JPH0517151Y2 - - Google Patents

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JPH0517151Y2
JPH0517151Y2 JP3670188U JP3670188U JPH0517151Y2 JP H0517151 Y2 JPH0517151 Y2 JP H0517151Y2 JP 3670188 U JP3670188 U JP 3670188U JP 3670188 U JP3670188 U JP 3670188U JP H0517151 Y2 JPH0517151 Y2 JP H0517151Y2
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JP
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plasma
plasma processing
hollow tube
processing apparatus
honeycomb
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JP3670188U
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  • Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、化学、食品、醗酵、医学等の分野に
おいて、生体物質固定化担体等として使用される
中空管の内部又は内部及び外部をプラズマ処理す
る装置の構造に関する。
(従来の技術及び考案が解決しようとする問題
点) 中空管の内部のプラズマ処理又は内部及び外部
同時のプラズマ処理は、人工血管、バイオリアク
タ、気体分離膜、液体分離膜などの改質、改良に
不可欠の技術である。
しかしながら、中空管の内部のプラズマ処理又
は内外部同時のプラズマ処理の試み、もしくは処
理装置は、現状では知られていない。
本考案は、中空管の内部のプラズマ処理又は内
外部同時のプラズマ処理を、容易に、かつ、能率
的に行うことのできる中空管のプラズマ処理装置
を提示することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 考案者等は、上記した問題点を解決すべく、検
討した結果、ハニカム状空所を形成されたプラズ
マ処理器にプラズマ処理対象の中空管を挿入して
反応容器内に配置し、プラズマ処理器を回転させ
ながら、プラズマ照射することによつて、上記し
た要求に応え得ることを確認した。
ハニカム状空所を有するプラズマ処理器の材料
としては、ガラス、セラミツク、弗素樹脂などの
プラスチイツク材料或はアルミニウムやステンレ
スステイールなどの金属材料などが用いられる。
ハニカム状空所の形状は、中空管の内部のみを
プラズマ処理する場合には、円形の断面形状が望
ましく、中空管の内部及び外部を同時にプラズマ
処理する場合には、楕円形、四角形、三角形など
の断面形状が好都合である。
プラズマ処理の対象となる材料としては、ポリ
テトラフルオロエチレンなどのプラステイツク材
料やセラミツクなどが挙げられる。
(作用) 上記した構成を備えた本考案によるプラズマ処
理装置においては、プラズマ処理器のハニカム構
造により、多数本の中空管に対する同時処理の可
能性がもたらされ、プラズマ処理器に回転駆動手
段を付されていることによつて、内部又は内外部
に対する均一なプラズマ処理の可能性がもたらさ
れる。
(実施例) 第2図及び第3図に示すような円形及び四角形
の断面形状を呈するハニカム状空所2を備えたプ
ラズマ処理器1を、第1図に示すように、回転駆
動手段3を付して中空の反応容器5の内部に挿入
し、プラズマ処理器1を回転支持手段4に支えさ
せてプラズマ処理装置を構成した。
[実施例 1] 内径10mmの円形のハニカム状空所を備えたプラ
ズマ処理器内に、外径9mmのポリテトラフルオロ
エチレンの中空管を挿入し、プラズマ処理器を回
転させながら、窒素プラズマを照射した。
プラズマ処理の条件は、13.56MHz,50W,30
分で、回転速度は、30rpmである。
プラズマ処理後に中空管を取り出し、窒素プラ
ズマ照射によるアミノ基導入量を、ニンヒドリン
法によつて測定した結果、中空管の内部部分に
は、4.4μM/m2のアミノ基が導入され、外側部分
には、アミノ基が存在しなかつた。
[実施例 2] 10mm角のハニカム状空所を有するプラズマ処理
器を挿入されたプラズマ処理装置を用い、実施例
−1と同様の条件でプラズマ照射し、同様の方法
でアミノ基導入量を測定した結果、アミノ基導入
量は、中空管の内外とも4.4μM/M2であつた。
(考案の効果) 本考案による中空管のプラズマ処理装置が、上
記したように、プラズマ処理対象中空管を挿入さ
れるハニカム状空所を備え、回転駆動手段を付さ
れたプラズマ処理器を中空の反応容器内に配置さ
れた構造を備えていることにより、中空管の内部
に対する均一なプラズマ処理が極めて容易に実施
でき、更に、内部及び外部同時のプラズマ処理が
可能であり、化学、食品、醗酵、医学等の分野に
おける幅の広い応用を期待することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案による中空管のプラズマ処理
装置の一例の断面図、第2図及び第3図は、それ
ぞれ、プラズマ処理器の形状を示す正面図であ
る。 1……プラズマ処理器、2……ハニカム状空
所、3……回転駆動手段、4……回転支持手段、
5……反応容器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 処理対象中空管を挿入されるハニカム状空所2
    を備えたプラズマ処理器1を、プラズマ反応容器
    5内に回転自在に配置され、前記プラズマ処理器
    1の回転駆動手段3を付設されてなる中空管のプ
    ラズマ処理装置。
JP3670188U 1988-03-18 1988-03-18 Expired - Lifetime JPH0517151Y2 (ja)

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JP3670188U JPH0517151Y2 (ja) 1988-03-18 1988-03-18

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JP3670188U JPH0517151Y2 (ja) 1988-03-18 1988-03-18

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Publication Number Publication Date
JPH01139830U JPH01139830U (ja) 1989-09-25
JPH0517151Y2 true JPH0517151Y2 (ja) 1993-05-10

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JPH01139830U (ja) 1989-09-25

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