JPH05182620A - 電子銃のフィラメント状態監視装置 - Google Patents
電子銃のフィラメント状態監視装置Info
- Publication number
- JPH05182620A JPH05182620A JP3312198A JP31219891A JPH05182620A JP H05182620 A JPH05182620 A JP H05182620A JP 3312198 A JP3312198 A JP 3312198A JP 31219891 A JP31219891 A JP 31219891A JP H05182620 A JPH05182620 A JP H05182620A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filament
- current
- emission current
- reference value
- electron gun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】計算機が記憶した条件で電子線を出力すること
から始まり、その後のエミション電流を計算機が監視す
ることでフィラメント状態を把握し、適切な電子線を得
ると共にフィラメント寿命の短命を防止する。 【構成】ＣＰＵ１はフィラメント電源４及びバイアス電
源５さらに高圧発生部３に電子線が出力されるであろう
状態に、記憶したデータを用いてフィラメント電流，バ
イアス電圧，加速電圧を自動的に設定をする。その後エ
ミッション電流検出器の内容をＣＰＵにフィードバック
させ、実測値を取り込み、エミッション電流基準値と実
測値との比較を行ない種々のフィラメント状態の判断を
ＣＰＵが行なう。
から始まり、その後のエミション電流を計算機が監視す
ることでフィラメント状態を把握し、適切な電子線を得
ると共にフィラメント寿命の短命を防止する。 【構成】ＣＰＵ１はフィラメント電源４及びバイアス電
源５さらに高圧発生部３に電子線が出力されるであろう
状態に、記憶したデータを用いてフィラメント電流，バ
イアス電圧，加速電圧を自動的に設定をする。その後エ
ミッション電流検出器の内容をＣＰＵにフィードバック
させ、実測値を取り込み、エミッション電流基準値と実
測値との比較を行ない種々のフィラメント状態の判断を
ＣＰＵが行なう。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子顕微鏡等における
タングステンフィラメント交換式の電子銃において、フ
ィラメントの異常状態を自動的に検出する方法に関す
る。
タングステンフィラメント交換式の電子銃において、フ
ィラメントの異常状態を自動的に検出する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のタングステンフィラメント交換式
の装置は、フィラメント電流とバイアス電圧さらに加速
電圧を手動で調整し、エミッションメータ（エミッショ
ン電流）を目視することによりフィラメントの異常状態
を監視しており、状態の判断に熟練を必要とした。
の装置は、フィラメント電流とバイアス電圧さらに加速
電圧を手動で調整し、エミッションメータ（エミッショ
ン電流）を目視することによりフィラメントの異常状態
を監視しており、状態の判断に熟練を必要とした。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、タン
グステンフィラメントを交換するさい微妙な取り付けを
必要としており取り付けかたによっては、適切な電子線
を得ることができない、フィラメントの寿命を短くす
る、フィラメント取り付けの良否を簡単に判断出来ない
という問題点があった。
グステンフィラメントを交換するさい微妙な取り付けを
必要としており取り付けかたによっては、適切な電子線
を得ることができない、フィラメントの寿命を短くす
る、フィラメント取り付けの良否を簡単に判断出来ない
という問題点があった。
【０００４】また、フィラメント電流とバイアス電圧さ
らに加速電圧を手動により調整するため調整者により電
流及び電圧の設定値が多すぎたり，少なすぎたりする等
条件が一定でなくフィラメントの異常状態の判断をより
不確実にしていると言った問題もある。
らに加速電圧を手動により調整するため調整者により電
流及び電圧の設定値が多すぎたり，少なすぎたりする等
条件が一定でなくフィラメントの異常状態の判断をより
不確実にしていると言った問題もある。
【０００５】本発明の目的は、計算機が記憶した条件で
電子線を出力することから始まり、その後のエミション
電流を計算機が監視することでフィラメント状態を把握
し、適切な電子線を得ると共にフィラメント寿命の短命
を防止することにある。
電子線を出力することから始まり、その後のエミション
電流を計算機が監視することでフィラメント状態を把握
し、適切な電子線を得ると共にフィラメント寿命の短命
を防止することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、基準とする電子線が出力するであろう状態（エミッ
ション電流基準値）を計算機が記憶することから始まり
その後、記憶したデータ（フィラメント電流，バイアス
電圧，加速電圧）を用いて自動的に設定する。そのさい
のエミッション電流と上記に示したエミッション電流基
準値との比較を行なうことにより種々のフィラメント状
態の判断を計算機が行なう様にしたものである。
に、基準とする電子線が出力するであろう状態（エミッ
ション電流基準値）を計算機が記憶することから始まり
その後、記憶したデータ（フィラメント電流，バイアス
電圧，加速電圧）を用いて自動的に設定する。そのさい
のエミッション電流と上記に示したエミッション電流基
準値との比較を行なうことにより種々のフィラメント状
態の判断を計算機が行なう様にしたものである。
【０００７】
【作用】エミッション電流を計算機が読み取り、読み取
った値と基準値とを比較することにより、フィラメント
取り付け設定の不良，断線，放電等の異常を迅速に判断
できる。また、本方法は測定値と基準値との単純な比較
によるものであるため誤動作することはない。
った値と基準値とを比較することにより、フィラメント
取り付け設定の不良，断線，放電等の異常を迅速に判断
できる。また、本方法は測定値と基準値との単純な比較
によるものであるため誤動作することはない。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の動作及び構成について、図
１，図２を用いて説明する。
１，図２を用いて説明する。
【０００９】フィラメントの異常状態には、フィラメン
トの設定が突出しすぎ、フィラメントの設定が引き込み
すぎ、フィラメントの断線、電子銃内の放電があげら
れ、これら異常状態になっていると適切な電子線を得る
ことができない。又これらの異常状態は、エミッション
電流を監視することによりある程度の状態判断をつける
ことが可能である。
トの設定が突出しすぎ、フィラメントの設定が引き込み
すぎ、フィラメントの断線、電子銃内の放電があげら
れ、これら異常状態になっていると適切な電子線を得る
ことができない。又これらの異常状態は、エミッション
電流を監視することによりある程度の状態判断をつける
ことが可能である。
【００１０】本発明はこのエミッション電流を利用した
ものであり以下詳細について説明する。
ものであり以下詳細について説明する。
【００１１】図１の横軸はフィラメント電流、縦軸はエ
ミッション電流を示している。曲線１ａはフィラメント
の設定が正常状態（フィラメントの取り付け位置基準状
態）でバイアス電圧を０Ｖに設定後、フィラメント電流
及び加速電圧を調整し基準となる電子線を得た時の状態
を示している（基準となる電子線であるかの判断は、熟
練者の手動による調整、または出願番号 平1−180342
号，平1−295762号に示した方法にて得たもの）、又こ
の時のバイアス電圧（０Ｖ）フィラメント電流，加速電
圧、エミッション電流を中央演算器（以下ＣＰＵと呼
ぶ）が記憶する。その際記憶したエミッション電流値を
電流基準値とする。本装置の特徴は、上記で示したエミ
ッション電流基準値（曲線１ａ）をＣＰＵが予め記憶し
設定することから始まる、その後エミッション電流を実
測し下記に示す判断基準をもってフィラメントの状態を
監視し、ＣＰＵがフィラメント状態異常と判断すれば警
告処理（状態内容の表示等）又は、バイアス電圧自動調
整をおこなう。
ミッション電流を示している。曲線１ａはフィラメント
の設定が正常状態（フィラメントの取り付け位置基準状
態）でバイアス電圧を０Ｖに設定後、フィラメント電流
及び加速電圧を調整し基準となる電子線を得た時の状態
を示している（基準となる電子線であるかの判断は、熟
練者の手動による調整、または出願番号 平1−180342
号，平1−295762号に示した方法にて得たもの）、又こ
の時のバイアス電圧（０Ｖ）フィラメント電流，加速電
圧、エミッション電流を中央演算器（以下ＣＰＵと呼
ぶ）が記憶する。その際記憶したエミッション電流値を
電流基準値とする。本装置の特徴は、上記で示したエミ
ッション電流基準値（曲線１ａ）をＣＰＵが予め記憶し
設定することから始まる、その後エミッション電流を実
測し下記に示す判断基準をもってフィラメントの状態を
監視し、ＣＰＵがフィラメント状態異常と判断すれば警
告処理（状態内容の表示等）又は、バイアス電圧自動調
整をおこなう。
【００１２】ａ．実測したエミッション電流値が、ゼロ
（図１ ４ａ）の場合、フィラメント断線と判断する。
（図１ ４ａ）の場合、フィラメント断線と判断する。
【００１３】ｂ．実測したエミッション電流値が、エミ
ッション電流基準値よりある定めた値Ｘ（図１ 曲線２
ａ）より大きい場合、フィラメントの設定が突出しすぎ
と判断する。又、バイアス電圧が０ＶであることからＣ
ＰＵがバイアス電圧をある定めた間隔にて上げることに
よりエミッション電流を抑制し電流基準値に自動調整す
る。
ッション電流基準値よりある定めた値Ｘ（図１ 曲線２
ａ）より大きい場合、フィラメントの設定が突出しすぎ
と判断する。又、バイアス電圧が０ＶであることからＣ
ＰＵがバイアス電圧をある定めた間隔にて上げることに
よりエミッション電流を抑制し電流基準値に自動調整す
る。
【００１４】ｃ．実測したエミッション電流値が、エミ
ッション電流基準値よりある定めた値Ｙ（図１ 曲線３
ａ）より少ない場合、フィラメントの設定が引き込みす
ぎと判断する。
ッション電流基準値よりある定めた値Ｙ（図１ 曲線３
ａ）より少ない場合、フィラメントの設定が引き込みす
ぎと判断する。
【００１５】ｄ．実測したエミッション電流値が、エミ
ッション電流基準値近辺でふらつく場合（図１エミッシ
ョン電流基準値＋Ｘ エミッション電流基準値−Ｙ内で
電流が安定しない）、電子銃内の放電と判断する。
ッション電流基準値近辺でふらつく場合（図１エミッシ
ョン電流基準値＋Ｘ エミッション電流基準値−Ｙ内で
電流が安定しない）、電子銃内の放電と判断する。
【００１６】本発明は、以上の如き方法によりフィラメ
ント状態を監視することにより、常に最適な電子線を得
る手助けを行なうと共に過剰電流の流れすぎ及び、電子
銃内の放電に伴うフィラメント寿命の短命の防止も行な
うものである。次にこの方法を実施するための装置の構
成を、図２を用いて説明する。
ント状態を監視することにより、常に最適な電子線を得
る手助けを行なうと共に過剰電流の流れすぎ及び、電子
銃内の放電に伴うフィラメント寿命の短命の防止も行な
うものである。次にこの方法を実施するための装置の構
成を、図２を用いて説明する。
【００１７】図２は、タングステンフィラメント交換式
の走査形電子顕微鏡の構成図を示しており、１はＣＰＵ
である、ＣＰＵはフィラメント電源４及びバイアス電源
５さらに高圧発生部３に電子線が出力されるであろう状
態に、記憶したデータを用いてフィラメント電流，バイ
アス電圧，加速電圧を自動的に設定をする。（図１・１
ａに示すエミッション電流基準値）その後エミッション
電流検出器の内容をＣＰＵにフィードバックさせ、実測
値を取り込み上記で説明した方法にて、エミッション電
流基準値と実測値との比較を行ない種々のフィラメント
状態の判断をＣＰＵが行なう様にしたものである。
の走査形電子顕微鏡の構成図を示しており、１はＣＰＵ
である、ＣＰＵはフィラメント電源４及びバイアス電源
５さらに高圧発生部３に電子線が出力されるであろう状
態に、記憶したデータを用いてフィラメント電流，バイ
アス電圧，加速電圧を自動的に設定をする。（図１・１
ａに示すエミッション電流基準値）その後エミッション
電流検出器の内容をＣＰＵにフィードバックさせ、実測
値を取り込み上記で説明した方法にて、エミッション電
流基準値と実測値との比較を行ない種々のフィラメント
状態の判断をＣＰＵが行なう様にしたものである。
【００１８】さらに詳細に述べると、加熱手段によって
加熱されたフィラメント８から発生する電子線をフィラ
メントとアノード電極１０との間に印加される加速電圧
によって加速すると共に、フィラメントとアノード電極
間に設けられたウェーネルト電極９にバイアス電圧を印
加することにより電子線を制御する装置において、バイ
アス電圧を０Ｖ設定後フィラメント電流及び加速電圧を
調整し適当な電子線を得る。この状態をＣＰＵが記憶す
ることから始まり以後上記で述べた方法にてフィラメン
ト状態を監視するものである。
加熱されたフィラメント８から発生する電子線をフィラ
メントとアノード電極１０との間に印加される加速電圧
によって加速すると共に、フィラメントとアノード電極
間に設けられたウェーネルト電極９にバイアス電圧を印
加することにより電子線を制御する装置において、バイ
アス電圧を０Ｖ設定後フィラメント電流及び加速電圧を
調整し適当な電子線を得る。この状態をＣＰＵが記憶す
ることから始まり以後上記で述べた方法にてフィラメン
ト状態を監視するものである。
【００１９】図３は、電子銃のフィラメント状態を監視
するロジック（フローチャート）図をしめす。
するロジック（フローチャート）図をしめす。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、フィラメント状態を計
算機が監視することにより、フィラメントの異常状態を
的確に把握することが可能となり適切な電子線を得る手
助けとなる。さらに過剰電流の流しすぎ及び、電子銃内
の放電に伴うフィラメント寿命の短命の防止も行なう効
果がある。
算機が監視することにより、フィラメントの異常状態を
的確に把握することが可能となり適切な電子線を得る手
助けとなる。さらに過剰電流の流しすぎ及び、電子銃内
の放電に伴うフィラメント寿命の短命の防止も行なう効
果がある。
【図１】横軸にフィラメント電流、縦軸にエミッション
電流を示す図である。
電流を示す図である。
【図２】タングステンフィラメント交換式の走査形電子
顕微鏡の構成図である。
顕微鏡の構成図である。
【図３】フィラメント状態を自動監視するさいの、ロジ
ック（フローチャート）図である。
ック（フローチャート）図である。
１ａ〜３ａ…エミッション電流値、１…ＣＰＵ、２…Ｄ
／Ａ変換器、３…高圧発生部、４…フィラメント電源、
５…バイアス電源、６…エミッション電流検出器、７…
・偏向器、８…フィラメント、９…ウエーネルト、１０
…アノード、１１…電子銃、１２…鏡体、１３…試料、
１４…二次電子検出器、１５…映像アンプ、１６…ＣＲ
Ｔ、ａ…電子線、ｂ…二次電子。
／Ａ変換器、３…高圧発生部、４…フィラメント電源、
５…バイアス電源、６…エミッション電流検出器、７…
・偏向器、８…フィラメント、９…ウエーネルト、１０
…アノード、１１…電子銃、１２…鏡体、１３…試料、
１４…二次電子検出器、１５…映像アンプ、１６…ＣＲ
Ｔ、ａ…電子線、ｂ…二次電子。
Claims (5)
- 【請求項１】電子顕微鏡等におけるタングステンフィラ
メント交換式の電子銃において、第一手順として基準取
付位置に設定したフィラメントを用いて、バイアス電圧
を０Ｖに設定後フィラメント電流及び加速電圧を調整し
その時のエミッション電流値（電流基準値）、バイアス
電圧（０Ｖ）、フィラメント電流などの高圧発生部の状
態を計算機が記憶する。第二手順として、第一手順で計
算機が記憶した上記データを用いて自動的にフィラメン
ト加熱を行ないエミッション電流を基準値と比較，判断
することにより状態監視を行なうことを特徴とする電子
銃のフィラメント状態監視装置。 - 【請求項２】請求項１において、自動的に電子線を得る
さい、エミッション電流を監視し電流基準値まで流れる
べきエミッション電流が流れていない場合、フィラメン
ト断線と判断し警告またはランプ点灯等の警告処理を行
なうことを特徴とする電子銃のフィラメント状態監視装
置。 - 【請求項３】請求項１において、自動的に電子線を得る
さい、エミッション電流を監視し電流基準値まで流れる
べきエミッション電流が少なすぎる場合（電流基準値−
α以下）、フィラメントの取りつけ設定が引き込みすぎ
であると判断し警告またはランプ点灯等の警告処理を行
なうことを特徴とする電子銃のフィラメント状態監視装
置。 - 【請求項４】請求項１において、自動的に電子線を得る
さい、エミッション電流を監視し電流準値近辺で流れる
べきエミッション電流が多すぎる場合(電流基準値＋α
以上)、フィラメントの取りつけ設定が突出しすぎであ
ると判断しバイアス電圧を計算機が自動調整してエミッ
ション電流が電流基準値近辺になるように抑制すると共
に警告処理を行なうことを特徴とする、電子銃のフィラ
メント状態監視装置。 - 【請求項５】請求項１において、自動的に電子線を得る
さい、エミッション電流を監視し電流基準値まで流れる
べきエミッション電流がその値近辺でふらつく場合（電
流基準値±α）、電子銃内の放電と判断し警告またはラ
ンプ点灯等の警告処理を行なうことを特徴とする電子銃
のフィラメント状態監視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312198A JPH05182620A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 電子銃のフィラメント状態監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3312198A JPH05182620A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 電子銃のフィラメント状態監視装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182620A true JPH05182620A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18026391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3312198A Pending JPH05182620A (ja) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | 電子銃のフィラメント状態監視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05182620A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014048184A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 電子線検出装置 |
| JP2018045905A (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 日新イオン機器株式会社 | イオン源 |
| EP3792953A1 (en) * | 2019-09-10 | 2021-03-17 | Jeol Ltd. | Control method for electron microscope and electron microscope |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP3312198A patent/JPH05182620A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014048184A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 電子線検出装置 |
| US9632117B2 (en) | 2012-08-31 | 2017-04-25 | Shibuya Kogyo Co., Ltd. | Electron beam detecting device |
| JP2018045905A (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 日新イオン機器株式会社 | イオン源 |
| EP3792953A1 (en) * | 2019-09-10 | 2021-03-17 | Jeol Ltd. | Control method for electron microscope and electron microscope |
| US11404238B2 (en) | 2019-09-10 | 2022-08-02 | Jeol Ltd. | Control method for electron microscope and electron microscope |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3275053B2 (ja) | Ｘ線管を自動較正するためのシステムおよび方法 | |
| US6545275B1 (en) | Beam evaluation | |
| JP2003332098A (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JP2594200B2 (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| US3825839A (en) | Constant current field emission electron gun | |
| US6864685B2 (en) | Process for anticipating the service life of a rare gas discharge lamp and a system for anticipating the service life of rare gas discharge lamp | |
| JPH05182620A (ja) | 電子銃のフィラメント状態監視装置 | |
| JP2008251300A (ja) | Ｘ線検査装置 | |
| JP2002208368A (ja) | 電子放射型電子銃 | |
| US6320319B1 (en) | Charged particle generating apparatus | |
| US6914386B2 (en) | Source of liquid metal ions and a method for controlling the source | |
| JPH0684450A (ja) | 熱電界放射陰極 | |
| JP3400697B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| WO2000068970A1 (fr) | Appareil a faisceau electronique, et inspection d'un canon a electrons | |
| JP4355875B2 (ja) | Ｘ線撮影装置 | |
| JPH0845455A (ja) | 電界放射型電子銃の動作状態判断方法 | |
| US4059783A (en) | Field emission apparatus | |
| JP4140464B2 (ja) | 電子線照射装置及び電子線放出管 | |
| JP2834195B2 (ja) | 電子銃のフィラメント電流調整方法 | |
| CA1103303A (en) | Method and apparatus for measuring cathode emission slump | |
| US20250022676A1 (en) | Electron beam device including schottky emitter and method of operating schottky emitter | |
| WO2026046447A1 (en) | Method of operating a cold emission electron source | |
| JPH05283023A (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPH08236052A (ja) | 荷電粒子線装置における荷電粒子源位置調整方法及びその装置 | |
| JPWO2000068970A1 (ja) | 電子線装置及び電子銃の良否判定方法 |