JPH0520812B2 - - Google Patents
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- JPH0520812B2 JPH0520812B2 JP25119183A JP25119183A JPH0520812B2 JP H0520812 B2 JPH0520812 B2 JP H0520812B2 JP 25119183 A JP25119183 A JP 25119183A JP 25119183 A JP25119183 A JP 25119183A JP H0520812 B2 JPH0520812 B2 JP H0520812B2
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- film
- magnetic
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- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔技術分野〕
磁気記録面に対して垂直方向に磁化容易軸を持
つ垂直磁気異方性膜と少なくとも一層以上の軟磁
性膜とを組み合わせた垂直磁気記録媒体を作成す
る方法に関する。 〔従来技術〕 従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒
体の製造方法として、蒸着・スパツタ等の薄膜製
造技術が用いられてきた。蒸着・スパツタで垂直
磁気記録媒体を製造する場合、薄膜中にどうして
もN2、O2、H2O等の気体分子が入り込み、磁気
特性の劣化が生じていた。特に下地としての軟磁
性膜の磁気特性の劣化は激しい。これは、膜中の
N2、O2、H2O等により軟磁性膜の不連続がもた
らされ、磁壁がピンニングされるためと考えられ
る。また、基板と軟磁性膜間のストレスが生じ、
それらのため再生出力の劣化、記録密度特性の劣
化が生じるという問題点があつた。 〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、軟磁性膜中の磁壁の
ピンニング及び基板と軟磁性膜間のストレスの原
因を除去し、軟磁性膜の磁気特性の向上、及び垂
直磁気異方性膜の磁気特性の向上を計るとともに
再生出力・記録密度特性の優れた垂直磁気記録媒
体を得ることを目的とするものである。 〔概要〕 本発明は、磁気記録面に対して垂直方向に磁化
容易軸を持つ垂直磁気異方性膜と少なくとも一層
以上の軟磁性膜とを組み合わせた垂直磁気記録媒
体において、前記媒体の軟磁性膜を作成した後、
前記媒体の基板である高分子成形物基板の溶融あ
るいは昇華あるいは分解の温度以下で熱処理を行
ない、垂直磁気異方性膜を作成しようというもの
である。 〔実施例〕 以下、本発明について実施例に基づき詳細に説
明する。 本実施例として、高分子成形物基板にはPET
（ポリエチレンテレフタラート）を用い、軟磁性
膜はCoTi・垂直磁気異方性膜はCoCrを用いた。
第１図に本実施例の媒体の断面図を示す。１は
PETで50μｍ厚、２はCoTi膜で0.5μｍ厚、３は
CoCr膜0.5μｍ厚である。 まずスパツタ装置にPETをセツトし、基板温
度を100℃でCoTiを0.5μｍスパツタする。その後
基板温度を150℃で１時間保持し、再度基板温度
を100℃まで冷却し、CoCrを0.5μｍスパツタす
る。一方、従来法ではCoTiもCoCrも100℃で連
続して0.5μｍずつスパツタする。表１に上述した
本発明と従来法による垂直磁気記録媒体の磁気特
性を示す。
つ垂直磁気異方性膜と少なくとも一層以上の軟磁
性膜とを組み合わせた垂直磁気記録媒体を作成す
る方法に関する。 〔従来技術〕 従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒
体の製造方法として、蒸着・スパツタ等の薄膜製
造技術が用いられてきた。蒸着・スパツタで垂直
磁気記録媒体を製造する場合、薄膜中にどうして
もN2、O2、H2O等の気体分子が入り込み、磁気
特性の劣化が生じていた。特に下地としての軟磁
性膜の磁気特性の劣化は激しい。これは、膜中の
N2、O2、H2O等により軟磁性膜の不連続がもた
らされ、磁壁がピンニングされるためと考えられ
る。また、基板と軟磁性膜間のストレスが生じ、
それらのため再生出力の劣化、記録密度特性の劣
化が生じるという問題点があつた。 〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、軟磁性膜中の磁壁の
ピンニング及び基板と軟磁性膜間のストレスの原
因を除去し、軟磁性膜の磁気特性の向上、及び垂
直磁気異方性膜の磁気特性の向上を計るとともに
再生出力・記録密度特性の優れた垂直磁気記録媒
体を得ることを目的とするものである。 〔概要〕 本発明は、磁気記録面に対して垂直方向に磁化
容易軸を持つ垂直磁気異方性膜と少なくとも一層
以上の軟磁性膜とを組み合わせた垂直磁気記録媒
体において、前記媒体の軟磁性膜を作成した後、
前記媒体の基板である高分子成形物基板の溶融あ
るいは昇華あるいは分解の温度以下で熱処理を行
ない、垂直磁気異方性膜を作成しようというもの
である。 〔実施例〕 以下、本発明について実施例に基づき詳細に説
明する。 本実施例として、高分子成形物基板にはPET
（ポリエチレンテレフタラート）を用い、軟磁性
膜はCoTi・垂直磁気異方性膜はCoCrを用いた。
第１図に本実施例の媒体の断面図を示す。１は
PETで50μｍ厚、２はCoTi膜で0.5μｍ厚、３は
CoCr膜0.5μｍ厚である。 まずスパツタ装置にPETをセツトし、基板温
度を100℃でCoTiを0.5μｍスパツタする。その後
基板温度を150℃で１時間保持し、再度基板温度
を100℃まで冷却し、CoCrを0.5μｍスパツタす
る。一方、従来法ではCoTiもCoCrも100℃で連
続して0.5μｍずつスパツタする。表１に上述した
本発明と従来法による垂直磁気記録媒体の磁気特
性を示す。
【表】
表１に示す様に、本発明法による媒体は従来法
媒体に比較して磁気特性に関し、全ての面で優れ
ている。次に第２図に記録密度特性を示す。尚、
主磁極ヘツドの膜厚は0.3μｍで測定した。この第
２図のデータを表２にまとめる。ａは本発明、ｂ
は従来法による媒体である。
媒体に比較して磁気特性に関し、全ての面で優れ
ている。次に第２図に記録密度特性を示す。尚、
主磁極ヘツドの膜厚は0.3μｍで測定した。この第
２図のデータを表２にまとめる。ａは本発明、ｂ
は従来法による媒体である。
【表】
第２図・表２よりからわかるように再生出力で
は、本発明媒体は２倍の出力が出ている、また出
力が半分になる記録密度D50も２倍近く伸びてい
る。 また、他の実施例として、高分子成形基板とし
て耐熱性のあるアラミドを用いたものを示す。こ
れは、CoTiのスパツタ時の基板温度は150℃で、
その後基板温度を250℃で１時間保持し、再度基
板温度を150℃に冷却しCoCrをスパツタしたもの
である。膜厚は0.5μｍで同じである。また、従来
法としては基板にアラミドを用い、基板温度150
℃でCoTi・CoCrを連続してスパツタした。尚、
記録密度、再生出力は主磁極厚み0.3μｍのヘツド
を用いた。以下にそれらの諸特性を表３にまとめ
る。
は、本発明媒体は２倍の出力が出ている、また出
力が半分になる記録密度D50も２倍近く伸びてい
る。 また、他の実施例として、高分子成形基板とし
て耐熱性のあるアラミドを用いたものを示す。こ
れは、CoTiのスパツタ時の基板温度は150℃で、
その後基板温度を250℃で１時間保持し、再度基
板温度を150℃に冷却しCoCrをスパツタしたもの
である。膜厚は0.5μｍで同じである。また、従来
法としては基板にアラミドを用い、基板温度150
℃でCoTi・CoCrを連続してスパツタした。尚、
記録密度、再生出力は主磁極厚み0.3μｍのヘツド
を用いた。以下にそれらの諸特性を表３にまとめ
る。
以上述べたように本発明によれば、垂直異方性
膜の磁気特性の向上、軟磁性膜の磁気特性の向
上、再生出力の向上、および記録密度特性の向上
が計られる。 尚、本実施例に示した高分子成形物基板には
PET、アラミドを用いたがポリイミドでも本発
明は有効である。また、軟磁性膜としてCoTi・
垂直磁気異方性膜としてCoCrを用いているが、
これら以外の軟磁性膜（パーマロイ、スーパーマ
ロイ、CoTa、CoZrNb等）・垂直磁化膜（CoW、
CoV等）でも本発明は有効である。さらに軟磁
性膜と垂直磁化膜を組み合わせた二層構造以外
に、三層以上の構造でも本発明は効果がある。そ
して本発明で熱処理した温度・保持時間は高分子
成形物基板の種類・軟磁性膜の材質で変わるもの
であり一概に言えないが、基本的に熱処理の温度
は、軟磁性膜の成膜時の基板温度以上であれば良
い。
膜の磁気特性の向上、軟磁性膜の磁気特性の向
上、再生出力の向上、および記録密度特性の向上
が計られる。 尚、本実施例に示した高分子成形物基板には
PET、アラミドを用いたがポリイミドでも本発
明は有効である。また、軟磁性膜としてCoTi・
垂直磁気異方性膜としてCoCrを用いているが、
これら以外の軟磁性膜（パーマロイ、スーパーマ
ロイ、CoTa、CoZrNb等）・垂直磁化膜（CoW、
CoV等）でも本発明は有効である。さらに軟磁
性膜と垂直磁化膜を組み合わせた二層構造以外
に、三層以上の構造でも本発明は効果がある。そ
して本発明で熱処理した温度・保持時間は高分子
成形物基板の種類・軟磁性膜の材質で変わるもの
であり一概に言えないが、基本的に熱処理の温度
は、軟磁性膜の成膜時の基板温度以上であれば良
い。
第１図は垂直磁気記録媒体の断面図であり、第
２図は本発明と従来法による記録密度特性図であ
る。 １……PET、２……CoTi膜、３……CoCr膜、
ａ……本発明による媒体、ｂ……従来法による媒
体。
２図は本発明と従来法による記録密度特性図であ
る。 １……PET、２……CoTi膜、３……CoCr膜、
ａ……本発明による媒体、ｂ……従来法による媒
体。
Claims (1)
- １ 磁気記録面に対して垂直方向に磁化容易軸を
持つ垂直磁気異方性膜と少なくとも一層以上の軟
磁性膜とを組み合わせた垂直磁気記録媒体におい
て、前記媒体の軟磁性膜を作成した後、前記媒体
の基板である高分子成形物基板の溶融あるいは昇
華あるいは分解のいずれかの温度以下で熱処理を
行ない、その後、垂直磁気異方性膜を作成するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25119183A JPS60143436A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25119183A JPS60143436A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60143436A JPS60143436A (ja) | 1985-07-29 |
| JPH0520812B2 true JPH0520812B2 (ja) | 1993-03-22 |
Family
ID=17219035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25119183A Granted JPS60143436A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60143436A (ja) |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP25119183A patent/JPS60143436A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60143436A (ja) | 1985-07-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |