JPH0517524B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0517524B2 JPH0517524B2 JP62211606A JP21160687A JPH0517524B2 JP H0517524 B2 JPH0517524 B2 JP H0517524B2 JP 62211606 A JP62211606 A JP 62211606A JP 21160687 A JP21160687 A JP 21160687A JP H0517524 B2 JPH0517524 B2 JP H0517524B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- electroformed layer
- thin film
- reflecting mirror
- backing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明は、反射鏡の製造方法の改良に関する。
（従来の技術）
従来、光学的鏡面を有する反射鏡を製造するに
は被加工物を直接切削、研削、研磨、鏡面コーテ
イングを行なう方法が実施されている。
は被加工物を直接切削、研削、研磨、鏡面コーテ
イングを行なう方法が実施されている。
ところで、反射鏡の多くは凹形状をなすため、
切削工程において穴ぐり加工が必要である。この
ため、上述した方法により小型の反射鏡を製造す
る場合、バイト寸法による制約を受け、穴ぐり加
工が困難となる。具体的には、穴ぐり加工におい
てその内径が数10mm程度で、長さがその２倍程度
の場合、バイトシヤンクが細くなり、剛性が低
く、その結果加工中にひびり振動を発生して加工
が困難となる。また、研削、研磨工程においても
同様な制約を受け、反射鏡の形状、寸法が制約さ
れ、ひいては小型、高精度化が困難となる。即
ち、研磨によつて表面粗さを向上させる場合、穴
内面の加工が難しく、かつ穴内面の形状、表面粗
さ測定にも制約を受ける。更に、同形状で複数個
の反射鏡を製造する場合、１個づつ前述した煩雑
な工程を繰返す必要があるため、製品精度のばら
つき、生産コストの高騰化を招く問題があつた。
切削工程において穴ぐり加工が必要である。この
ため、上述した方法により小型の反射鏡を製造す
る場合、バイト寸法による制約を受け、穴ぐり加
工が困難となる。具体的には、穴ぐり加工におい
てその内径が数10mm程度で、長さがその２倍程度
の場合、バイトシヤンクが細くなり、剛性が低
く、その結果加工中にひびり振動を発生して加工
が困難となる。また、研削、研磨工程においても
同様な制約を受け、反射鏡の形状、寸法が制約さ
れ、ひいては小型、高精度化が困難となる。即
ち、研磨によつて表面粗さを向上させる場合、穴
内面の加工が難しく、かつ穴内面の形状、表面粗
さ測定にも制約を受ける。更に、同形状で複数個
の反射鏡を製造する場合、１個づつ前述した煩雑
な工程を繰返す必要があるため、製品精度のばら
つき、生産コストの高騰化を招く問題があつた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、上記従来の問題点を解決するために
なされたもので、加工工程から生じる形状、寸法
の制約を受けることなく、所望する形状、寸法の
反射鏡を高精度で安価かつ量産的に製造し得る方
法を提供しようとするものである。
なされたもので、加工工程から生じる形状、寸法
の制約を受けることなく、所望する形状、寸法の
反射鏡を高精度で安価かつ量産的に製造し得る方
法を提供しようとするものである。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
本発明は、貫通する穴を有し、かつ前記穴内面
を鏡面とした反射鏡の製造において、前記反射鏡
の穴と同形状をなす母材を加工する第１工程と、
前記母材の外周面に金属薄膜を形成する第２工程
と、前記母材より大径の穴を有する裏当てかねに
前記母材を同軸に挿入する第３工程と、前記金属
薄膜と前記裏当てかねとの隙間を電鋳層で充填す
る第４工程と、前記裏当てかねが前記電鋳層を介
して一体的に被着された前記母材に急激な温度変
化を与えて前記金属薄膜により鏡面が転写された
前記電鋳層および前記裏当てかねを前記金属薄膜
が形成された前記母材から分離する第５工程とを
具備し、 前記電鋳層は前記母材よりも熱膨張係数が大き
い材料からなり、前記第５工程の分離は前記電鋳
層と前記母材との熱膨張係数の差を利用して行わ
れることを特徴とするものである。
を鏡面とした反射鏡の製造において、前記反射鏡
の穴と同形状をなす母材を加工する第１工程と、
前記母材の外周面に金属薄膜を形成する第２工程
と、前記母材より大径の穴を有する裏当てかねに
前記母材を同軸に挿入する第３工程と、前記金属
薄膜と前記裏当てかねとの隙間を電鋳層で充填す
る第４工程と、前記裏当てかねが前記電鋳層を介
して一体的に被着された前記母材に急激な温度変
化を与えて前記金属薄膜により鏡面が転写された
前記電鋳層および前記裏当てかねを前記金属薄膜
が形成された前記母材から分離する第５工程とを
具備し、 前記電鋳層は前記母材よりも熱膨張係数が大き
い材料からなり、前記第５工程の分離は前記電鋳
層と前記母材との熱膨張係数の差を利用して行わ
れることを特徴とするものである。
上記母材としては、例えばアンバー合金等を使
用することができる。
用することができる。
上記母材の外周面に被覆する金属薄膜は、急激
な温度変化を与えて上記電鋳層を剥離する際の剥
離材として作用する。かかる金属薄膜としては、
例えば金（Au）、銅（Cu）、ニツケル（Ni）、ア
ルミニウム（Al）、銀（Ag）、白金（Pt）等を用
いることができる。但し、これら金属薄膜の材質
と上記電鋳層の材質とが同質にならないようにそ
れらの組合わせを選択する必要がある。また、金
属薄膜の厚さについては10Å〜1000Å程度にすれ
ばよい。
な温度変化を与えて上記電鋳層を剥離する際の剥
離材として作用する。かかる金属薄膜としては、
例えば金（Au）、銅（Cu）、ニツケル（Ni）、ア
ルミニウム（Al）、銀（Ag）、白金（Pt）等を用
いることができる。但し、これら金属薄膜の材質
と上記電鋳層の材質とが同質にならないようにそ
れらの組合わせを選択する必要がある。また、金
属薄膜の厚さについては10Å〜1000Å程度にすれ
ばよい。
上記電鋳層は、上記金属薄膜から分離した後に
おいて反射鏡の反射面となる。かかる電鋳層とし
ては、例えばNi、Cr、Ni−Cr合金等を使用する
ことができる。また、電鋳層の厚さは5μｍ〜30
mm程度とすることが望ましい。なお、上記金属薄
膜への電鋳層の形成に先立つて、反射面の反射特
性を向上する目的で該金属薄膜上に無電解ニツケ
ルめつき膜等の無電解めつき膜を形成してもよ
い。
おいて反射鏡の反射面となる。かかる電鋳層とし
ては、例えばNi、Cr、Ni−Cr合金等を使用する
ことができる。また、電鋳層の厚さは5μｍ〜30
mm程度とすることが望ましい。なお、上記金属薄
膜への電鋳層の形成に先立つて、反射面の反射特
性を向上する目的で該金属薄膜上に無電解ニツケ
ルめつき膜等の無電解めつき膜を形成してもよ
い。
上記裏当てかねは、被加工物への切削、研磨等
の加工により形成され、その材料は例えばNi、
アンバー合金を使用することができる。
の加工により形成され、その材料は例えばNi、
アンバー合金を使用することができる。
上記急激な温度変化を与える手段としては、例
えば裏当てかねを形成した母材を液体窒素等の
冷却媒体に浸漬して急冷する方法、同母材に高
温の加熱ガスを吹付けて急熱する方法、を採用し
得る。
えば裏当てかねを形成した母材を液体窒素等の
冷却媒体に浸漬して急冷する方法、同母材に高
温の加熱ガスを吹付けて急熱する方法、を採用し
得る。
（作用）
本発明によれば、反射鏡の穴と同形状をなす母
材を加工し、前記母材の外周面に金属薄膜を形成
し、前記母材より大径の穴を有する裏当てかねに
前記母材を同軸に挿入し、さらに前記金属薄膜と
前記裏当てかねとの隙間を電鋳層で充填した後、
前記裏当てかねが前記電鋳層を介して一体的に被
着された前記母材に急激な温度変化を与える。こ
の際、前記電鋳層は前記母材よりも熱膨張係数が
大きい材料からなるため、前記電鋳層と前記母材
との熱膨張係数の差を利用して前記金属薄膜によ
り鏡面が転写された前記電鋳層および前記裏当て
かねを前記金属薄膜が形成された前記母材から分
離することができる。しかも、前記急激な温度変
化を与えることにより前記母材表面に被覆された
金属薄膜が他の部材に比べて急速に温度変化す
る。このため、前記電鋳層と前記母材との熱膨張
係数の差の利用と前記金属薄膜の急速な温度変化
との相乗作用により前記分離操作を確実に行うこ
とが可能になる。その結果、反射面となる電鋳層
と裏当てかねからなる反射鏡を製造することがで
きる。
材を加工し、前記母材の外周面に金属薄膜を形成
し、前記母材より大径の穴を有する裏当てかねに
前記母材を同軸に挿入し、さらに前記金属薄膜と
前記裏当てかねとの隙間を電鋳層で充填した後、
前記裏当てかねが前記電鋳層を介して一体的に被
着された前記母材に急激な温度変化を与える。こ
の際、前記電鋳層は前記母材よりも熱膨張係数が
大きい材料からなるため、前記電鋳層と前記母材
との熱膨張係数の差を利用して前記金属薄膜によ
り鏡面が転写された前記電鋳層および前記裏当て
かねを前記金属薄膜が形成された前記母材から分
離することができる。しかも、前記急激な温度変
化を与えることにより前記母材表面に被覆された
金属薄膜が他の部材に比べて急速に温度変化す
る。このため、前記電鋳層と前記母材との熱膨張
係数の差の利用と前記金属薄膜の急速な温度変化
との相乗作用により前記分離操作を確実に行うこ
とが可能になる。その結果、反射面となる電鋳層
と裏当てかねからなる反射鏡を製造することがで
きる。
また、前記金属薄膜被覆母材は一旦作製すれ
ば、前記母材を用いて同形状で精度のばらつきの
少ない反射鏡を何個でも製造することができる。
ば、前記母材を用いて同形状で精度のばらつきの
少ない反射鏡を何個でも製造することができる。
さらに、前記裏当てかねは被加工物から機械加
工により作製され、貫通する略円錐台形状の穴を
形成するための穴ぐり加工が必要である。しかし
ながら、前記裏当てかねの内面は反射鏡の製造後
において反射面として機能させないため、前記穴
ぐり加工は被加工物そのものから反射鏡を製造す
る従来法のように精度をそれほど要求されず、し
かもその内面への研磨処理も不要となる。従つ
て、加工工程から生じる形状、寸法の制約を受け
ることなく、所望する形状、寸法の反射鏡を高精
度で安価かつ量産的に製造することができる。
工により作製され、貫通する略円錐台形状の穴を
形成するための穴ぐり加工が必要である。しかし
ながら、前記裏当てかねの内面は反射鏡の製造後
において反射面として機能させないため、前記穴
ぐり加工は被加工物そのものから反射鏡を製造す
る従来法のように精度をそれほど要求されず、し
かもその内面への研磨処理も不要となる。従つ
て、加工工程から生じる形状、寸法の制約を受け
ることなく、所望する形状、寸法の反射鏡を高精
度で安価かつ量産的に製造することができる。
（発明の実施例）
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
まず、アンバー合金からなる被加工物を切削、
研削、研磨等の機械加工を施して製造すべき反射
鏡に対して反射した略円錐台形状の母材１を作製
した。つづいて、この母材１の外周面に金めつき
処理により厚さ10Åの金（Au）薄膜２を形成し
た（第１図図示）。ひきつづき、アンバー合金か
らなる被加工物を穴ぐり加工、研削して貫通する
略円錐台形状の穴を有する裏当てかね３を作製
し、この裏当てかね３の穴を前記母材１の金薄膜
２の外周面に約３mmの間隔をあけて配置した後、
ニツケル電鋳を施して母材の金薄膜２と裏当てか
ね３内面の間の厚さ３mmのNi電鋳層４を形成し
た（第２図図示）。
研削、研磨等の機械加工を施して製造すべき反射
鏡に対して反射した略円錐台形状の母材１を作製
した。つづいて、この母材１の外周面に金めつき
処理により厚さ10Åの金（Au）薄膜２を形成し
た（第１図図示）。ひきつづき、アンバー合金か
らなる被加工物を穴ぐり加工、研削して貫通する
略円錐台形状の穴を有する裏当てかね３を作製
し、この裏当てかね３の穴を前記母材１の金薄膜
２の外周面に約３mmの間隔をあけて配置した後、
ニツケル電鋳を施して母材の金薄膜２と裏当てか
ね３内面の間の厚さ３mmのNi電鋳層４を形成し
た（第２図図示）。
次いで、裏当てかね３がNi電鋳層４を介して
一体化された母材１を液体窒素に浸漬して急冷し
たところ、母材１とNi電鋳層４との熱膨張係数
の差により金薄膜２を境にしてNi電鋳層４及び
裏当てかね３が母材１から分離され、第３図に示
すように裏当てかね３とその内面に形成された反
射面として機能するNi電鋳層４とからなる反射
鏡５を製造することができた。
一体化された母材１を液体窒素に浸漬して急冷し
たところ、母材１とNi電鋳層４との熱膨張係数
の差により金薄膜２を境にしてNi電鋳層４及び
裏当てかね３が母材１から分離され、第３図に示
すように裏当てかね３とその内面に形成された反
射面として機能するNi電鋳層４とからなる反射
鏡５を製造することができた。
また、上記Ni電鋳層４及び裏当てかね３が分
離された金薄膜２の被覆母材１を用いて上述した
のと同様な処理を複数回行なつたところ、既に製
造した反射鏡を含めて互いに同形状で精度のばら
つきの少ない反射鏡を複数個製造できた。
離された金薄膜２の被覆母材１を用いて上述した
のと同様な処理を複数回行なつたところ、既に製
造した反射鏡を含めて互いに同形状で精度のばら
つきの少ない反射鏡を複数個製造できた。
なお、上記実施例は母材をアンバー合金、電鋳
層をニツケル、裏当てかねをアンバー合金で形成
し、急冷により反射鏡を製造したが、これに限定
されない。例えば、母材をアンバー合金、電鋳層
をニツケル、裏当てかねをニツケル合金で形成
し、これを急熱することによつても実施例と同様
に反射鏡を製造することができる。
層をニツケル、裏当てかねをアンバー合金で形成
し、急冷により反射鏡を製造したが、これに限定
されない。例えば、母材をアンバー合金、電鋳層
をニツケル、裏当てかねをニツケル合金で形成
し、これを急熱することによつても実施例と同様
に反射鏡を製造することができる。
上記実施例では、母材の外周面に被覆する金属
薄膜としてAu薄膜を用いたが、Au薄膜の代わり
にCu、Ni、Al、Ag、Ptの薄膜を用いても実施
例と同様な反射鏡を製造することができる。但
し、Ni薄膜を使用する場合にはCrからなる電鋳
層を使用した。
薄膜としてAu薄膜を用いたが、Au薄膜の代わり
にCu、Ni、Al、Ag、Ptの薄膜を用いても実施
例と同様な反射鏡を製造することができる。但
し、Ni薄膜を使用する場合にはCrからなる電鋳
層を使用した。
［発明の効果］
以上詳述した如く、本発明によれば加工工程か
ら生じる形状、寸法の制約を受けることなく、所
望する形状、寸法の反射鏡を高精度で安価かつ量
産的に製造でき、ひいては光学素子などに有効に
利用し得る等顕著な効果を有する。
ら生じる形状、寸法の制約を受けることなく、所
望する形状、寸法の反射鏡を高精度で安価かつ量
産的に製造でき、ひいては光学素子などに有効に
利用し得る等顕著な効果を有する。
第１図〜第３図は、本発明の実施例における反
射鏡の製造工程を示す断面図である。 １…母材、２…金薄膜、３…裏当てかね、４…
Ni電鋳層、５…反射鏡。
射鏡の製造工程を示す断面図である。 １…母材、２…金薄膜、３…裏当てかね、４…
Ni電鋳層、５…反射鏡。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 貫通する穴を有し、かつ前記穴内面を鏡面と
した反射鏡の製造において、前記反射鏡の穴と同
形状をなす母材を加工する第１工程と、前記母材
の外周面に金属薄膜を形成する第２工程と、前記
母材より大径の穴を有する裏当てかねに前記母材
を同軸に挿入する第３工程と、前記金属薄膜と前
記裏当てかねとの隙間を電鋳層で充填する第４工
程と、前記裏当てかねが前記電鋳層を介して一体
的に被着された前記母材に急激な温度変化を与え
て前記金属薄膜により鏡面が転写された前記電鋳
層および前記裏当てかねを前記金属薄膜が形成さ
れた前記母材から分離する第５工程とを具備し、 前記電鋳層は前記母材よりも熱膨張係数が大き
い材料からなり、前記第５工程の分離は前記電鋳
層と前記母材との熱膨張係数の差を利用して行わ
れることを特徴とする反射鏡の製造方法。 ２ 前記金属薄膜は、10Å〜1000Åの厚さを有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
反射鏡の製造方法。 ３ 前記電鋳層は、ニツケルからなり、かつ前記
母材はアンバー合金からなることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の反射鏡の製造方法。 ４ 前記第５工程における急激な温度変化は、前
記裏当てかねが前記電鋳層を介して一体的に被着
された前記母材を液体窒素に浸漬することにより
行われることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21160687A JPS64501A (en) | 1987-03-13 | 1987-08-26 | Production of reflecting mirror |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5813187 | 1987-03-13 | ||
| JP62-58131 | 1987-03-13 | ||
| JP21160687A JPS64501A (en) | 1987-03-13 | 1987-08-26 | Production of reflecting mirror |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01501A JPH01501A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS64501A JPS64501A (en) | 1989-01-05 |
| JPH0517524B2 true JPH0517524B2 (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=26399207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21160687A Granted JPS64501A (en) | 1987-03-13 | 1987-08-26 | Production of reflecting mirror |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS64501A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4807516A (en) * | 1987-04-23 | 1989-02-28 | The Boeing Company | Flight control system employing three controllers operating a dual actuator |
| KR101250004B1 (ko) * | 2010-07-02 | 2013-04-05 | 최영락 | 전주도금에 의한 반사경 및 그 제조방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55131191A (en) * | 1979-03-30 | 1980-10-11 | Toshiba Corp | Preparation of metallic mirror |
| JPS57210994A (en) * | 1981-06-22 | 1982-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | Production of reflecting mirror |
-
1987
- 1987-08-26 JP JP21160687A patent/JPS64501A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS64501A (en) | 1989-01-05 |
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