JPH05190434A - 電子線露光装置 - Google Patents
電子線露光装置Info
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- JPH05190434A JPH05190434A JP4021801A JP2180192A JPH05190434A JP H05190434 A JPH05190434 A JP H05190434A JP 4021801 A JP4021801 A JP 4021801A JP 2180192 A JP2180192 A JP 2180192A JP H05190434 A JPH05190434 A JP H05190434A
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- shaping
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ２個の偏向器に製作誤差が含まれている場合
の補正演算を簡略化する。 【構成】 第１成形アパーチャ１の下にＸ方向用の第１
の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１の成形偏向
器８Ａ，８Ｂを配置し、その下にＸ方向用の第２の成形
偏向器９Ａ，９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０
Ａ，１０Ｂを配置し、その下に第２成形アパーチャ４を
配置する。第１の成形偏向器でオフセット及びゲインに
関する補正を行い、第２の成形偏向器で偏向方向と描画
時の基準となる方向との平行度に関する補正を行う。
の補正演算を簡略化する。 【構成】 第１成形アパーチャ１の下にＸ方向用の第１
の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１の成形偏向
器８Ａ，８Ｂを配置し、その下にＸ方向用の第２の成形
偏向器９Ａ，９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０
Ａ，１０Ｂを配置し、その下に第２成形アパーチャ４を
配置する。第１の成形偏向器でオフセット及びゲインに
関する補正を行い、第２の成形偏向器で偏向方向と描画
時の基準となる方向との平行度に関する補正を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料に照射される電子
線の断面形状を変化させることができる電子線露光装置
に関する。
線の断面形状を変化させることができる電子線露光装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】複数枚の成形アパーチャと、これら成形
アパーチャの間に配置され電子線を平面内のＸ方向に偏
向させるＸ方向用の偏向器と、これら成形アパーチャの
間に配置され電子線をその平面内のＸ方向に直交するＹ
方向に偏向させるＹ方向用の偏向器とを有し、試料に照
射される電子線の断面形状のＸ方向の長さ及びＹ方向の
長さをそれぞれＸ方向用の偏向器及びＹ方向用の偏向器
により変化させることができる電子線露光装置が知られ
ている。このような電子線露光装置によれば、例えば幅
の広いパターンは断面積の大きな電子ビームで描画する
ような可変成形電子線露光を行うことにより、描画速度
を向上することができる。
アパーチャの間に配置され電子線を平面内のＸ方向に偏
向させるＸ方向用の偏向器と、これら成形アパーチャの
間に配置され電子線をその平面内のＸ方向に直交するＹ
方向に偏向させるＹ方向用の偏向器とを有し、試料に照
射される電子線の断面形状のＸ方向の長さ及びＹ方向の
長さをそれぞれＸ方向用の偏向器及びＹ方向用の偏向器
により変化させることができる電子線露光装置が知られ
ている。このような電子線露光装置によれば、例えば幅
の広いパターンは断面積の大きな電子ビームで描画する
ような可変成形電子線露光を行うことにより、描画速度
を向上することができる。
【０００３】図４は２枚の成形アパーチャを有し可変成
形電子線露光を行う従来の電子線露光装置の可変成形部
を示し、この図４において、第１成形アパーチャ１の成
形孔１ａを通過した断面Ｓ１の電子線Ｅ１がＸ方向用の
成形偏向器２Ａ，２Ｂ及びＹ方向用の成形偏向器３Ａ，
３Ｂにより偏向されて電子線Ｅ２となる。この電子線Ｅ
２は、第２成形アパーチャ４の成形孔４ａの近傍に入射
し、この成形孔４ａにより成形されて所望の電子線断面
形状Ｓ３の電子線Ｅ３となる。図５（ａ）は図４のＹ方
向への断面図であり、この図５（ａ）より電子線Ｅ２を
成形孔４ａから大きくずらすほど得られる電子線Ｅ３の
断面形状は小さくなることが分かる。そして、例えば図
５（ｂ）に示すような比較的幅の狭いパターンを描画す
るときには、断面積の小さな電子線Ｅ３を試料に照射
し、図５（ｃ）に示すような比較的幅の広いパターンを
描画するときには、断面積の大きな電子線Ｅ３を試料に
照射することにより、描画速度を向上することができ
る。
形電子線露光を行う従来の電子線露光装置の可変成形部
を示し、この図４において、第１成形アパーチャ１の成
形孔１ａを通過した断面Ｓ１の電子線Ｅ１がＸ方向用の
成形偏向器２Ａ，２Ｂ及びＹ方向用の成形偏向器３Ａ，
３Ｂにより偏向されて電子線Ｅ２となる。この電子線Ｅ
２は、第２成形アパーチャ４の成形孔４ａの近傍に入射
し、この成形孔４ａにより成形されて所望の電子線断面
形状Ｓ３の電子線Ｅ３となる。図５（ａ）は図４のＹ方
向への断面図であり、この図５（ａ）より電子線Ｅ２を
成形孔４ａから大きくずらすほど得られる電子線Ｅ３の
断面形状は小さくなることが分かる。そして、例えば図
５（ｂ）に示すような比較的幅の狭いパターンを描画す
るときには、断面積の小さな電子線Ｅ３を試料に照射
し、図５（ｃ）に示すような比較的幅の広いパターンを
描画するときには、断面積の大きな電子線Ｅ３を試料に
照射することにより、描画速度を向上することができ
る。
【０００４】しかしながら、成形偏向器２Ａ，２Ｂ又は
成形偏向器３Ａ，３Ｂを配置する際の位置の誤差を含む
製作誤差が存在すると、電子線Ｅ３の断面形状を所望の
形状に成形できないことがある。このような製作誤差が
存在する場合について、図４の平面図である図６（ａ）
〜（ｃ）を参照して説明する。この際、図６（ａ）に示
すような矩形の断面形状の電子線Ｅ３について、図６
（ｂ）に示すように断面形状の内のＸ方向のみの長さを
変化させるものとする。この場合、例えば図６（ｃ）に
示すように、Ｘ方向用の成形偏向器２Ａ及び２Ｂが傾い
て配置されているとすれば、その成形偏向器２Ａ及び２
Ｂに偏向用の制御データを供給すると、電子線Ｅ２は成
形孔４ａに対してＸ方向からずれた方向に移動して、目
標とする位置Ｅ２ＡからＸ方向及びＹ方向の両方にずれ
てしまう。従って、得られる電子線Ｅ３の断面形状に
は、Ｘ軸方向の誤差δｘのみならず、Ｙ軸方向にも偏向
誤差δｙが生じて所望の電子線断面形状を得ることがで
きない。
成形偏向器３Ａ，３Ｂを配置する際の位置の誤差を含む
製作誤差が存在すると、電子線Ｅ３の断面形状を所望の
形状に成形できないことがある。このような製作誤差が
存在する場合について、図４の平面図である図６（ａ）
〜（ｃ）を参照して説明する。この際、図６（ａ）に示
すような矩形の断面形状の電子線Ｅ３について、図６
（ｂ）に示すように断面形状の内のＸ方向のみの長さを
変化させるものとする。この場合、例えば図６（ｃ）に
示すように、Ｘ方向用の成形偏向器２Ａ及び２Ｂが傾い
て配置されているとすれば、その成形偏向器２Ａ及び２
Ｂに偏向用の制御データを供給すると、電子線Ｅ２は成
形孔４ａに対してＸ方向からずれた方向に移動して、目
標とする位置Ｅ２ＡからＸ方向及びＹ方向の両方にずれ
てしまう。従って、得られる電子線Ｅ３の断面形状に
は、Ｘ軸方向の誤差δｘのみならず、Ｙ軸方向にも偏向
誤差δｙが生じて所望の電子線断面形状を得ることがで
きない。
【０００５】このような成形偏向器の製作誤差に起因す
る電子線断面形状の誤差は、従来は以下のようにして補
正されていた。即ち、成形偏向器に製作誤差が無いもの
とした場合に、所望の幅及び高さの電子線断面形状を得
るために成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向器３Ａ，３
Ｂを制御するための制御データをそれぞれＷ及びＨとす
る。そして、実際には製作誤差が存在することを考慮し
て、予め補正係数ｅφ〜ｅ２及びｆφ〜ｆ２を求めてお
き、次式の演算で求められる補正制御データＷ１及びＨ
１を用いてそれぞれ成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向
器３Ａ，３Ｂを制御する。
る電子線断面形状の誤差は、従来は以下のようにして補
正されていた。即ち、成形偏向器に製作誤差が無いもの
とした場合に、所望の幅及び高さの電子線断面形状を得
るために成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向器３Ａ，３
Ｂを制御するための制御データをそれぞれＷ及びＨとす
る。そして、実際には製作誤差が存在することを考慮し
て、予め補正係数ｅφ〜ｅ２及びｆφ〜ｆ２を求めてお
き、次式の演算で求められる補正制御データＷ１及びＨ
１を用いてそれぞれ成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向
器３Ａ，３Ｂを制御する。
【０００６】 Ｗ１＝Ｗ＋ｅφ＋ｅ１・Ｗ＋ｅ２・Ｈ （１ａ） Ｈ１＝Ｈ＋ｆφ＋ｆ１・Ｗ＋ｆ２・Ｈ （１ｂ） この方法においては、（１ａ）式及び（１ｂ）式の演算
により補正された補正制御データＷ１及びＨ１を用い
て、それぞれ成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向器３
Ａ，３Ｂにより偏向を行うと、所望の電子線断面形状が
得られる。
により補正された補正制御データＷ１及びＨ１を用い
て、それぞれ成形偏向器２Ａ，２Ｂ及び成形偏向器３
Ａ，３Ｂにより偏向を行うと、所望の電子線断面形状が
得られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、（１ａ）式及び（１ｂ）式よりなる補正演
算式が使用されているが、例えば（１ａ）式中の第２項
はオフセットの補正を、第３項はゲインの補正を、第４
項はＸ方向への偏向方向と描画時の基準となる座標軸方
向との平行度の補正を行うことをそれぞれ表しており、
同様に（１ｂ）式もオフセット、ゲイン及び平行度の補
正を表している。従って、（１ａ）式及び（１ｂ）式に
よる補正演算は複雑な演算となっているため、その演算
回路は複雑になり、結果的に演算時間も長くなる不都合
がある。
においては、（１ａ）式及び（１ｂ）式よりなる補正演
算式が使用されているが、例えば（１ａ）式中の第２項
はオフセットの補正を、第３項はゲインの補正を、第４
項はＸ方向への偏向方向と描画時の基準となる座標軸方
向との平行度の補正を行うことをそれぞれ表しており、
同様に（１ｂ）式もオフセット、ゲイン及び平行度の補
正を表している。従って、（１ａ）式及び（１ｂ）式に
よる補正演算は複雑な演算となっているため、その演算
回路は複雑になり、結果的に演算時間も長くなる不都合
がある。
【０００８】また、電子線断面形状を変化させる度に、
（１ａ）式及び（１ｂ）式で示す補正演算を行う必要が
あるため、電子線による露光を行う際に全体として多大
の演算時間を費やさなければならない不都合がある。本
発明は斯かる点に鑑み、試料に照射される電子線の断面
形状を２方向への偏向器を用いて変化させることができ
る電子線露光装置において、２方向への偏向器に製作誤
差が含まれている場合の補正演算を簡略化し、ひいては
補正演算回路の構成を簡略化して補正演算速度を高速化
することを目的とする。
（１ａ）式及び（１ｂ）式で示す補正演算を行う必要が
あるため、電子線による露光を行う際に全体として多大
の演算時間を費やさなければならない不都合がある。本
発明は斯かる点に鑑み、試料に照射される電子線の断面
形状を２方向への偏向器を用いて変化させることができ
る電子線露光装置において、２方向への偏向器に製作誤
差が含まれている場合の補正演算を簡略化し、ひいては
補正演算回路の構成を簡略化して補正演算速度を高速化
することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による電子線露光
装置は、例えば図１に示す如く、複数枚の成形アパーチ
ャ（１，４）と、これら成形アパーチャの間に配置され
電子線を平面内の第１の方向（Ｘ方向）に偏向させる第
１の偏向器と、それら成形アパーチャの間に配置され電
子線をその平面内のその第１の方向に交差する第２の方
向（Ｙ方向）に偏向させる第２の偏向器とを有し、試料
に照射される電子線の断面形状のその第１の方向の長さ
及びその第２の方向の長さをそれぞれ第１の偏向器及び
第２の偏向器により変化させる装置において、その第１
の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置された２組
の偏向器（７Ａ，７Ｂ及び９Ａ，９Ｂ）より構成し、そ
の第２の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置され
た２組の偏向器（８Ａ，８Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂ）より
構成する。
装置は、例えば図１に示す如く、複数枚の成形アパーチ
ャ（１，４）と、これら成形アパーチャの間に配置され
電子線を平面内の第１の方向（Ｘ方向）に偏向させる第
１の偏向器と、それら成形アパーチャの間に配置され電
子線をその平面内のその第１の方向に交差する第２の方
向（Ｙ方向）に偏向させる第２の偏向器とを有し、試料
に照射される電子線の断面形状のその第１の方向の長さ
及びその第２の方向の長さをそれぞれ第１の偏向器及び
第２の偏向器により変化させる装置において、その第１
の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置された２組
の偏向器（７Ａ，７Ｂ及び９Ａ，９Ｂ）より構成し、そ
の第２の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置され
た２組の偏向器（８Ａ，８Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂ）より
構成する。
【００１０】そして、試料に照射される電子線の断面形
状のその第１の方向の長さ及びその第２の方向の長さを
制御するための原制御データＷ，Ｈに直交度を補正する
ための演算を施して得られた補正済み制御データＷ３，
Ｈ３をその第１の方向用の２組の偏向器の内の一方の偏
向器（９Ａ，９Ｂ）及びその第２の方向用の２組の偏向
器の内の一方の偏向器（１０Ａ，１０Ｂ）に供給する第
１の補正演算手段（１２）と、それら原制御データＷ，
Ｈにオフセット及びゲインを補正するための演算を施し
て得た補正済み制御データＷ２，Ｈ２をその第１の方向
用の２組の偏向器の内の他方の偏向器（７Ａ，７Ｂ）及
びその第２の方向用の２組の偏向器の内の他方の偏向器
（８Ａ，８Ｂ）に供給する第２の補正演算手段（１１）
とを設けたものである。
状のその第１の方向の長さ及びその第２の方向の長さを
制御するための原制御データＷ，Ｈに直交度を補正する
ための演算を施して得られた補正済み制御データＷ３，
Ｈ３をその第１の方向用の２組の偏向器の内の一方の偏
向器（９Ａ，９Ｂ）及びその第２の方向用の２組の偏向
器の内の一方の偏向器（１０Ａ，１０Ｂ）に供給する第
１の補正演算手段（１２）と、それら原制御データＷ，
Ｈにオフセット及びゲインを補正するための演算を施し
て得た補正済み制御データＷ２，Ｈ２をその第１の方向
用の２組の偏向器の内の他方の偏向器（７Ａ，７Ｂ）及
びその第２の方向用の２組の偏向器の内の他方の偏向器
（８Ａ，８Ｂ）に供給する第２の補正演算手段（１１）
とを設けたものである。
【００１１】
【作用】斯かる本発明によれば、偏向器に製作誤差が無
い場合の２方向用の制御データである原制御データをＷ
及びＨとすると、その第１の補正演算手段（１２）では
係数ｒ２及びｓ２を用いて次の演算により補正済み制御
データＷ３及びＨ３が求められ、これら補正済み制御デ
ータＷ３及びＨ３によりそれぞれ第１の方向用の一方の
偏向器（９Ａ，９Ｂ）及び第２の方向用の一方の偏向器
（１０Ａ，１０Ｂ）が制御される。 Ｗ３＝ｒ２・Ｈ （２ａ） Ｈ３＝ｓ２・Ｗ （２ｂ）
い場合の２方向用の制御データである原制御データをＷ
及びＨとすると、その第１の補正演算手段（１２）では
係数ｒ２及びｓ２を用いて次の演算により補正済み制御
データＷ３及びＨ３が求められ、これら補正済み制御デ
ータＷ３及びＨ３によりそれぞれ第１の方向用の一方の
偏向器（９Ａ，９Ｂ）及び第２の方向用の一方の偏向器
（１０Ａ，１０Ｂ）が制御される。 Ｗ３＝ｒ２・Ｈ （２ａ） Ｈ３＝ｓ２・Ｗ （２ｂ）
【００１２】また、その第２の補正演算手段（１１）に
より係数ｒ０，ｒ１及びｓ０，ｓ１を用いて次の演算に
より補正済み制御データＷ２及びＨ２が求められ、これ
ら補正済み制御データＷ２及びＨ２によりそれぞれ第１
の方向用の他方の偏向器（７Ａ，７Ｂ）及び第２の方向
用の他方の偏向器（８Ａ，８Ｂ）が制御される。 Ｗ２＝Ｗ＋ｒ０＋ｒ１・Ｗ （３ａ） Ｈ２＝Ｈ＋ｓ０＋ｓ１・Ｈ （３ｂ）
より係数ｒ０，ｒ１及びｓ０，ｓ１を用いて次の演算に
より補正済み制御データＷ２及びＨ２が求められ、これ
ら補正済み制御データＷ２及びＨ２によりそれぞれ第１
の方向用の他方の偏向器（７Ａ，７Ｂ）及び第２の方向
用の他方の偏向器（８Ａ，８Ｂ）が制御される。 Ｗ２＝Ｗ＋ｒ０＋ｒ１・Ｗ （３ａ） Ｈ２＝Ｈ＋ｓ０＋ｓ１・Ｈ （３ｂ）
【００１３】このように本発明においては、（２ａ）式
及び（２ｂ）式よりなる平行度の補正演算と、（３ａ）
式及び（３ｂ）式よりなるオフセット及びゲインの補正
演算とがそれぞれ独立な２つの補正演算手段（１２）及
び（１１）で実行される。そして、直交度の補正は一方
の偏向器（９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，１０Ｂ）で行われ、オ
フセット及びゲインの補正はそれと独立な他方の偏向器
（７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂ）で行われる。従って、補正
演算が従来の補正演算よりも簡略化されている。つま
り、（１ａ）式及び（１ｂ）式よりなる従来の補正演算
においては４回の乗算と６回の加算とよりなる演算が行
われるのに対して、本発明による補正演算においては、
（２ａ）式及び（２ｂ）式は２回の乗算及び４回の加算
を含み、（３ａ）式及び（３ｂ）式は２回の乗算を含
む。従って、本発明では、合計で４回の乗算と４回の加
算とよりなる演算が行われるにすぎない。このため補正
演算式が（１ａ）式及び（１ｂ）式と比較して簡略化さ
れているので、必然的に演算回路が簡略化され演算時間
も短縮される。
及び（２ｂ）式よりなる平行度の補正演算と、（３ａ）
式及び（３ｂ）式よりなるオフセット及びゲインの補正
演算とがそれぞれ独立な２つの補正演算手段（１２）及
び（１１）で実行される。そして、直交度の補正は一方
の偏向器（９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，１０Ｂ）で行われ、オ
フセット及びゲインの補正はそれと独立な他方の偏向器
（７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂ）で行われる。従って、補正
演算が従来の補正演算よりも簡略化されている。つま
り、（１ａ）式及び（１ｂ）式よりなる従来の補正演算
においては４回の乗算と６回の加算とよりなる演算が行
われるのに対して、本発明による補正演算においては、
（２ａ）式及び（２ｂ）式は２回の乗算及び４回の加算
を含み、（３ａ）式及び（３ｂ）式は２回の乗算を含
む。従って、本発明では、合計で４回の乗算と４回の加
算とよりなる演算が行われるにすぎない。このため補正
演算式が（１ａ）式及び（１ｂ）式と比較して簡略化さ
れているので、必然的に演算回路が簡略化され演算時間
も短縮される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明による電子線露光装置の一実施
例につき図１〜図３及び図６を参照して説明する。本例
は２枚の成形アパーチャを有する電子線露光装置に本発
明を適用したものであり、図１〜図３において図４に対
応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略す
る。
例につき図１〜図３及び図６を参照して説明する。本例
は２枚の成形アパーチャを有する電子線露光装置に本発
明を適用したものであり、図１〜図３において図４に対
応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略す
る。
【００１５】図１は本例の電子線断面の可変成形部を示
し、この図１において、第１成形アパーチャ１と第２成
形アパーチャ４との間の第１成形アパーチャ１側にＸ方
向用の第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１
の成形偏向器８Ａ，８Ｂを直交するように配置する。ま
た、第２成形アパーチャ４側にＸ方向用の第２の成形偏
向器９Ａ，９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０
Ａ，１０Ｂを直交するように配置する。１１は第１の補
正演算回路、１２は第２の補正演算回路を示し、これら
補正演算回路１１及び１２にはそれぞれ各成形偏向器に
製作誤差が無いものとした場合の制御データＷ及びＨを
供給する。
し、この図１において、第１成形アパーチャ１と第２成
形アパーチャ４との間の第１成形アパーチャ１側にＸ方
向用の第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１
の成形偏向器８Ａ，８Ｂを直交するように配置する。ま
た、第２成形アパーチャ４側にＸ方向用の第２の成形偏
向器９Ａ，９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０
Ａ，１０Ｂを直交するように配置する。１１は第１の補
正演算回路、１２は第２の補正演算回路を示し、これら
補正演算回路１１及び１２にはそれぞれ各成形偏向器に
製作誤差が無いものとした場合の制御データＷ及びＨを
供給する。
【００１６】この場合、第１の補正演算回路１１におい
ては、係数ｒ０，ｒ１及びｓ０，ｓ１を用いて次の演算
により補正制御データＷ２及びＨ２を求め、これら補正
制御データＷ２及びＨ２をそれぞれＸ方向用の第１の成
形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１の成形偏向器８
Ａ，８Ｂに供給する。 Ｗ２＝Ｗ＋ｒ０＋ｒ１・Ｗ （４ａ） Ｈ２＝Ｈ＋ｓ０＋ｓ１・Ｈ （４ｂ）
ては、係数ｒ０，ｒ１及びｓ０，ｓ１を用いて次の演算
により補正制御データＷ２及びＨ２を求め、これら補正
制御データＷ２及びＨ２をそれぞれＸ方向用の第１の成
形偏向器７Ａ，７Ｂ及びＹ方向用の第１の成形偏向器８
Ａ，８Ｂに供給する。 Ｗ２＝Ｗ＋ｒ０＋ｒ１・Ｗ （４ａ） Ｈ２＝Ｈ＋ｓ０＋ｓ１・Ｈ （４ｂ）
【００１７】また、第２の補正演算回路１２において
は、係数ｒ２及びｓ２を用いて次の演算により補正制御
データＷ３及びＨ３を求め、これら補正制御データＷ３
及びＨ３をそれぞれＸ方向用の第２の成形偏向器９Ａ，
９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０Ａ，１０Ｂに
供給する。 Ｗ３＝ｒ２・Ｈ （５ａ） Ｈ３＝ｓ２・Ｗ （５ｂ）
は、係数ｒ２及びｓ２を用いて次の演算により補正制御
データＷ３及びＨ３を求め、これら補正制御データＷ３
及びＨ３をそれぞれＸ方向用の第２の成形偏向器９Ａ，
９Ｂ及びＹ方向用の第２の成形偏向器１０Ａ，１０Ｂに
供給する。 Ｗ３＝ｒ２・Ｈ （５ａ） Ｈ３＝ｓ２・Ｗ （５ｂ）
【００１８】次に本例の基本的な動作につき説明する。
図２は図１のＹ方向への断面図であり、この図２におい
て、第１成形アパーチャ１の成形孔１ａに入射した電子
線Ｅ１は、第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及び８Ａ，８Ｂ
（８Ａ及び８Ｂについては図１参照）により偏向されて
電子線Ｅ４となる。この電子線Ｅ４は、第２の成形偏向
器９Ａ，９Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂ（１０Ａ及び１０Ｂに
ついては図１参照）により偏向されて、電子線Ｅ５とし
て第２成形アパーチャ４の成形孔４ａの近傍を照射す
る。その電子線Ｅ５の内でその成形孔４ａを通過した電
子線Ｅ３が試料を照射する。図１に示すように、電子線
Ｅ３の断面形状Ｓ３のＸ方向の長さ及びＹ方向の長さは
可変である。
図２は図１のＹ方向への断面図であり、この図２におい
て、第１成形アパーチャ１の成形孔１ａに入射した電子
線Ｅ１は、第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ及び８Ａ，８Ｂ
（８Ａ及び８Ｂについては図１参照）により偏向されて
電子線Ｅ４となる。この電子線Ｅ４は、第２の成形偏向
器９Ａ，９Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂ（１０Ａ及び１０Ｂに
ついては図１参照）により偏向されて、電子線Ｅ５とし
て第２成形アパーチャ４の成形孔４ａの近傍を照射す
る。その電子線Ｅ５の内でその成形孔４ａを通過した電
子線Ｅ３が試料を照射する。図１に示すように、電子線
Ｅ３の断面形状Ｓ３のＸ方向の長さ及びＹ方向の長さは
可変である。
【００１９】次に、電子線をＸ方向に偏向して電子線Ｅ
３の断面形状のＸ方向の幅のみを短くして、電子線Ｅ３
の断面形状を例えば図６（ａ）の状態から図６（ｂ）の
状態に変化させる場合を考える。成形偏向器が理想的で
図６（ｂ）のように製作誤差がなければ、補正を行うこ
となく電子線Ｅ３の断面形状を所望の形状にすることが
できる。しかし、図６（ｃ）に示すように、成形偏向器
が製作上傾いて取り付けられていると、補正を行わなけ
ればＸ方向についてオフセットとゲインに起因する誤差
δｘが生じ、Ｙ方向についてＸ方向との平行度に起因す
る誤差δｙが生じてしまう。
３の断面形状のＸ方向の幅のみを短くして、電子線Ｅ３
の断面形状を例えば図６（ａ）の状態から図６（ｂ）の
状態に変化させる場合を考える。成形偏向器が理想的で
図６（ｂ）のように製作誤差がなければ、補正を行うこ
となく電子線Ｅ３の断面形状を所望の形状にすることが
できる。しかし、図６（ｃ）に示すように、成形偏向器
が製作上傾いて取り付けられていると、補正を行わなけ
ればＸ方向についてオフセットとゲインに起因する誤差
δｘが生じ、Ｙ方向についてＸ方向との平行度に起因す
る誤差δｙが生じてしまう。
【００２０】本実施例による補正方式において、第２の
成形偏向器９Ａ，９Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂを利用しない
ものとして、例えば図３（ａ）に示すように、Ｘ方向用
の第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂが傾いて取り付けられて
いるものとする。この場合、（４ａ）式及び（４ｂ）式
で定義されるオフセット及びゲインの補正だけを行って
も、図３（ａ）に示すように、第１の成形偏向器７Ａ，
７Ｂから射出される電子線Ｅ４と本来の位置Ｅ４Ａとの
間にはＸ方向の誤差δｘ1 及びＹ方向の誤差δｙ1 が生
じてしまう。同様に図３（ａ）の状態から偏向方向の直
交度の補正だけを行っても、例えば図３（ｂ）に示すよ
うに、Ｙ方向用の第２の成形偏向器１０Ａ，１０Ｂが傾
いて取り付けられている場合には、第２の成形偏向器１
０Ａ，１０Ｂから射出される電子線Ｅ５と本来の位置Ｅ
５Ａとの間にもＸ方向の誤差δｘ2 及びＹ方向の誤差δ
ｙ2 が生じてしまう。
成形偏向器９Ａ，９Ｂ及び１０Ａ，１０Ｂを利用しない
ものとして、例えば図３（ａ）に示すように、Ｘ方向用
の第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂが傾いて取り付けられて
いるものとする。この場合、（４ａ）式及び（４ｂ）式
で定義されるオフセット及びゲインの補正だけを行って
も、図３（ａ）に示すように、第１の成形偏向器７Ａ，
７Ｂから射出される電子線Ｅ４と本来の位置Ｅ４Ａとの
間にはＸ方向の誤差δｘ1 及びＹ方向の誤差δｙ1 が生
じてしまう。同様に図３（ａ）の状態から偏向方向の直
交度の補正だけを行っても、例えば図３（ｂ）に示すよ
うに、Ｙ方向用の第２の成形偏向器１０Ａ，１０Ｂが傾
いて取り付けられている場合には、第２の成形偏向器１
０Ａ，１０Ｂから射出される電子線Ｅ５と本来の位置Ｅ
５Ａとの間にもＸ方向の誤差δｘ2 及びＹ方向の誤差δ
ｙ2 が生じてしまう。
【００２１】そこで本例では、第１の成形偏向器７Ａ，
７Ｂ，８Ａ，８Ｂで生じる図３（ａ）に示す誤差δｘ1
及びδｙ1 と、第２の成形偏向器９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，
１０Ｂで生じる図３（ｂ）に示す誤差δｘ2 及びδｙ2
とが相殺するように、（４ａ）式〜（５ｂ）式における
補正係数ｒφ〜ｒ２，ｓφ〜ｓ２の値を適当に選定す
る。これらの係数が決定されれば、所望の断面形状を有
する電子線Ｅ３に相当する制御データＷ及びＨに対し
て、第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂについて
は（４ａ）式及び（４ｂ）式で計算される補正制御デー
タＷ２及びＨ２を用いて偏向を行う。そして、第２の成
形偏向器９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，１０Ｂについては（５
ａ）式及び（５ｂ）式で計算される補正制御データＷ３
及びＨ３を用いて偏向を行うと、所望の断面形状の電子
線Ｅ３を得ることができる。
７Ｂ，８Ａ，８Ｂで生じる図３（ａ）に示す誤差δｘ1
及びδｙ1 と、第２の成形偏向器９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，
１０Ｂで生じる図３（ｂ）に示す誤差δｘ2 及びδｙ2
とが相殺するように、（４ａ）式〜（５ｂ）式における
補正係数ｒφ〜ｒ２，ｓφ〜ｓ２の値を適当に選定す
る。これらの係数が決定されれば、所望の断面形状を有
する電子線Ｅ３に相当する制御データＷ及びＨに対し
て、第１の成形偏向器７Ａ，７Ｂ，８Ａ，８Ｂについて
は（４ａ）式及び（４ｂ）式で計算される補正制御デー
タＷ２及びＨ２を用いて偏向を行う。そして、第２の成
形偏向器９Ａ，９Ｂ，１０Ａ，１０Ｂについては（５
ａ）式及び（５ｂ）式で計算される補正制御データＷ３
及びＨ３を用いて偏向を行うと、所望の断面形状の電子
線Ｅ３を得ることができる。
【００２２】この場合、（４ａ）式及び（４ｂ）式より
なる演算と（５ａ）式及び（５ｂ）式よりなる演算とに
おいては合計で４回の乗算及び４回の加算が実行され
る。これに対して従来の（１ａ）式及び（１ｂ）式より
なる演算においては４回の乗算及び６回の加算が実行さ
れる。従って、本例の補正演算は従来の補正演算よりも
よりも簡略化されているため、演算回路の規模が小さく
て済み、演算速度が速くなる利点がある。なお、本発明
は上述実施例に限定されず、例えば成形偏向器として、
静電方式以外に電磁方式を用いるなど、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論であ
る。
なる演算と（５ａ）式及び（５ｂ）式よりなる演算とに
おいては合計で４回の乗算及び４回の加算が実行され
る。これに対して従来の（１ａ）式及び（１ｂ）式より
なる演算においては４回の乗算及び６回の加算が実行さ
れる。従って、本例の補正演算は従来の補正演算よりも
よりも簡略化されているため、演算回路の規模が小さく
て済み、演算速度が速くなる利点がある。なお、本発明
は上述実施例に限定されず、例えば成形偏向器として、
静電方式以外に電磁方式を用いるなど、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論であ
る。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、オフセット及びゲイン
の補正並びに偏向方向と描画時の基準となる方向との平
行度の補正が独立な２組の成形偏向器で行われる。従っ
て、補正演算が全体として従来の補正演算より簡略化さ
れるので、演算手段が簡略化され、演算速度が高速化で
きる利点がある。
の補正並びに偏向方向と描画時の基準となる方向との平
行度の補正が独立な２組の成形偏向器で行われる。従っ
て、補正演算が全体として従来の補正演算より簡略化さ
れるので、演算手段が簡略化され、演算速度が高速化で
きる利点がある。
【図１】本発明による電子線露光装置の一実施例の電子
線の断面形状の可変成形部を示す一部斜視図を含むブロ
ック図である。
線の断面形状の可変成形部を示す一部斜視図を含むブロ
ック図である。
【図２】図１のＹ方向への断面図である。
【図３】（ａ）は図１の第１の成形偏向器７Ａ及び７Ｂ
の平面図、（ｂ）は図１の第２の成形偏向器１０Ａ及び
１０Ｂの平面図である。
の平面図、（ｂ）は図１の第２の成形偏向器１０Ａ及び
１０Ｂの平面図である。
【図４】従来の電子線露光装置の電子線の断面形状の可
変成形部を示す斜視図である。
変成形部を示す斜視図である。
【図５】（ａ）は図４のＹ方向への断面図、（ｂ）は線
幅の狭い描画パターンを示す平面図、（ｃ）は線幅の広
い描画パターンを示す平面図である。
幅の狭い描画パターンを示す平面図、（ｃ）は線幅の広
い描画パターンを示す平面図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ成形偏向器の製作誤
差に起因する電子線の断面形状の誤差の説明に供する要
部の平面図である。
差に起因する電子線の断面形状の誤差の説明に供する要
部の平面図である。
１ 第１成形アパーチャ ４ 第２成形アパーチャ ７Ａ，７Ｂ Ｘ方向用の第１の成形偏向器 ８Ａ，８Ｂ Ｙ方向用の第１の成形偏向器 ９Ａ，９Ｂ Ｘ方向用の第２の成形偏向器 １０Ａ，１０Ｂ Ｙ方向用の第２の成形偏向器 １１ 第１の補正演算回路 １２ 第２の補正演算回路 Ｅ１ 入射する電子線 Ｅ３ 射出する電子線 Ｈ，Ｗ 制御データ
Claims (1)
- 【請求項１】 複数枚の成形アパーチャと、該成形アパ
ーチャの間に配置され電子線を平面内の第１の方向に偏
向させる第１の偏向器と、前記成形アパーチャの間に配
置され電子線を前記平面内の前記第１の方向に交差する
第２の方向に偏向させる第２の偏向器とを有し、試料に
照射される電子線の断面形状の前記第１の方向の長さ及
び前記第２の方向の長さをそれぞれ前記第１の偏向器及
び第２の偏向器により変化させる装置において、 前記第１の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置さ
れた２組の偏向器より構成し、 前記第２の偏向器を互いに電子線に沿って離れて配置さ
れた２組の偏向器より構成し、 試料に照射される電子線の断面形状の前記第１の方向の
長さ及び前記第２の方向の長さを制御するための原制御
データに偏向方向と描画時の基準となる座標軸方向との
平行度を補正するための演算を施して得られた補正済み
制御データを前記第１の方向用の２組の偏向器の内の一
方の偏向器及び前記第２の方向用の２組の偏向器の内の
一方の偏向器に供給する第１の補正演算手段と、 前記原制御データにオフセット及びゲインを補正するた
めの演算を施して得た補正済み制御データを前記第１の
方向用の２組の偏向器の内の他方の偏向器及び前記第２
の方向用の２組の偏向器の内の他方の偏向器に供給する
第２の補正演算手段とを設けた事を特徴とする電子線露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4021801A JPH05190434A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 電子線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4021801A JPH05190434A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 電子線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190434A true JPH05190434A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=12065165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4021801A Withdrawn JPH05190434A (ja) | 1992-01-10 | 1992-01-10 | 電子線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05190434A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008524864A (ja) * | 2004-12-21 | 2008-07-10 | ヴィステック・リソグラフィー・リミテッド | 二重モード電子ビームカラム |
| JP2018098242A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
-
1992
- 1992-01-10 JP JP4021801A patent/JPH05190434A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008524864A (ja) * | 2004-12-21 | 2008-07-10 | ヴィステック・リソグラフィー・リミテッド | 二重モード電子ビームカラム |
| JP2018098242A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |