JPH05190647A - ウエハステージ - Google Patents
ウエハステージInfo
- Publication number
- JPH05190647A JPH05190647A JP357792A JP357792A JPH05190647A JP H05190647 A JPH05190647 A JP H05190647A JP 357792 A JP357792 A JP 357792A JP 357792 A JP357792 A JP 357792A JP H05190647 A JPH05190647 A JP H05190647A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafer stage
- support surface
- gas
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハを確実に支持面に載置できるウエハス
テージを得る。 【構成】 ウエハステージ２に気体の吹き出しが可能な
吹出口２ｆを設ける。
テージを得る。 【構成】 ウエハステージ２に気体の吹き出しが可能な
吹出口２ｆを設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、真空中のウエハ処理
装置でウエハを支持するウエハステージの改良に関す
る。
装置でウエハを支持するウエハステージの改良に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のウエハステージを示す断面
図であり、図において、１はほぼ円形状のウエハ、２は
ウエハ１を載置するウエハステージ、２ａはウエハ１を
載置する支持面で、平坦な面がウエハ１の径とほぼ同じ
径に構成されている。２ｂは支持面２ａの外周に設けら
れた傾斜面、２ｃは支持面２ａのほぼ中心部に設けら
れ、後述の昇降ロッドの頭部３ａを収納する凹部、２ｄ
は凹部２ｃのほぼ中心部に支持面２ａとほぼ直角方向に
設けられた軸穴、３は昇降ロッドで、支持面２ａに収容
されウエハ１を受ける頭部３ａと頭部３ａと接続され軸
穴２ｃを長手方向に移動可能な軸３ｂを備えている。
図であり、図において、１はほぼ円形状のウエハ、２は
ウエハ１を載置するウエハステージ、２ａはウエハ１を
載置する支持面で、平坦な面がウエハ１の径とほぼ同じ
径に構成されている。２ｂは支持面２ａの外周に設けら
れた傾斜面、２ｃは支持面２ａのほぼ中心部に設けら
れ、後述の昇降ロッドの頭部３ａを収納する凹部、２ｄ
は凹部２ｃのほぼ中心部に支持面２ａとほぼ直角方向に
設けられた軸穴、３は昇降ロッドで、支持面２ａに収容
されウエハ１を受ける頭部３ａと頭部３ａと接続され軸
穴２ｃを長手方向に移動可能な軸３ｂを備えている。
【０００３】次に動作について説明する。図２のウエハ
ステージは真空中に配置され、図示鎖線で示すように、
搬送装置（図示せず）によってウエハ１が支持面２ａと
ほぼ対向した位置まで運ばれると、昇降ロッド３を上昇
させて頭部３ａをウエハ１と接触させ、搬送装置から昇
降ロッド３へとウエハ１の受け渡しが行われる。ウエハ
１を渡すと搬送装置はウエハステージ２から離れ、ウエ
ハ１を載せた昇降ロッド３は下降し、ウエハ１の中心が
昇降ロッド３の中心軸と一致していると、ウエハ１は図
示のようにウエハステージ２の支持面２ａに正常に載置
される。
ステージは真空中に配置され、図示鎖線で示すように、
搬送装置（図示せず）によってウエハ１が支持面２ａと
ほぼ対向した位置まで運ばれると、昇降ロッド３を上昇
させて頭部３ａをウエハ１と接触させ、搬送装置から昇
降ロッド３へとウエハ１の受け渡しが行われる。ウエハ
１を渡すと搬送装置はウエハステージ２から離れ、ウエ
ハ１を載せた昇降ロッド３は下降し、ウエハ１の中心が
昇降ロッド３の中心軸と一致していると、ウエハ１は図
示のようにウエハステージ２の支持面２ａに正常に載置
される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のウエハステージ
は以上のように、ウエハ１と昇降ロッド３との中心が合
ったとき、ウエハ１がウエハステージ２の支持面２ａに
載置されるので、図３に示すようにウエハ１の搬送位置
が一方にずれた場合、真空中では空気が希薄のため滑り
が生じにくいので、ウエハ１の一端がウエハステージ２
の傾斜面２ｂに引っ掛かり、ウエハ１の他端は支持面２
ａと接触して傾斜し、ウエハ１が支持面２ａに正常に載
置されないという問題点があった。
は以上のように、ウエハ１と昇降ロッド３との中心が合
ったとき、ウエハ１がウエハステージ２の支持面２ａに
載置されるので、図３に示すようにウエハ１の搬送位置
が一方にずれた場合、真空中では空気が希薄のため滑り
が生じにくいので、ウエハ１の一端がウエハステージ２
の傾斜面２ｂに引っ掛かり、ウエハ１の他端は支持面２
ａと接触して傾斜し、ウエハ１が支持面２ａに正常に載
置されないという問題点があった。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ウエハの搬送位置が支持面から
ずれても、ウエハを支持面に正常に載置できるウエハス
テージを得ることを目的とする。
ためになされたもので、ウエハの搬送位置が支持面から
ずれても、ウエハを支持面に正常に載置できるウエハス
テージを得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るウエハス
テージは、ウエハステージに気体の吹き出しが可能な吹
出口を設けたものである。
テージは、ウエハステージに気体の吹き出しが可能な吹
出口を設けたものである。
【０００７】
【作用】この発明によるウエハステージは、吹出口から
吹き出された気体がウエハを押し上げるので、ウエハが
傾斜面に引っ掛かっていると気体がウエハと傾斜面との
間を通り、気体による潤滑作用でウエハは傾斜面を滑り
支持面に滑り降りる。
吹き出された気体がウエハを押し上げるので、ウエハが
傾斜面に引っ掛かっていると気体がウエハと傾斜面との
間を通り、気体による潤滑作用でウエハは傾斜面を滑り
支持面に滑り降りる。
【０００８】
【実施例】実施例１．以下、この発明の実施例１を図に
ついて説明する。図１において、１はウエハ、２はウエ
ハステージ、２ａは支持面、２ｂは傾斜面、２ｃは凹
部、２ｄは軸穴、２ｅは気体が流通できる流路、２ｆは
支持面２ａの径より小さい径の位置に開口し、流路２ｅ
と接続された吹出口、３は昇降ロッド、３ａは頭部、３
ｂは軸である。
ついて説明する。図１において、１はウエハ、２はウエ
ハステージ、２ａは支持面、２ｂは傾斜面、２ｃは凹
部、２ｄは軸穴、２ｅは気体が流通できる流路、２ｆは
支持面２ａの径より小さい径の位置に開口し、流路２ｅ
と接続された吹出口、３は昇降ロッド、３ａは頭部、３
ｂは軸である。
【０００９】次に動作について説明する。図１におい
て、搬送装置（図示せず）で運ばれたウエハ１を昇降ロ
ッド３の頭部３ａで受け取ったとき、図に鎖線で示すよ
うに、ウエハ１の中心が頭部３ａの中心からずれた状態
で昇降ロッド３を下降させると、ウエハ１の一端がウエ
ハステージ２の傾斜面２ｂに引っ掛かり、他端は昇降ロ
ッド３の下降に従って支持面２ａと接触し、ウエハ１は
傾斜した状態で支持される。このようなウエハ１の異常
載置を状態監視装置（図示せず）で検出し、検出信号で
気体供給装置（図示せず）を動作させ、不活性の気体を
流路２ｅに供給すると、吹出口２ｆから吹き出され気体
がウエハ１に当たり、ウエハ１の傾斜に沿って外周方向
に拡散するので、傾斜面２ｂと接触し吹出口２ｆから遠
いウエハ１の一端ではウエハ１と傾斜面２ｂとの間を気
体が通り、支持面２ａと接触し吹出口２ｆと近いウエハ
１の他端は、気体の吹き出し圧力によってウエハ１が支
持面２ａから離れるように浮き上がる。この他端の浮き
上がりで傾斜面２ｂと接触した一端は気体を潤滑材とし
て支持面２ａに滑り降り、ウエハ１は正規の状態で支持
面２ａに載置される。
て、搬送装置（図示せず）で運ばれたウエハ１を昇降ロ
ッド３の頭部３ａで受け取ったとき、図に鎖線で示すよ
うに、ウエハ１の中心が頭部３ａの中心からずれた状態
で昇降ロッド３を下降させると、ウエハ１の一端がウエ
ハステージ２の傾斜面２ｂに引っ掛かり、他端は昇降ロ
ッド３の下降に従って支持面２ａと接触し、ウエハ１は
傾斜した状態で支持される。このようなウエハ１の異常
載置を状態監視装置（図示せず）で検出し、検出信号で
気体供給装置（図示せず）を動作させ、不活性の気体を
流路２ｅに供給すると、吹出口２ｆから吹き出され気体
がウエハ１に当たり、ウエハ１の傾斜に沿って外周方向
に拡散するので、傾斜面２ｂと接触し吹出口２ｆから遠
いウエハ１の一端ではウエハ１と傾斜面２ｂとの間を気
体が通り、支持面２ａと接触し吹出口２ｆと近いウエハ
１の他端は、気体の吹き出し圧力によってウエハ１が支
持面２ａから離れるように浮き上がる。この他端の浮き
上がりで傾斜面２ｂと接触した一端は気体を潤滑材とし
て支持面２ａに滑り降り、ウエハ１は正規の状態で支持
面２ａに載置される。
【００１０】実施例２．実施例１においては、昇降ロッ
ドの下降でウエハの載置状態を検出し、異常載置のとき
気体を吹き出すようにしたが、ウエハの載置状態を検出
せずに昇降ロッドの下降動作で、気体を吹き出すように
してもよい。
ドの下降でウエハの載置状態を検出し、異常載置のとき
気体を吹き出すようにしたが、ウエハの載置状態を検出
せずに昇降ロッドの下降動作で、気体を吹き出すように
してもよい。
【００１１】実施例３．実施例１においては、吹出口を
環状に構成した場合について説明したが、吹出口は環状
に限らず、ウエハの搬送方向と同じ方向で、ウエハが傾
斜面に引っ掛かったときウエハに気体が当たるように複
数個の吹出口を設けてもよい。
環状に構成した場合について説明したが、吹出口は環状
に限らず、ウエハの搬送方向と同じ方向で、ウエハが傾
斜面に引っ掛かったときウエハに気体が当たるように複
数個の吹出口を設けてもよい。
【００１２】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウエハ
ステージに気体の吹き出しが可能な吹出口を設けたの
で、吹出口から吹き出された気体でウエハの姿勢が制御
され、気体による潤滑作用でウエハは傾斜面から滑り降
り、ウエハを支持面に正常に載置できるという効果が得
られる。
ステージに気体の吹き出しが可能な吹出口を設けたの
で、吹出口から吹き出された気体でウエハの姿勢が制御
され、気体による潤滑作用でウエハは傾斜面から滑り降
り、ウエハを支持面に正常に載置できるという効果が得
られる。
【図１】この発明の実施例１によるウエハステージの断
面図である。
面図である。
【図２】従来のウエハステージを示す断面図である。
【図３】従来のウエハステージのウエハ異常載置状態を
示す断面図である。
示す断面図である。
１ ウエハ ２ ウエハステージ ２ａ 支持面 ２ｂ 傾斜面 ２ｅ 流路 ２ｆ 吹出口 ３ 昇降ロッド ３ａ 頭部
Claims (1)
- 【請求項１】 搬送装置で支持面と対向した位置に搬送
されたウエハを昇降ロッドで受け上記支持面に載置する
ウエハステージにおいて、上記支持面に気体の吹き出し
が可能な吹出口を設けたことを特徴とするウエハステー
ジ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP357792A JPH05190647A (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ウエハステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP357792A JPH05190647A (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ウエハステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190647A true JPH05190647A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=11561310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP357792A Pending JPH05190647A (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ウエハステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05190647A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10335429A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板整列方法およびその装置 |
| CN108183083A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-19 | 武汉华星光电技术有限公司 | 面板的定位装置 |
| CN111312644A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-19 | 厦门通富微电子有限公司 | 晶圆自动对位装置以及刻蚀机 |
-
1992
- 1992-01-13 JP JP357792A patent/JPH05190647A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10335429A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板整列方法およびその装置 |
| CN108183083A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-19 | 武汉华星光电技术有限公司 | 面板的定位装置 |
| CN111312644A (zh) * | 2020-02-26 | 2020-06-19 | 厦门通富微电子有限公司 | 晶圆自动对位装置以及刻蚀机 |
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