3142338B2 (ja) | 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 | |
| JP2001127032A (ja) | 基板の洗浄・乾燥装置および洗浄・乾燥方法 | |
| JP3017132B2 (ja) | 処理装置及び処理方法 |