JPH05169094A - 水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法 - Google Patents

水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法

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JPH05169094A
JPH05169094A JP4115433A JP11543392A JPH05169094A JP H05169094 A JPH05169094 A JP H05169094A JP 4115433 A JP4115433 A JP 4115433A JP 11543392 A JP11543392 A JP 11543392A JP H05169094 A JPH05169094 A JP H05169094A
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aqueous system
ppm
phosphonate
acid
corrosion
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Patrick J Sullivan
ジェイ. サリヴァン パトリック
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Ciba Geigy AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 水性系におけるスケール、腐蝕及び徴生物の
防止方法を提供する。 【構成】 (a)ホスホネート(例えば2−ヒドロキシ
ーホスホノ酢酸)の有効なスケール及び腐蝕防止量を用
いて水性系を連続的に処理し、(b)スラッグ投与技術
を使用して水性系に、該水性系に対して第一、第二又は
第三アミン(例えばモノエタノールアミン)2ないし5
ppmを添加し、次いで(c)水性系中に前記アミンが
実質的に完全に分散したら、スラッグ投与技術を使用し
てハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩素、次亜塩素酸塩
及び臭化物塩からなる群から選択された殺生剤の有効な
殺生量を添加する。 【効果】 アミンを併用することにより、殺生剤による
ホスホネートの分解が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水性系におけるスケー
ル、腐蝕及び微生物の防止方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】循環冷却水中のスケール及び腐蝕防止の
ためのホスホネートの使用は、微生物防止のためにハロ
ゲン含有物質例えばハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩
素、次亜塩素酸塩及び臭化物塩を使用する如く広く行わ
れている。しかしながら、これらの化学薬剤2種の同時
使用は、前記ハロゲン含有物質が多くのホスホネートを
充分に破壊することが示されたので、不都合である可能
性がある。これが野外使用中に起こった場合には、スケ
ール及び腐蝕防止剤としてのホスホネートの効果は実質
的に減少し、そしてこの反応の生成物であるオルトホス
フェートはスケールの問題に影響する可能性がある。更
に、過剰なハロゲン濃度は典型的なプラント冷却回路に
おいてしばしば観察される。これらの条件下では、ホス
ホネートは上記本文中に記載した問題を起こすために充
分な程度に分解し得る。更に、典型的には冷却水中に見
出される多数の溶存イオンはホスホネートの分解に対し
て触媒として働くということが判った。
【0003】アメリカ合衆国特許第4711724号明
細書及び第4642194号明細書には、工業冷却水が
微生物を防止するためのハロゲン含有物質を含む場合に
前記水におけるスケール及び腐蝕を防止するために存在
するホスホネートの分解を阻止する方法が開示されてい
る。この方法は、(a)水溶性第一及び第二アミン;
(b)アンモニア;(c)スルファミン酸及びその水溶
性塩;及び(d)水溶性アミドからなる群から選択され
た水溶性窒素含有化合物を用いて前記水を処理すること
からなる。前記アミンの効能に関する指摘は前記特許明
細書中には全く記載されていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、本発
明の方法は前記の好ましくない結果を除去するというこ
とが判った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、(a)ホスホ
ネートの有効なスケール及び腐蝕防止量を用いて水性系
を連続的に処理し、(b)スラッグ投与技術を使用して
水性系に、該水性系に対して第一、第二又は第三アミン
2ないし5ppmを添加し、次いで(c)スラッグ投与
技術を使用してハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩素、
次亜塩素酸塩及び臭化物塩からなる群から選択された殺
生剤の有効な殺生量を添加することにより、水性系中に
前記アミンを実質的に完全に分散させることからなる、
水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法に
関するものである。
【0006】換言すると、ハロゲン含有物質の殺生量を
用いて予備処理された水性系のために、本方法は水性系
に対してホスホネート2ないし20ppm(PO4 とし
て)と第一、第二又は第三アミン2ないし5ppmとの
混合物を用いて前記水性系を処理することからなる。
【0007】本発明の方法において使用することができ
る好適なホスホネートは、全て当業者に公知であり、そ
して塩素によって品位を低下させられた工業用プロセス
水におけるスケール及び腐蝕防止のために有用な何れか
のホスホネート、しかし特に:2−ヒドロキシ−ホスホ
ノ酢酸(HPA);1,1−ヒドロキシエチリジンジホ
スホン酸(HEDP);トリスアミノメタンホスホン酸
(AMP);エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホ
ン酸)(ENTP);ヘキサメチレンジアミンテトラ
(メチレンホスホン酸)(HMTP);及びジエチレン
トリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)を含む。これ
らは遊離酸として又はこれらの水溶性塩形態で使用して
よい。HPAは好ましいスケール及び腐蝕防止剤であ
る。
【0008】これらのホスホネートは公知物質であり、
そして下記特許文献:アメリカ合衆国特許第32144
54号明細書;第4026815号明細書;第3336
221号明細書及び第3278446号明細書に記載さ
れている。
【0009】実務上、スケール及び腐蝕防止のために使
用されるホスホネートの量は処理される特定の水系に応
じて変化するであろう。前記ホスホネートは通常、水性
系に対して約2ないし20ppm(PO4 として)、好
ましくは約2ないし約10ppm(PO4 として)の範
囲の量で使用する。
【0010】適する第一、第二及び第三アミンは、モノ
−、ジ−及びトリ−炭素原子数1ないし10のアルキル
アミン例えばメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチ
ルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロ
ピルアミン;モノ−及びジ−炭素原子数1ないし10の
アルカノールアミン例えばモノ−及びジ−エタノールア
ミン;複素環式アミン例えばモルホリン;芳香族アミン
例えばピリジン並びにハロゲン安定剤として作用するこ
とが可能な何れかの他のアミンを包含する。モノエタノ
ールアミンは好ましいアミン安定剤である。このアミン
は、水性系に対して約1ないし約20ppm、そして好
ましくは約2ないし約5ppmの範囲の濃度で用いられ
る。
【0011】使用し得る殺生剤はハロゲン化ヒダントイ
ン、臭素、塩素、次亜塩素酸塩及び臭化物塩を包含し、
ハロゲン化ヒダントイン及び臭素を用いることが好まし
い。
【0012】殺生剤は水性系へのアミンの完全な分散に
基づいて添加される。このような分散時間は、勿論、処
理される特定の水性系に依存する。通常、前記分散は約
15ないし約30分で行われる。
【0013】微生物防止のために必要な殺生剤の量は、
処理される水性系に依存して変化するであろう。殺生剤
は通常水性系に対して約0.1ないし約1ppmの範囲
の遊離ハロゲン残部を保持するために充分な量用いられ
る。
【0014】本発明は更に、水性系に対してホスホネー
ト2ないし20ppm(PO4 として)と第一、第二又
は第三アミン2ないし5ppmとの混合物を用いて前記
水を処理することからなる塩素原子に換算された遊離ハ
ロゲン原子0.1ないし1ppmを含むか又はこれらを
用いて予備処理された水性系におけるスケール防止剤を
安定化するための代わりの方法を包含する。適するホス
ホネートは、それらの優先度と一緒に、前記本文中に記
載されている。ホスホネートは好ましくは水性系に対し
て、約2ないし約10ppm(PO4 として)の範囲の
量使用する。
【0015】殺生剤及びアミンは“スラッグ投与技術”
を使用して添加されるということを記載すべきである。
この技術は、特定の時間間隔後に所望濃度を調製するた
めに必要な過剰量の化学薬品の添加を包含する。この系
が経時的に水を失う場合には、残部は徐々に許容できな
い濃度に低下し、それ故、別のスラッグが必要となる。
【0016】本方法は3−12及び好ましくは6−9の
範囲内のpHを有する水性系を処理するために適する。
本発明に基づく処理のために適する水性系に関して、特
に重要なものは冷却水系、蒸気発生系、海水蒸発器、静
水釜、ガススクラバー系、閉鎖回路加熱系又は水ベース
冷蔵系である。
【0017】更に、広範囲の所望成分を含んでもよい。
例えば炭酸カルシウム安定剤、例えばマレイン酸ターポ
リマー〔商標名:ベルクレン(BELCLENE)283;ニュ
ーヨーク,アルズレイ(Ardsley )のチバ−ガイギー株
式会社製〕及び/又はイエローメタル若しくは銅腐蝕防
止剤、例えばトリルトリアゾールを使用してよい。例え
ば水溶性亜鉛塩;ホスフェート;ポリホスフェート;他
のポリホスホノカルボン酸及びこれらの塩、例えば2−
ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸;モリブ
デン酸塩例えばモリブデン酸ナトリウム;珪酸塩例えば
珪酸ナトリウム;ベンゾトリアゾール;5,5−メチレ
ン−ビス−ベンゾトリアゾール又は銅奪活ベンゾトリア
ゾール又はトリルトリアゾール誘導体;N−アシルザル
コシン;N−アシルイミノ二酢酸;及びポリカルボン酸
例えばポリマレイン酸及びポリアクリル酸、並びにこれ
らの各々のアルカリ金属塩、マレイン酸無水物コポリマ
ー、アクリル酸コポリマー及びポリマレイン及びポリア
クリル酸の置換誘導体及びこれらのコポリマーのような
別の腐蝕防止剤を使用してもよい。
【0018】更に、別の分散剤及び/又はスレショール
ド(threshold )剤、例えばポリマー状アクリル酸(又
はその塩)、ホスフィノ−ポリカルボン酸、加水分解さ
れたポリアクリロニトリル、ポリマー状メタクリル酸及
びその塩、ポリアクリルアミド並びにアクリル及びメタ
クリル酸とのそのコポリマー、リグニンスルホン酸及び
その塩、タンニン、ナフタレンスルホン酸/ホルムアミ
ド縮合生成物、澱粉及びその誘導体、セルロース、アク
リル酸/低級アルキルヒドロキシアクリレートコポリマ
ー例えばアメリカ合衆国特許第4029577号明細書
に記載されたもの、スルホン化スチレン/マレイン酸無
水物コポリマー、スチレン/マレイン酸無水物コポリマ
ー及びスルホン化スチレンホモポリマー例えばアメリカ
合衆国特許第4374733号明細書に記載されたもの
及びこれらの混合物が存在してもよい。特定のスレショ
ールド剤例えば2−ホスホノブタン−1,2,4−トリ
カルボン酸、加水分解されたポリマレイン酸無水物及び
その塩、アルキルホスホン酸、1−アミノアルキル−
1,1−ジホスホン酸及びこれらの塩、並びにアルカリ
金属ポリホスフェートを使用してもよい。
【0019】沈澱剤例えばアルカリ金属オルトホスフェ
ート、カーボネート;消泡剤例えばシリコーン例えばポ
リジメチルシロサン、ジステアリルセバカミド、ジステ
アリルアジパミド並びにエチレンオキシド及び/又はプ
ロピレンオキシドから誘導された関連生成物、更に、脂
肪族アルコール例えばカプリルアルコール及びそれらの
エチレンオキシド縮合生成物を使用してよい。
【0020】
【実施例】下記実施例は本発明の態様の特定の説明に役
立つが、しかしそれらは本発明の範囲を限定することを
如何なる場合においても意図しない。
【0021】実施例1 試験の化学的パラメーター pH 8.2−8.5 カルシウム 300ppm(CaCO3 として) マグネシウム 150ppm(CaCO3 として) アルカリ度 150ppm(CaCO3 として)* ブロミサイド(商標名:BROMICIDE ) 生成物として30ppm* ブロモ−クロロ−ジメチル−ヒダントイン〔グレート
レイクス ケミカル(Great Lakes Chemical)製〕 試薬用モノエタノールアミン〔アルドリッチ ケミカル
カンパニー(AldrichChemical Company)製〕 試薬用トリエタノールアミン(アルドリッチ ケミカル
カンパニー製)
【0022】添加剤 10ppm(PO4 として)ベルコル(商標名:BELCO
R)575(2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸;ニューヨ
ーク,アルズレイのチバ−ガイギー株式会社製) 2ppm(固体)コブラテック(商標名:COBRATEC)T
T−50−S〔トリルトリアゾール;ピーエムシー ス
ペシャルテス グループ インコーポレーテッド(PM
C Specialtes Group Inc.)製〕
【0023】本試験は250mlビーカー中で行われ
る。添加の順序は蒸留水に続いて、添加剤、カルシウ
ム、マグネシウム、アルカリ度、アミン及びブロミサイ
ドであった。容積は、ブロミサイドの添加の時点で全容
積が100mlであるように調整する。次いで、この溶
液を1分間攪拌し、次いで放置する。15分後、全ハロ
ゲン濃度及びオルト−ホスフェート濃度を、「水及び廃
水の試験のための標準法」(Standard Method for the
Examination of Water and Wastewater );第15版;
アメリカン パブリック ヘルス アソシエーション
(AmericanPublic Health Association),アメリカン
ヲーター ヲークス アソシエーション(American W
ater Works Association)及びヲーター ポリューショ
ン コントロール フェデレーション(Water Pollutio
n Control Federation)により出版;第292頁(19
80年)から引用したDPD比色法を使用して測定す
る。オルト−ホスフェート濃度は、「水及び廃水の試験
のための標準法」;第15版;アメリカン パブリック
ヘルス アソシエーション,アメリカン ヲーター
ヲークス アソシエーション及びヲーター ポリューシ
ョン コントロールフェデレーションにより出版;第4
09ないし425頁(1980年)から引用したアミノ
酸比色法を使用して決定する。本試験を4回繰り返し、
そして4測定値の平均値及び特に用いられたアミンを表
1に示す。%転換は、オルト−ホスフェートに変換され
る2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の量を示す。平均値と
各々の個々の測定値との間には、充分な偏差は全く観察
されなかった。
【0024】
【表1】表1 アミン %転換 遊離オルト−ホスフェート (ppm) 5ppmモノエタノールアミン 4% 0.4 10ppmモノエタノールアミン 3% 0.3 20ppmモノエタノールアミン 3% 0.3 10ppmトリエタノールアミン 43% 4.3 20ppmトリエタノールアミン 45% 4.5 30ppmトリエタノールアミン 37% 3.7 アミンなし(対照) 58% 5.8
【0025】このベンチ試験の結果は、アミンは2−ヒ
ドロキシ−ホスホノ酢酸の転換比率を減少させるという
ことを示す。
【0026】実施例2 プロセスシミュレーション研究−装置及び方法 本システム試験ループは流量制御バルブ、流量計、試験
片アセンブリー及び適する水道工事材料を備えた遠心ポ
ンプからなる。たらいから供給され次いでたらいに戻る
試験水の容積流速を、試験片にわたる所望の線形速度を
得るように制御する。前記速度は、記録した全試験にお
いて0.92m/秒である。前記試験片アセンブリーは
2.54cmI.D.ガラス管の中心に固定された所望
の金属〔前記試験においては、C−1010軟鋼及びア
ドミラルティ ブラス(Admiralty Brass )〕からなる
1.6cmO.D.管の直線長さ部分を使用する。これ
は試験水の流路である環状の孔を成す。熱移動試験片
(熱交換体)及び非−熱移動試験片(クーポン)を同一
状態で固定する。前記熱交換体のための暴露表面長さは
30.5cmであり、そして前記クーポンのための暴露
表面長さは6.4cmである。熱交換体試験片のための
熱源は、前記試験管の内側に置かれた電気カートリッジ
浸漬ヒーターである。熱束は加減抵抗器を使用して前記
ヒーターの電圧を調節することにより制御する。この試
験ループは、クーポンが熱交換体の下流に位置している
1個の熱交換体と4個のクーポンとを収容するように設
計されている。試験水溶液を40℃に加熱し、そしてp
Hを上記本文中に記載の如く制御する。添加剤投与は、
本試験の最初の2日間に対して4回保持投与である。2
日後、添加剤供給量を保持投与量に減少させ、10pp
mハロゲン化ヒダントインを10ppm生成物の前記系
に毎日スラッグ投与する。
【0027】たらい(矩形のプラスチック製容器)は本
実験においてはケモスタットとして機能する。それは本
試験ループのための供給源である。それは水の状態の物
理的及び化学的制御が行われるということでもある。本
試験ループから戻ってくる水は室内空気の吸引によって
空気を飽和される。水温は、ソレノイドバルブ/温度コ
ントローラー組み合わせ体を通して往復しているたらい
の底に配置されたステンレススチール冷却コイル中の冷
たい水流によって制御される。温度は、これらの試験中
38−41℃の間に制御される。適当な時に、たらいの
中に固定されたpH電極を有する酸ポンプ/pHコント
ローラー組み合わせ体を通して、pH制御のために希釈
酸がたらい中に添加される。水処理剤は、ブローダウン
損失による添加剤置換要求に基づいてシリンジポンプを
通して添加される。これらは非−蒸発性ユニットなの
で、ブローダウン比率はメイクアップ比率と等しい。こ
れは、ブローダウンがオーバーフローによるように蒸留
器壁によって取り巻かれたスタンドパイプを使用して一
定系容量を保持することにより行われる。これらの試験
に使用された系の半減期は、15リットルの系容量及び
10ミリリットル/分の混合メイクアップ比率に基づい
て約17.5時間である。本試験の持続期間は通常14
日である。
【0028】試験ループからの戻り空気飽和水は、それ
がたらいの中で良好な混合を保証するための最小の渦を
生成するようにたらいの水の高さ以下に方向付けされ
る。混合する場合にはメイクアップ水はシミュレーショ
ンされている濃縮水と組成状同一でなければならないの
で、前記分離供給は必要である。しばしば、これは室温
においてさえも沈澱に関して不安定な溶液中で起こる。
2種の水は、硬度及びアルカリ度メイクアップとして設
定された。それらは、1:1混合物として混合された場
合に所望のたらい水の化学的状態を得るために調製され
る。前記実験例において、硬度メイクアップ槽は塩化カ
ルシウム及び硫酸マグネシウムを含み、そしてアルカリ
度メイクアップ槽は炭酸水素ナトリウムを含む。
【0029】プロセスシミュレーションの物理的パラメ
ーター 軟鋼熱交換体 熱束10000BTU/ft2 /時間 軟鋼/アドミラルティ ブラス クーポン 速度0.92m/秒 38−41℃たらい温度 系半減期17.5時間
【0030】系試験水溶液の化学的パラメーター pH 8.5 カルシウム 700ppm(CaCO3 として) マグネシウム 350ppm(CaCO3 として) アルカリ度 150ppm(CaCO3 として) ブロミサイド(商標名) 毎日10ppmスラッグ投与した
【0031】添加剤 8.75ppm(PO4 として)ベルコル(商標名)5
75(2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸;ニューヨーク,
アルズレイのチバ−ガイギー株式会社製) 5ppmベルクレン(商標名;BELCLENE)283(マレ
イン酸ターポリマー;ニューヨーク,アルズレイのチバ
−ガイギー株式会社製) 2ppm(固体)コブラテック(商標名)TT−50−
S(トリルトリアゾール;ピーエムシー スペシャルテ
ス グループ インコーポレーテッド製)
【0032】試験水溶液を40℃に加熱し、そしてpH
を上記本文に記載した如く制御する。添加剤投与は、本
試験の最初の2日間に対して4回保持投与である。2日
後、添加剤供給量を保持投与量に減少させ、10ppm
ハロゲン化ヒダントインを10ppm生成物の前記系に
毎日スラッグ投与する。
【0033】ブロミサイド(商標名)スラッグ投与に関
する最初の全ハロゲン濃度は、塩素原子として1ppm
単位で一貫して測定される。3時間後、全測定ハロゲン
濃度は塩素原子としてまさに1ppm以下(範囲0.6
−0.8ppm)であり、そして遊離ハロゲン濃度は塩
素原子として0.5ppmよりも低い。
【0034】パーセント2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸
転換はブロミサイド(商標名)スラッグ投与を通して約
40%(2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の理論濃度を基
準とする)である。本系においては予想される全ホスフ
ェート濃度の最小損失がある。それ故、ブロミサイド
(商標名)による2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の転換
を通して生成するオルト−ホスフェートは沈澱しない。
【0035】熱交換体及び腐蝕クーポンに対する腐蝕速
度及び前記熱交換体中の滞積量を表2に示す。
【0036】
【表2】 MPY=ミル侵入/年 MDC=mg滞積/日/cm2 MS=軟鋼 AB=アドミラルティ ブラス
【0037】実施例3 毎日のブロミサイド(商標名)のスラッグ投与の前にモ
ノエタノールアミン2ppmを投与すること以外は、実
施例2の実験を繰り返す。3時間後、全ハロゲン濃度は
塩素原子としてまさに1ppm以下(範囲0.6−0.
8ppm)であり、そして遊離ハロゲン濃度は塩素原子
として0.5ppmよりも低い。
【0038】パーセント2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸
転換はヒダントインスラッグ投与を通して約7%(2−
ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の理論濃度を基準とする)で
ある。
【0039】熱交換体及び腐蝕クーポンに対する腐蝕速
度及び前記熱交換体中の滞積量を表3に示す。
【0040】
【表3】 MPY=ミル侵入/年 MDC=mg滞積/日/cm2 MS=軟鋼 AB=アドミラルティ ブラス
【0041】実施例2及び3における2−ヒドロキシ−
ホスホノ酢酸転換の差(各々40%及び7%)に見られ
る如く、毎日のブロミサイド(商標名)のスラッグ投与
の前のアミンのスラッグ投与は、充分な改善を示す。
【0042】実施例4 実施例2の実験を、エタノールアミンが単一供給製剤中
で添加剤と一緒に製剤化されるように下記の添加剤を使
用して繰り返す。
【0043】添加剤 8.75ppm(PO4 として)ベルコル(商標名)5
75(2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸;ニューヨーク,
アルズレイのチバ−ガイギー株式会社製) 5ppmベルクレン(商標名)283(マレイン酸ター
ポリマー;ニューヨーク,アルズレイのチバ−ガイギー
株式会社製) 2ppm(固体)コブラテック(商標名)TT−50−
S(トリルトリアゾール;ピーエムシー スペシャルテ
ス グループ インコーポレーテッド製) 2ppm試薬用トリエタノールアミン(アルドリッチ
ケミカル カンパニー製)
【0044】ブロミサイド(商標名)スラッグ投与に関
する最初の全ハロゲン濃度は、塩素原子として1ppm
単位で一貫して測定される。3時間後、全測定ハロゲン
濃度は塩素原子としてまさに1ppm以下(範囲0.6
−0.8ppm)であり、そして遊離ハロゲン濃度は塩
素原子として0.5ppmよりも低い。
【0045】パーセント2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸
転換はヒダントインスラッグ投与を通して約7−10%
(2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸の理論濃度を基準とす
る)である。
【0046】熱交換体及び腐蝕クーポンに対する腐蝕速
度及び前記熱交換体中の滞積量を表4に示す。
【0047】
【表4】 MPY=ミル侵入/年 MDC=mg滞積/日/cm2 MS=軟鋼 AB=アドミラルティ ブラス
【0048】本願において提供された濃度におけるホス
ホネートとアミンとの混合物は、実施例2においてアミ
ンを使用することなく得られた40%とは対照的に、7
−10%の2−ヒドロキシ−ホスホノ酢酸転換を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年6月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、(a)ホスホ
ネートの有効なスケール及び腐蝕防止量を用いて水性系
を連続的に処理し、(b)スラッグ投与技術を使用して
水性系に、該水性系に対して第一、第二又は第三アミン
2ないし5ppmを添加し、次いで(c)水性系中に前
記アミンが実質的に完全に分散したら、スラッグ投与技
術を使用してハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩素、次
亜塩素酸塩及び臭化物塩からなる群から選択された殺生
剤の有効な殺生量を添加することからなる、水性系にお
けるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法に関するもの
である。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)ホスホネートの有効なスケール及
    び腐蝕防止量を用いて水性系を連続的に処理し、(b)
    スラッグ投与技術を使用して水性系に、該水性系に対し
    て第一、第二又は第三アミン2ないし5ppmを添加
    し、次いで(c)スラッグ投与技術を使用してハロゲン
    化ヒダントイン、臭素、塩素、次亜塩素酸塩及び臭化物
    塩からなる群から選択された殺生剤の有効な殺生量を添
    加することにより、水性系中に前記アミンを実質的に完
    全に分散させることからなる、水性系におけるスケー
    ル、腐蝕及び微生物の防止方法。
  2. 【請求項2】 水性系に対してホスホネート2ないし約
    20ppm(PO4 として)と第一、第二又は第三アミ
    ン2ないし5ppmとの混合物を用いて前記水性系を処
    理することからなる、塩素原子に換算された遊離ハロゲ
    ン原子0.1ないし1ppmを含む水性系中でのスケー
    ルの防止方法。
  3. 【請求項3】 前記水性系が冷却水系、蒸気発生系、海
    水蒸発器、静水釜、ガススクラバー系、閉鎖回路加熱系
    又は水ベース冷蔵系からなる請求項1又は請求項2記載
    の方法。
  4. 【請求項4】 前記ホスホネートが2−ヒドロキシ−ホ
    スホノ酢酸、1,1−ヒドロキシエチリジンジホスホン
    酸、トリスアミノメタンホスホン酸、エチレンジアミン
    テトラ(メチレンホスホン酸)、ヘキサメチレンジアミ
    ンテトラ(メチレンホスホン酸)、及びジエチレントリ
    アミンペンタ(メチレンホスホン酸)からなる群から選
    択された請求項1又は請求項2記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記ホスホネートが2−ヒドロキシ−ホ
    スホノ酢酸である請求項4記載の方法。
  6. 【請求項6】 水性系に対してホスホネート約2ないし
    約20ppm(PO4 として)が存在する請求項1記載
    の方法。
  7. 【請求項7】 水性系に対してホスホネート約2ないし
    約10ppm(PO4 として)が存在する請求項1記載
    の方法。
  8. 【請求項8】 前記第一、第二又は第三アミンがメチル
    アミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルア
    ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルア
    ミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、モノ及
    びジエタノールアミン、モルホリン及びピリジンからな
    る群から選択された請求項1又は請求項2記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記アミンがモノエタノールアミンであ
    る請求項1又は請求項2記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記スラッグ投与された第一、第二又
    は第三アミンの分散が約15ないし約30分行われる請
    求項1又は請求項2記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記殺生剤がハロゲン化ヒダントイン
    である請求項1又は請求項2記載の方法。
  12. 【請求項12】 炭酸カルシウム安定剤及び/又はイエ
    ローメタル若しくは銅腐蝕防止剤がホスホネートに添加
    される請求項1又は請求項2記載の方法。
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