JPH05190136A - 高周波誘導結合プラズマ分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ分析装置Info
- Publication number
- JPH05190136A JPH05190136A JP4022015A JP2201592A JPH05190136A JP H05190136 A JPH05190136 A JP H05190136A JP 4022015 A JP4022015 A JP 4022015A JP 2201592 A JP2201592 A JP 2201592A JP H05190136 A JPH05190136 A JP H05190136A
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- Japan
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- wall
- sample
- high frequency
- nebulizer
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成で、測定感度を向上させる。
【構成】 ネブライザ３の噴霧孔に対向するスプレーチ
ャンバー８の壁Ａをヒータ２１等で加熱する加熱手段を
設けた。この様な構成において、図示外の電源からヒー
タ２１に通電し、壁Ａ部が適宜な温度になるように加熱
した状態で、ネブライザ３から試料液がスプレーチャン
バー８内に噴霧される。霧化された試料液の霧滴が、加
熱された壁Ａ部に接近すると、壁面の熱により、さらに
その粒径が小さくされる。この粒径が小さくなった試料
液滴は壁面に沿って形成されるガスの流れに乗り易くな
り、この流れに乗って、導入管９を介してプラズマトー
チ１内に導入され、従来例で述べた方法によって、イオ
ン化され、質量分析される。
ャンバー８の壁Ａをヒータ２１等で加熱する加熱手段を
設けた。この様な構成において、図示外の電源からヒー
タ２１に通電し、壁Ａ部が適宜な温度になるように加熱
した状態で、ネブライザ３から試料液がスプレーチャン
バー８内に噴霧される。霧化された試料液の霧滴が、加
熱された壁Ａ部に接近すると、壁面の熱により、さらに
その粒径が小さくされる。この粒径が小さくなった試料
液滴は壁面に沿って形成されるガスの流れに乗り易くな
り、この流れに乗って、導入管９を介してプラズマトー
チ１内に導入され、従来例で述べた方法によって、イオ
ン化され、質量分析される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液体試料を霧化させる
ための液体試料霧化装置に関し、特に、高周波誘導結合
プラズマ（ＩＣＰ）イオン源と質量分析装置とを結合し
た高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ−Ｍ
Ｓ）に使用して有効な液体試料霧化装置を提供するもの
である。
ための液体試料霧化装置に関し、特に、高周波誘導結合
プラズマ（ＩＣＰ）イオン源と質量分析装置とを結合し
た高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ−Ｍ
Ｓ）に使用して有効な液体試料霧化装置を提供するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】図２はＩＣＰ−ＭＳの一例を示してい
る。
る。
【０００３】同図において、１は高周波誘導コイル２を
巻回した石英等の電気絶縁体製プラズマトーチ、３は図
示外のガス供給源から供給される不活性ガス、例えば、
アルゴンガスＧと共に試料液を噴霧するためのネブライ
ザである。４は前記コイル２に高周波電圧を印加するた
めの高周波電源、５は試料液６を収納すると共に前記ネ
ブライザ３に導入管７を介して接続された試料ボトルで
ある。８はスプレーチャンバー、９はスプレーチャンバ
ー内にネブライザー３によって噴霧された試料液６をプ
ラズマトーチ１内に導入する導入管である。１０は前記
コイル２からの高周波をシールドするためのケースで、
このケースは前記高周波電源４のアース側と接続されて
いる。１１はサンプリングコーン１２とスキマー１３，
１４からなるインターフェース、１５は質量分析装置
で、内部に質量分析系１６が設けてある。１７はイオン
を加速，収束してこの質量分析系１６に導入するための
電極群である。１８は前記質量分析装置１５内を高真空
に保つための油拡散ポンプ、１９，２０は前記ノズル１
２とスキマー１３の間の空間Ａ１及びスキマー１３と１
４の間の空間Ａ２を排気するための油回転ポンプであ
る。
巻回した石英等の電気絶縁体製プラズマトーチ、３は図
示外のガス供給源から供給される不活性ガス、例えば、
アルゴンガスＧと共に試料液を噴霧するためのネブライ
ザである。４は前記コイル２に高周波電圧を印加するた
めの高周波電源、５は試料液６を収納すると共に前記ネ
ブライザ３に導入管７を介して接続された試料ボトルで
ある。８はスプレーチャンバー、９はスプレーチャンバ
ー内にネブライザー３によって噴霧された試料液６をプ
ラズマトーチ１内に導入する導入管である。１０は前記
コイル２からの高周波をシールドするためのケースで、
このケースは前記高周波電源４のアース側と接続されて
いる。１１はサンプリングコーン１２とスキマー１３，
１４からなるインターフェース、１５は質量分析装置
で、内部に質量分析系１６が設けてある。１７はイオン
を加速，収束してこの質量分析系１６に導入するための
電極群である。１８は前記質量分析装置１５内を高真空
に保つための油拡散ポンプ、１９，２０は前記ノズル１
２とスキマー１３の間の空間Ａ１及びスキマー１３と１
４の間の空間Ａ２を排気するための油回転ポンプであ
る。
【０００４】この様な構成において、プラズマトーチ１
内には図示外のガス供給源からアルゴンガスが供給さ
れ、この状態において、高周波電源４からコイル２に高
周波電力を印加して高周波磁界を形成すると、高周波誘
導プラズマ（以下プラズマと称す）Ｐが発生する。この
プラズマＰ内にネブライザ３から試料液６が霧状となっ
て導入されて、試料がイオン化される。このプラズマ内
の試料イオンがサンプリングコーン１２，各スキマー１
３，１４を通ってインターフェース１１内に進入する。
このインターフェース内に進入したイオンは電極群１７
により加速，収束されて質量分析系１６に導入され質量
分析される。この質量分析系としては、Ｑポール型及び
磁場型のいずれを用いてもよい
内には図示外のガス供給源からアルゴンガスが供給さ
れ、この状態において、高周波電源４からコイル２に高
周波電力を印加して高周波磁界を形成すると、高周波誘
導プラズマ（以下プラズマと称す）Ｐが発生する。この
プラズマＰ内にネブライザ３から試料液６が霧状となっ
て導入されて、試料がイオン化される。このプラズマ内
の試料イオンがサンプリングコーン１２，各スキマー１
３，１４を通ってインターフェース１１内に進入する。
このインターフェース内に進入したイオンは電極群１７
により加速，収束されて質量分析系１６に導入され質量
分析される。この質量分析系としては、Ｑポール型及び
磁場型のいずれを用いてもよい
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来技術にお
いて、高感度分析が可能になったが、さらなる感度的向
上が必要とされている。
いて、高感度分析が可能になったが、さらなる感度的向
上が必要とされている。
【０００６】そこで、本発明はかかる点に鑑みてなされ
たものであり、簡単な構成で、測定感度を向上させるこ
とを目的とするものである。
たものであり、簡単な構成で、測定感度を向上させるこ
とを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の高周波誘導結合プラズマ分析装置は、液体
試料を噴霧孔から噴霧室内に噴霧する噴霧器と、噴霧器
によって霧状になった試料をプラズマトーチへ導入する
ようにした高周波誘導結合プラズマ分析装置において、
前記噴霧室内の噴霧孔に対向する壁面を加熱する手段を
設けたことを特徴とするものである。
め、本発明の高周波誘導結合プラズマ分析装置は、液体
試料を噴霧孔から噴霧室内に噴霧する噴霧器と、噴霧器
によって霧状になった試料をプラズマトーチへ導入する
ようにした高周波誘導結合プラズマ分析装置において、
前記噴霧室内の噴霧孔に対向する壁面を加熱する手段を
設けたことを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】本発明では、スプレーチャンバー内に液体試料
を噴霧するネブライザの噴霧孔に対向する壁面を加熱す
る手段を設けたので、スプレーチャンバー壁に衝突し液
膜となり排出される試料液を減少させることができるた
め、ネブライザからスプレーチャンバー内に噴霧された
試料液の大半を、プラズマトーチへ導入できる。
を噴霧するネブライザの噴霧孔に対向する壁面を加熱す
る手段を設けたので、スプレーチャンバー壁に衝突し液
膜となり排出される試料液を減少させることができるた
め、ネブライザからスプレーチャンバー内に噴霧された
試料液の大半を、プラズマトーチへ導入できる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳述
する。
する。
【００１０】図１は本発明の一実施例装置の要部を示し
た概略拡大図であり、図２と同一番号のものは同一構成
要素を示す。
た概略拡大図であり、図２と同一番号のものは同一構成
要素を示す。
【００１１】図１の装置において、図２の従来例と異な
るのは、ネブライザ３の噴霧孔に対向するスプレーチャ
ンバー８の壁Ａをヒータ２１等で加熱する加熱手段を設
けたことである。
るのは、ネブライザ３の噴霧孔に対向するスプレーチャ
ンバー８の壁Ａをヒータ２１等で加熱する加熱手段を設
けたことである。
【００１２】この様な構成において、図示外の電源から
ヒータ２１に通電し、壁Ａ部が適宜な温度になるように
加熱した状態で、ネブライザ３から試料液がスプレーチ
ャンバー８内に噴霧される。霧化された試料液の霧滴
が、加熱された壁Ａ部に接近すると、壁面の熱により、
さらにその粒径が小さくされる。この粒径が小さくなっ
た試料液滴は壁面に沿って形成されるガスの流れに乗り
易くなり、この流れに乗って、導入管９を介してプラズ
マトーチ１内に導入され、従来例で述べた方法によっ
て、イオン化され、質量分析される。壁Ａ部を加熱しな
い従来では、大きな霧滴はＡ部に接近衝突して壁面に付
着してしまったのに比べ、加熱により粒径が小さくされ
壁面に付着しにくくできる本発明では、多くの試料液を
プラズマトーチに移送することができる。
ヒータ２１に通電し、壁Ａ部が適宜な温度になるように
加熱した状態で、ネブライザ３から試料液がスプレーチ
ャンバー８内に噴霧される。霧化された試料液の霧滴
が、加熱された壁Ａ部に接近すると、壁面の熱により、
さらにその粒径が小さくされる。この粒径が小さくなっ
た試料液滴は壁面に沿って形成されるガスの流れに乗り
易くなり、この流れに乗って、導入管９を介してプラズ
マトーチ１内に導入され、従来例で述べた方法によっ
て、イオン化され、質量分析される。壁Ａ部を加熱しな
い従来では、大きな霧滴はＡ部に接近衝突して壁面に付
着してしまったのに比べ、加熱により粒径が小さくされ
壁面に付着しにくくできる本発明では、多くの試料液を
プラズマトーチに移送することができる。
【００１３】尚、上述した実施例においては、ネブライ
ザの噴霧孔に対向するスプレーチャンバーの壁Ａにヒー
タを設けるようにしたが、これに限定されるものでな
く、例えば、壁Ａ部外側から赤外線を照射し、または、
壁Ａ部外側に塗布あるいは貼付した赤外線吸収材に赤外
線を照射してもよいし、加熱したオイル等の熱媒体を使
って壁Ａ部を加熱してもよい。
ザの噴霧孔に対向するスプレーチャンバーの壁Ａにヒー
タを設けるようにしたが、これに限定されるものでな
く、例えば、壁Ａ部外側から赤外線を照射し、または、
壁Ａ部外側に塗布あるいは貼付した赤外線吸収材に赤外
線を照射してもよいし、加熱したオイル等の熱媒体を使
って壁Ａ部を加熱してもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ス
プレーチャンバの壁Ａ部に設けられた加熱手段によっ
て、大半の試料液をプラズマトーチに移送することがで
き、簡単な構成で、測定感度を向上させることができ
る。
プレーチャンバの壁Ａ部に設けられた加熱手段によっ
て、大半の試料液をプラズマトーチに移送することがで
き、簡単な構成で、測定感度を向上させることができ
る。
【図１】本発明の一実施例装置の要部を示した概略図で
ある。
ある。
【図２】従来装置の要部概略図である。
１：プラズマトーチ ２：高周波誘導コイル ３：ネブライザ ４：高周波電源 ５：試料ボトル ６：試料液 ７，９：導入管 ８：スプレーチャンバー １０：ケース １１：インターフェース １２：サンプリングコーン １３：第１のスキマー １４：第２のスキマー １５：質量分析装置 １６：質量分析系 １７：電極群 １８：油拡散ポンプ １９，２０：油回転ポンプ ２１：ヒータ
Claims (1)
- 【請求項１】液体試料を噴霧孔から噴霧室内に噴霧する
噴霧器と、噴霧器によって霧状になった試料をプラズマ
トーチへ導入するようにした高周波誘導結合プラズマ分
析装置において、前記噴霧室内の噴霧孔に対向する壁面
を加熱する手段を設けたことを特徴とする高周波誘導結
合プラズマ分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02201592A JP3471821B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02201592A JP3471821B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190136A true JPH05190136A (ja) | 1993-07-30 |
| JP3471821B2 JP3471821B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=12071173
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02201592A Expired - Fee Related JP3471821B2 (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3471821B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021175968A (ja) * | 2020-04-23 | 2021-11-04 | 株式会社Sumco | 試料導入装置、誘導結合プラズマ分析装置および分析方法 |
| JP2022548565A (ja) * | 2019-09-12 | 2022-11-21 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック （エキュブラン） エスアーエールエル | スパークスタンドおよびメンテナンス方法 |
| US11579092B2 (en) | 2020-04-23 | 2023-02-14 | Sumco Corporation | Sample introduction device, inductively coupled plasma analyzing device and analyzing method |
-
1992
- 1992-01-10 JP JP02201592A patent/JP3471821B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022548565A (ja) * | 2019-09-12 | 2022-11-21 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック （エキュブラン） エスアーエールエル | スパークスタンドおよびメンテナンス方法 |
| JP2021175968A (ja) * | 2020-04-23 | 2021-11-04 | 株式会社Sumco | 試料導入装置、誘導結合プラズマ分析装置および分析方法 |
| US11579092B2 (en) | 2020-04-23 | 2023-02-14 | Sumco Corporation | Sample introduction device, inductively coupled plasma analyzing device and analyzing method |
| DE102021002086B4 (de) * | 2020-04-23 | 2025-08-21 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Probeneinführungsvorrichtung, Analysevorrichtung mit induktiv gekoppeltem Plasma und Analyseverfahren |
| DE102021002086B8 (de) | 2020-04-23 | 2025-12-18 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Probeneinführungsvorrichtung, Analysevorrichtung mit induktiv gekoppeltem Plasma und Analyseverfahren |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3471821B2 (ja) | 2003-12-02 |
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Legal Events
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