JPH05181123A

JPH05181123A - カラーフィルター付き電極基板及びそれを用いた液晶表示素子

Info

Publication number: JPH05181123A
Application number: JP3359376A
Authority: JP
Inventors: Atsuko Kaneko; 敦子金子; Shigeaki Yonemori; 重明米森
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1991-12-27
Filing date: 1991-12-27
Publication date: 1993-07-23

Abstract

(57)【要約】【目的】極めて平坦性の高いカラーフィルター付き電極
基板を得る。【構成】透明ガラス基板１上に着色パターン２１Ｒ、２
１Ｇ、２１Ｂを形成し、その上に、有機シリコン化合物
を配合した感光性組成物層を設け、これを光照射して硬
化せしめて保護層３とし、さらに保護層３上にＩＴＯ膜
４０を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルター付き電
極基板及びそれを用いた液晶表示素子に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子等の受光型表示素子はその
薄さ、軽さ、低消費電力などの特徴から従来表示装置の
主流を占めてきたＣＲＴ（陰極線管）に替わり得るもの
として近年目覚ましい発展を示している。この表示素子
をカラー化し、よりＣＲＴに近い表示性能を得るために
欠くことができないものがカラーフィルターであり、こ
れまでに様々な材料や方式が提案されてきている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】その代表例はゼラチン
などの高分子の薄膜を染料により染色して得られる染色
カラーフィルターであり、これまでの液晶方式の小型カ
ラーテレビなどに用いられてきている。この染色カラー
フィルターは透過率、色度の点で優れているものであっ
たが、近年液晶表示素子の大型化が進むに及んで幾つか
の欠点が指摘されている。すなわち、大面積にわたる色
度の均一性の不足、工程の複雑さからくるコスト高、あ
るいは染料を用いることによる耐熱性や耐候性の不足等
である。

【０００４】こうした欠点を補うものとして、近年、様
々なカラーフィルターの製造法が提案されている。例え
ば、色素を感光性樹脂の中にあらかじめ分散させてフォ
トリソグラフィーによりパターニングしていく、いわゆ
るスラリー法、無機あるいは有機の顔料や染料を用い
て、スクリーン、オフセット、グラビア印刷等により基
板上に直接パターンを形成する印刷法などである。

【０００５】しかし、これらのカラーフィルター付き基
板には、各色内または各色間で厚みむらを生じる（通常
０．１μｍ以上）という問題点がある。特に、上記のス
ラリー法ではパターン精度の良いカラーフィルターを形
成することが可能である一方、色間の重なりによる厚み
むらが大きい。かかる厚みむらは、このようなカラーフ
ィルター付き基板を液晶表示素子の一方の電極基板とし
て用いたとき、十分なコントラストや階調が取れないな
どの問題をひきおこす。

【０００６】かかるカラーフィルターにおいては、着色
層保護等を目的として着色層の上に透明な保護層を形成
することが多いが、このような保護層は、同時に着色層
の平坦化の機能もある程度有する。したがって、保護層
として平坦化機能の高いものを用いることは重要であ
る。保護層には、いくつかの材料が提案されており、大
別して、アクリル系、ポリイミド・ポリアミド系、シリ
コーン系などが例示される。

【０００７】アクリル系としては、特開昭６１−１７１
２４号公報、特開昭６１−１４１４０１号公報、特開昭
６２−８９０２２号公報等に記載があるが、一般に、上
記の平坦化機能が十分でない欠点を有する上、透明電極
との密着性、及びパターニング性が十分でない欠点を有
する。すなわち、保護層の上には透明導電膜を形成し、
フォトリソ工程・ウェットエッチング処理により、微細
加工（パターニング）が施されるが、この際、十分な保
護膜／透明導電膜間の付着力が得られにくく、透明導電
膜のパターニング中において、剥離が発生したり、アン
ダーカットやサイドエッチが激しい等の問題があった。

【０００８】ポリイミド・ポリアミド系としては、特開
昭６０−７８４０１号公報、特開昭６１−７７００７号
公報等に記載されている。これは、一般に、上記の透明
電極との密着性、及びパターニング性についてはアクリ
ル系に比べて勝るものの、平坦化機能が極めて低い欠点
があるうえ、コストが高いことから、あまり使用される
ことがない。

【０００９】さらに、シリコーン系については、特開昭
６３−２１８７７１号公報等に熱効果性のものが記載さ
れているが、上記の平坦化機能が十分でないうえ、十分
な保護膜／透明導電膜間の付着力が得られにくく、透明
導電膜のパターニング中において、剥離が発生したり、
アンダーカットやサイドエッチが激しい等の問題を有し
ている。

【００１０】また、保護層表面を平坦化するための別な
試みとして、保護層の上を研磨することが特開平１−１
９３７８１号公報、特開平１−２０６３０４号公報など
により提案されている。

【００１１】しかしながら、これは研磨という生産性の
悪い工程を必要とするために、コストアップの大きな要
因となってしまう。また、研磨により保護層上にキズが
発生しやすいことなどの問題点をも有する。

【００１２】本発明は、従来技術が有していた前述の欠
点を解消しようというものであり、着色層の平坦化能に
優れ、また電極層との密着性等がよい保護層を設けるこ
とにより、高品質、かつ品質が安定で、高生産性、低コ
ストのカラーフィルター付き電極基板を得ることを目的
とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記の課題を
解決すべく鋭意研究を行った結果、有機シリコン化合物
を配合した感光性組成物層を光照射して硬化せしめた保
護層を用いることが上記課題解決に極めて有効であるこ
とを見出すに至った。

【００１４】すなわち、本発明は、基板と、該基板上に
形成された着色層と、その上に形成された、有機シリコ
ン化合物を配合した感光性組成物層を光照射して硬化せ
しめた保護層と、該保護層上に設けられた電極層とを有
することを特徴とするカラーフィルター付き電極基板、
及び、液晶パネルを構成する少なくとも一方の電極基板
として前記のカラーフィルター付き電極基板を用いたこ
とを特徴とする液晶表示素子を提供するものである。

【００１５】本発明において、着色層上に形成する保護
層材料として用いられる感光性組成物に配合される有機
シリコン化合物としては、光などの照射によって重合も
しくは架橋可能な感光基、例えば、アクリロイル基、メ
タアクリロイル基などの炭素−炭素不飽和結合を末端も
しくは側鎖に持つオルガノシラン、オルガノシロキサン
のオリゴマー等の有機シリコン化合物が例示され、具体
的には、一般式ＣＨ₂ ＝ＣＲ¹ ＣＯＯ−Ｒ² −Ｓｉ（ＯＲ³)_x Ｒ⁴ _(3-x) （式中でＲ¹ は水素原子またはメチル基、Ｒ² は炭素数
１〜１０程度のアルキレン基、Ｒ³ 、Ｒ⁴ は水素、アル
キル基、またはハロゲン基を表し、ｘは０〜３の整数を
表す。）で表されるモノマーや化１で表されるオリゴマ
ーなどが例示される。

【００１６】

【化１】

【００１７】（式中で、Ｒ⁵ は（ＣＨ₂ ）_m を表し、Ｒ
⁶ は（ＣＨ₂ ）_k を表し、Ｒ⁷ は水素原子またはメチル
基を表し、Ｒ⁸ は水素原子、メチル基またはフェニル基
を表し、ｍ、ｋは０または自然数、ｎは自然数、かつ
ｍ、ｋ、ｎは合計で２０以下）

【００１８】かかる有機シリコン化合物は、上記感光性
組成物１００重量部中５〜９５重量部程度、好ましくは
１０重量部以上配合されて、感光性組成物の１つの主成
分となされれば良い。

【００１９】また、上記感光性化合物としては、反応性
希釈剤を含有していても良い。反応性希釈剤としては、
１官能性のものとして、２−エチルヘキシル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、テ
トラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリール誘導体の（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペン
テニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが例示さ
れる。

【００２０】また、多官能性のものとして、１，３−ブ
タンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタン
ジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジ（メタ）アクリレート、ジエチレンジオールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、などが例示され
る。

【００２１】これらの反応性希釈剤を、感光性組成物に
適宜配合することにより、組成物の平均的な分子量を数
千〜十万にすることができ、良好な塗布性が得られるよ
うになる。また、耐熱性を向上する観点からはメタアク
リロイル基の含有を多くすることが好ましい。

【００２２】また、上記感光性組成物に含有せしめる光
開始剤としては、たとえば、２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製商
品名「グロキュア１１７３」）、ベンゾインイソブチル
エーテル（ステファーケミカル社製商品名「ビキュア
１０」）、ベンゾフェノン（日本化薬社製「商品名カ
ヤキュアＢＰ」）、の他、ビアセチル、ベンジル、ベン
ゾイル、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチウ
ラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾ
イルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイ
ド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１
−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２
−メチルプロパン−１−オン、チオキサントン、メチル
チオキサントン、２−クロロチオキサントンなどを用い
ることができる。

【００２３】また、光開始剤ベンゾフェノンに対する
４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどの
ような適当な増感剤を加えても良い。

【００２４】さらに、この感光性組成物はメタノールや
イソブタノール、ヘキシレングリコール、ジアセトンア
ルコールなどの溶剤で固形分濃度２０％程度まで希釈し
てもよい。むろん、希釈せずにそのまま用いてもよい。
また、上記感光性組成物には、ハイドロキノン、メチル
エーテルハイドロキノン、ベンゾエート、ベンゾキノン
等の熱重合禁止剤が配合されていても良い。

【００２５】さらに、上記感光性組成物には、硬化膜の
硬度を高くするためにシリカゾルやアルミナゾルなどを
０〜３０％、好ましくは５〜１５％程度加えることが極
めて有効である。最終的には硬化膜の硬度は、鉛筆硬度
で１０Ｈ以上好ましくは２０Ｈ以上とされることが好ま
しい。

【００２６】保護層の厚みは、硬化後で 1μｍ〜１００
μｍ程度が好ましい。これより薄いと、平坦化性能が不
足し、これより厚いと、透明性が低下したり、クラック
等を生じて強度低下の原因となるおそれがある。特に、
厚みを５μｍ、更に好ましくは１０μｍ以上とすると着
色層上の異物の影響を受けにくくすることが可能になる
ため、好ましい。

【００２７】本発明に用いられる基板としては特に限定
されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エステル、ジアセテート等の有機シート、各種ガラス板
等の透明基板が例示される。基板の厚みは、目的により
選ばれ、特に限定されない。液晶表示素子用でガラス基
板を用いる場合については、０．３ｍｍ〜１．５ｍｍ程
度が通常用いられる。

【００２８】本発明のカラーフィルターは、上記のスラ
リー法の他、どのような方法で形成されていても良い。
カラーフィルターのパターンも特に限定されるものでは
なく、例えばストライプパターン、モザイクパターン、
デルタパターン等のいずれでもよい。また、コントラス
トを向上させるために、パターン間にブラックマトリク
スなどの光遮蔽パターンを形成してもよく、ブラックマ
トリクスの形成も黒色クロム等の蒸着法のほか、黒色感
光性レジストをフォトリソグラフィーでパターニングし
たものでも良い。

【００２９】以下、スラリー法を採用した場合につい
て、本発明に係るカラーフィルター付き電極基板の製造
方法について説明する。

【００３０】まずガラス、プラスチック等の透明基板に
ブラックマトリクスと呼ばれる遮光層を形成する。この
遮光層はＴＦＴ方式の液晶素子に於いてはトランジスタ
の特性の保持あるいはコントラストの低下防止のために
設けられるもので、通常遮光性に優れた黒色クロム薄膜
により形成される。

【００３１】またＳＴＮ（スーパーツイステッドネマチ
ック）方式の液晶素子に代表される単純マトリクス駆動
においては、もともとこれらの素子のコントラストがＴ
ＦＴ方式に比べて低いことや、低コスト化の追求のため
に、ブラックマトリクスは省略されたり、あるいは３原
色の重ね合わせにより形成されたり、着色レジストで形
成されることが多い。

【００３２】次に、基板上に顔料等の色素と感光性樹脂
とを含む着色レジストを塗布し、さらにこの着色レジス
ト層に重ねて酸素遮断膜としてＰＶＡ（ポリビニルアル
コール）層等を塗布した後、所定のパターン形状のフォ
トマスクを介して露光を行い、その後現像により未露光
部分を除去してカラーパターンを形成する。この操作を
さらに別の色で２回繰り返し３原色のカラーフィルター
が形成される。

【００３３】この上に、上記感光性組成物からなる層を
形成する。その方法としては、ロールコーター、エアナ
イフコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、バ
ーコーター、スピンコーター等の各種コーターによるこ
とができる。

【００３４】感光性組成物層の硬化は、高圧水銀灯、キ
セノンランプ等の紫外線、可視光線、電子線等の活性エ
ネルギー線を照射することにより行われれば良い。フォ
トマスクを通してパターニングして照射し、未露光部分
を溶剤等で除去して、パターニング形成しても良い。

【００３５】次いで、保護層の上には電極層が形成され
る。電極層は、アルミニウム、またはクロム等からな
る。また、透過型表示体においては光透過性である必要
があり、一般に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）や酸化錫等
を用いることが好ましいが、これに限られない。また、
電極層は、表示に対応してパターニングされていてもよ
いし、共通電極として用いられる場合などにはベタ電極
とされてもよい。電極層の形成方法としては、特にこれ
に限るものではないが、層厚を均一にする見地からは、
蒸着法、スパッタ法等が好ましく用いられる。

【００３６】なお、本発明においては、必要に応じて電
極の上もしくは下にＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 等の絶縁膜、Ｔ
ＦＴ、ＭＩＭ、薄膜ダイオード等の能動素子、位相差
膜、偏光膜、反射膜、光導電膜等が形成されていてもよ
い。

【００３７】さらに、電極付基板上に、液晶表示体の場
合は、必要に応じて配向膜を形成する。これは、ポリイ
ミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール等の有機樹脂
膜をラビングしたものであってもよいし、ＳｉＯ等を斜
め蒸着しても良いし、垂直配向剤を塗布したものであっ
てもよい。

【００３８】さらに、液晶表示体を製造する方法につい
ては、通常用いられる方法が採用できる。すなわち、一
対の基板のうちの一方を上記カラーフィルター付き電極
基板とし、他方を適宜パターニングされた電極付基板と
し、上記基板上に必要に応じて液晶配向膜を形成し、次
いで、前記一対の基板を電極面側を相対向させて周辺部
をシールしてその内部に液晶を封入する。これにより、
鮮明度の高いカラー液晶表示体を得ることができる。

【００３９】本発明のカラーフィルター付き電極基板を
用途の面からみれば、液晶ディスプレイ面、ブラウン管
表示面、撮像管の受光面等があげられる。また、特に、
厚みむらのきわめて少ないカラーフィルターが得られる
ことから、基板間隔精度の要求の厳しい液晶素子用とし
て好ましいものである。

【００４０】本発明のごとく、有機シリコン化合物を配
合した感光性組成物に光照射、硬化せしめた膜をカラー
フィルターの保護膜とすることによって極めて高い平坦
化能が得られることについての理由は明確には判明して
いないが、おおよそ以下のように推察される。

【００４１】従来の保護膜用のほとんどの材料は、膜材
料塗布直後は膜面が平坦であっても硬化時の溶剤の蒸発
とともに下地の着色層の凹凸を反映した表面を形成す
る。この原因は明らかではないが、概略的には、硬化に
要する時間と膜材料が架橋する際の各分子の相互作用の
強さの兼ね合い、膜材料の硬化時の収縮等が原因になっ
ていると考えられる。たとえば、熱硬化の場合であると
硬化にかなりの時間を要するため、分子間の相互作用に
より、硬化中の膜材料の流動が生じ得る。

【００４２】一方、本発明において保護膜として用いる
有機シリコン化合物を配合した感光性組成物は、紫外線
等の照射によって短時間に硬化が進行するとともに、重
合、架橋時の分子間の相互作用の強さも適当なため、表
面の平らな形状を保持したまま硬化させることができる
ものと想定される。

【００４３】さらに、本発明にかかる感光性組成物は、
分子量を数千〜数万と比較的低くすることができ、無溶
剤としても適当な流動性をもつ。したがって、無溶剤で
カラーフィルター上に塗布できるため、溶剤の蒸発に伴
うポロシティーの増加や下地の着色層の凹凸が露呈して
くる心配を考慮する必要が少ない。

【００４４】したがって、後工程でカラーフィルターの
表面を研磨する必要がなくなることから、研磨による異
物やキズの発生がなくなることによる品質の向上の他、
カラーフィルターの製造時間の短縮、コストの低減、ク
リーン度のアップなどの効果を得ることができる。

【００４５】また、感光性組成物を全面に塗布した後、
フォトマスクのネガパターンを重ねて、露光、硬化さ
せ、現像液にて現像処理して、所望の形状の樹脂パター
ンを形成することができる。このようにすると、カラー
フィルター付き電極基板と対向する電極パターン付き基
板とを重ねた間に液晶を封入してシールする際に、シー
ル部分の保護層が選択的に除去しておくことができるの
で、シール接着効果を向上させることが可能となる。

【００４６】さらに、この保護層はＩＴＯとの透明導電
膜との付着力がよく、ＩＴＯの抵抗値もガラス基板上に
成膜したときの透明導電膜並みに低くすることができ
る。この機構は必ずしも明確ではないが、保護層樹脂の
官能基と透明導電膜との間の結合手の化学的結合が関与
していると考えられる。

【００４７】したがって、保護層と透明導電膜との間に
ＳｉＯ₂ 膜のような中間膜を設ける必要もなく、カラー
フィルターの製造時間の短縮やコストの低減が図れる。

【００４８】

【実施例】

（実施例１）本発明に関わるカラーフィルターの製造方
法を第１図（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。

【００４９】まず、透明ガラス基板１上に、感光性を有
する黒色レジスト２０をスピンコ−ターで全面に塗布形
成した後、フォトマスクを用いて露光する（図１
（ａ））。その後、黒色レジスト層２０の未露光部のみ
を溶解する溶剤で現像して、黒色の光遮閉パターン２１
を形成した後、熱処理を施して樹脂を硬化させる（図１
（ｂ））。

【００５０】次に、同様にして赤色２１Ｒ、緑色２１
Ｇ、青色２１Ｂの着色パターンを光遮閉パターンの間に
順次形成する（図１（ｃ））。

【００５１】この着色パターンの上に、３−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシランをメタノールとｉ−ブタ
ノールの混合溶剤に溶かして３０％濃度にした溶液２０
重量部に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル
プロパン−１−オン（メルク社製商品名「グロキュア
１１７３」）１重量部を加えた感光性組成物を、スピン
コーターで、硬化後の保護膜３の膜厚が３μｍになるよ
うに全面に塗布した（図１（ｄ））。その後、高圧水銀
灯を用いて５０００ｍＪ／ｃｍ² （波長λ＝３６５ｎ
ｍ）の光を照射する。なお、この際同時に５０℃程度の
熱が加わっている。

【００５２】次に、マグネトロンスパッタリング法で、
ＩＴＯ膜４０を０．２５μｍの厚みに成膜した（図１
（ｅ））。上記のＩＴＯ膜上にライン形状のレジスト
（マスキング剤）を塗布した後、塩酸・塩化第二鉄系エ
ッチング剤中に浸漬して、ＩＴＯ膜のパターニングを行
った。

【００５３】（実施例２）実施例１の感光性組成物の替
わりに、平均分子量１０００程度のメタアクリル変成し
たポリフェニルメチルシロキサン１重量部にプロピレン
グリコールモノメタアクリレート４重量部を加えた感光
性組成物を用い、硬化後の厚みが１２μｍとなるように
塗布したほかは実施例１と同様に行った。

【００５４】（比較例１）実施例１の感光性組成物の替
わりに、アクリル系樹脂（日本合成ゴム社製商品名
「オプトマーＳＳ−７２３５」）を用い、２２０℃で１
時間オーブンで加熱して硬化させたほかは実施例１と同
様に行った。

【００５５】（比較例２）実施例１の感光性組成物の替
わりに、シリコーン系熱硬化性樹脂（長瀬産業社製商
品名「ＯＳ−８０８」）を用い、２２５℃で１時間オー
ブンで加熱して硬化させたほかは実施例１と同様に行っ
た。

【００５６】上記実施例及び比較例の方法により製造さ
れたカラーフィルターについて、表面粗さ計を用いて着
色層上のコート層形成前後の表面の凹凸を調べ、下記式
により定義された平坦化率δを求めて平坦化能を評価し
た。平坦化率 δ＝（１−ａ／ｂ）×１００（％）（式中ａはコート層形成後の表面の段差を表し、ｂは形
成前の段差を表す。）

【００５７】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量（マスキング剤の幅よりさ
らにエッチングが進行し、細くなった量）Ａ（μｍ）、
ＩＴＯ膜の面抵抗値ｒ（Ω／ｃｍ² ）もともに評価し
た。結果を表１に示す。

【００５８】

【表１】

【００５９】表１から明らかなように、実際例の方法で
は比較例の方法よりも、着色層の表面の凹凸を大幅に改
善できることがわかる。

【００６０】保護層形成前には着色層表面の段差は、実
施例、比較例ともに１．２μｍであったが、比較例の方
法ではいずれも保護層形成後の表面の段差は０．４〜
０．６μｍあり、このままでは、例えば単純マトリクス
方式の液晶表示装置に用いた場合、十分なコントラスト
や階調が取れないなどの問題が発生する。したがって、
保護層を研磨して表面を物理的に平坦化する必要があ
る。

【００６１】これに対して実施例の方法では、保護層形
成後に表面段差が最大で０．１μｍの平坦性を有する面
が形成され、表面研磨を必要とせず、高品位の液晶表示
を達成できるレベルであった。

【００６２】また、ＩＴＯ膜をパターニングした際のＩ
ＴＯ膜のサイドエッチング量も実施例のものは比較例に
比べて極めて少なく、良好であった。また、実施例のＩ
ＴＯ膜の面抵抗値は１０〜１１Ω／ｃｍ² で、ガラスの
みの上に成膜したＩＴＯ膜の値とほぼ同じで、下地膜に
よるＩＴＯ膜の比抵抗値上昇がほとんど見られなかっ
た。

【００６３】（実施例３、４）実施例１、２で得られた
カラーフィルター付き電極基板を一方の基板として使用
し、もう一方の電極付き基板とともに、表面にポリイミ
ド膜をラビングして得た配向膜を形成した。液晶として
はカイラル化合物を添加した液晶ＺＬＩ２２９３（商品
名、メルク社製）を使用してこの基板間に挟持し、２４
０度ツイストの１／２４０デューティ液晶表示素子を作
成した。この液晶表示素子を駆動したところ、面内の色
差が少なくコントラストや色再現性等が良好であって、
高品位のフルカラー表示ができることが確認された。

【００６４】

【発明の効果】本発明のごとく、有機シリコン化合物を
配合した感光性組成物に光照射、硬化せしめた膜をカラ
ーフィルターの保護膜とすることによって、極めて高い
平坦化能を有する保護膜が得られる。

【００６５】すなわち、本発明のカラーフィルター付き
基板においては、後工程でカラーフィルターの表面を研
磨する必要がなくなることから、研磨による異物やキズ
の発生がなくなることによる品質の向上の他、カラーフ
ィルターの製造時間の短縮、コストの低減、クリーン度
のアップなどの効果を得ることができる。

【００６６】また、特に、ポリフェニルメチルシロキサ
ン系の有機シリコン化合物を配合した感光性組成物を光
照射して硬化せしめた保護膜においては、一度塗りで５
μｍ以上の厚膜にしてもクラック等の生じることのない
保護膜が得られることが認められた。このように厚い保
護膜においては、着色層上に多少異物があっても保護膜
で覆うことにより、十分平坦化可能となる。したがっ
て、カラーフィルター付き基板の歩留りを飛躍的に向上
し得る効果をも奏する。

【００６７】さらに、本発明のカラーフィルター付き電
極基板を用いることにより、面内の色差が少なくコント
ラストや色再現性等が良好であって、高品位のフルカラ
ー液晶表示素子が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルター付き電極基板の製造
工程を示す概略断面図

【符号の説明】

１透明ガラス基板２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ着色パターン３保護層４０ＩＴＯ膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板と、該基板上に形成された着色層と、
その上に形成された、有機シリコン化合物を配合した感
光性組成物層を光照射して硬化せしめた保護層と、該保
護層上に設けられた電極層とを有することを特徴とする
カラーフィルター付き電極基板。
【請求項２】液晶パネルを構成する少なくとも一方の電
極基板として請求項１のカラーフィルター付き電極基板
を用いたことを特徴とする液晶表示素子。