JPH052100A - 電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法 - Google Patents
電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法Info
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- JPH052100A JPH052100A JP3202023A JP20202391A JPH052100A JP H052100 A JPH052100 A JP H052100A JP 3202023 A JP3202023 A JP 3202023A JP 20202391 A JP20202391 A JP 20202391A JP H052100 A JPH052100 A JP H052100A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
- H01J33/02—Details
- H01J33/04—Windows
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J5/00—Details relating to vessels or to leading-in conductors common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J5/02—Vessels; Containers; Shields associated therewith; Vacuum locks
- H01J5/18—Windows permeable to X-rays, gamma-rays, or particles
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子ビームの透過性を損うことなく、耐食性
耐クリープ特性を改善することができる窓を有する電子
ビーム照射装置、およびこの装置に用いる電子ビーム透
過膜の製造方法を提供する。 【構成】 電子ビーム照射装置は、内部に電子ビーム発
生装置を有するチャンバー（１）と、チャンバー（１）
内の電子ビーム（９）を外部に引き出す窓（７）とを備
えている。窓（７）は電子ビーム透過膜（７ａ）を有
し、この電子ビーム透過膜（７ａ）はＴｉ−Ａｌ系金属
間化合物を含む。窓枠部材（７ｂ）は、電子ビーム透過
膜（７ａ）の熱膨張係数と略等しい熱膨張係数を有する
材質からなっている。電子ビーム透過膜の製造方法は、
ＴｉあるいはＴｉを含む合金からなる箔にＡｌをコーテ
ィングする工程と、コーティングされた箔を拡散熱処理
する工程とを備えている。
耐クリープ特性を改善することができる窓を有する電子
ビーム照射装置、およびこの装置に用いる電子ビーム透
過膜の製造方法を提供する。 【構成】 電子ビーム照射装置は、内部に電子ビーム発
生装置を有するチャンバー（１）と、チャンバー（１）
内の電子ビーム（９）を外部に引き出す窓（７）とを備
えている。窓（７）は電子ビーム透過膜（７ａ）を有
し、この電子ビーム透過膜（７ａ）はＴｉ−Ａｌ系金属
間化合物を含む。窓枠部材（７ｂ）は、電子ビーム透過
膜（７ａ）の熱膨張係数と略等しい熱膨張係数を有する
材質からなっている。電子ビーム透過膜の製造方法は、
ＴｉあるいはＴｉを含む合金からなる箔にＡｌをコーテ
ィングする工程と、コーティングされた箔を拡散熱処理
する工程とを備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、溶接や熱処理をおこな
う電子ビーム照射装置に係り、とりわけ真空状態に維持
される電子ビーム発生用のチャンバー内部と外部の大気
あるいは特殊ガス雰囲気とを仕切り、大気中あるいは特
殊ガス雰囲気中に電子ビームを引き出す窓を有する電子
ビーム照射装置に関する。
う電子ビーム照射装置に係り、とりわけ真空状態に維持
される電子ビーム発生用のチャンバー内部と外部の大気
あるいは特殊ガス雰囲気とを仕切り、大気中あるいは特
殊ガス雰囲気中に電子ビームを引き出す窓を有する電子
ビーム照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的な電子ビーム照射装置の概略図を
図１３に示す。
図１３に示す。
【０００３】チャンバー１内は真空ポンプ２によりほぼ
真空状態に維持される。この真空中で、タングステンな
どの金属でできているフィラメント３を直流電源で加熱
する。この加熱により放出される熱電子を、高電圧が印
加されたカソード４およびアノード５が作り出す電界に
より加速する。さらに熱電子を偏向コイル６の磁界によ
り制御し、窓７を透過させ、ワーク８に照射する。照射
された電子ビーム９の運動エネルギーは、ワーク８にお
いて熱エネルギーに変換され、ワーク８の溶接や熱処理
などがおこなわれる。
真空状態に維持される。この真空中で、タングステンな
どの金属でできているフィラメント３を直流電源で加熱
する。この加熱により放出される熱電子を、高電圧が印
加されたカソード４およびアノード５が作り出す電界に
より加速する。さらに熱電子を偏向コイル６の磁界によ
り制御し、窓７を透過させ、ワーク８に照射する。照射
された電子ビーム９の運動エネルギーは、ワーク８にお
いて熱エネルギーに変換され、ワーク８の溶接や熱処理
などがおこなわれる。
【０００４】この電子ビーム９は、例えばレーザーなど
と比較すると、エネルギー効率が極めて高く、ビーム制
御が電気的に容易におこなえることから、優れた熱源で
あるといえる。このため電子ビーム照射装置は産業用加
工機として広範囲の利用が考えられる。
と比較すると、エネルギー効率が極めて高く、ビーム制
御が電気的に容易におこなえることから、優れた熱源で
あるといえる。このため電子ビーム照射装置は産業用加
工機として広範囲の利用が考えられる。
【０００５】特に、図１３の装置よりも古い従来型装置
においては、ワーク８をチャンバー１内に入れて照射を
おこなっていた。このチャンバー１は、フィラメント３
の寿命を長くする必要などから１０-4〜１０-5torr程度
の真空度を必要としていた。このためチャンバー１をあ
まり大きくできないことから、ワーク８の大きさが制限
されていた。
においては、ワーク８をチャンバー１内に入れて照射を
おこなっていた。このチャンバー１は、フィラメント３
の寿命を長くする必要などから１０-4〜１０-5torr程度
の真空度を必要としていた。このためチャンバー１をあ
まり大きくできないことから、ワーク８の大きさが制限
されていた。
【０００６】しかし窓７によってチャンバー１の内部と
外部を仕切り、窓７を通して電子ビーム９を外部に引き
出すことができるようになったので、電子ビーム９の照
射を、大気中や特定のガスの中でおこなうことができる
ようになった。これにより図１５に示すような排ガスの
誘導化学反応によるＮＯｘ、ＳＯｘ固定回収システムや
殺菌、有機材料架橋、硬化などに電子ビーム照射装置を
積極的に使用することが検討されている。なお、図１５
において符号５０は火力発電所の排ガスを示し、処理室
５７において排ガス５０は電子ビーム発生装置５３から
電子ビーム透過膜５４を経て出射する電子ビームによっ
て照射される。そして排ガス５０は誘導化学反応により
反応生成物５５となり、反応生成物５５は生成物集塵機
５６の中で処理され硫安や硝安となる。
外部を仕切り、窓７を通して電子ビーム９を外部に引き
出すことができるようになったので、電子ビーム９の照
射を、大気中や特定のガスの中でおこなうことができる
ようになった。これにより図１５に示すような排ガスの
誘導化学反応によるＮＯｘ、ＳＯｘ固定回収システムや
殺菌、有機材料架橋、硬化などに電子ビーム照射装置を
積極的に使用することが検討されている。なお、図１５
において符号５０は火力発電所の排ガスを示し、処理室
５７において排ガス５０は電子ビーム発生装置５３から
電子ビーム透過膜５４を経て出射する電子ビームによっ
て照射される。そして排ガス５０は誘導化学反応により
反応生成物５５となり、反応生成物５５は生成物集塵機
５６の中で処理され硫安や硝安となる。
【０００７】従来、このような電子ビームを引き出す窓
７の材料には、Ｔｉ箔が使用されている。Ｔｉは電子透
過性に優れ、融点が高く、数十ミクロンの薄い箔を作る
ことが可能であるため使用されている。
７の材料には、Ｔｉ箔が使用されている。Ｔｉは電子透
過性に優れ、融点が高く、数十ミクロンの薄い箔を作る
ことが可能であるため使用されている。
【０００８】発明者らはこのＴｉの前記のような特性を
確認するため、各種材料と比較してＴｉの電子透過性、
融点、熱伝導度、電気抵抗などを調査した。調査結果を
図１４に示す。図１４においてＭ／（ρ・Ｚ8/9 ）は電
子ビームがワークに照射された際のワーク内部への最大
到達深さから求めた係数であり、電子ビームの透過率を
表わす。窓の材料としては、この透過率は高い方が良
い。又耐熱性の観点から融点も高い方が良い。さらに、
発熱を抑える意味からは熱伝導度は高く、電気抵抗は低
い方が好ましい。これらの観点から調査結果を見ると、
Ｔｉは融点が高く、電子透過性は良好である。しかし電
気抵抗は高く、他方、熱伝導度は低く、必ずしも満足で
きる材料とはいえない。
確認するため、各種材料と比較してＴｉの電子透過性、
融点、熱伝導度、電気抵抗などを調査した。調査結果を
図１４に示す。図１４においてＭ／（ρ・Ｚ8/9 ）は電
子ビームがワークに照射された際のワーク内部への最大
到達深さから求めた係数であり、電子ビームの透過率を
表わす。窓の材料としては、この透過率は高い方が良
い。又耐熱性の観点から融点も高い方が良い。さらに、
発熱を抑える意味からは熱伝導度は高く、電気抵抗は低
い方が好ましい。これらの観点から調査結果を見ると、
Ｔｉは融点が高く、電子透過性は良好である。しかし電
気抵抗は高く、他方、熱伝導度は低く、必ずしも満足で
きる材料とはいえない。
【０００９】一方、Ｔｉよりも電子透過性に優れた材料
は数多い。しかし、このうちＫ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｐ、Ａｌ
はいずれも融点が低く、電子ビームが透過するときの発
熱に対する耐熱性が期待できない。また、Ｂｅは毒性を
有し、Ｃは耐酸化性が著しく悪く、Ｓｉは薄膜化が困難
であり機械的特性も脆弱である。これらのことから、現
在使用されているＴｉ箔は、必ずしも万能ではないが比
較的良好な材料であるともいえる。
は数多い。しかし、このうちＫ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｐ、Ａｌ
はいずれも融点が低く、電子ビームが透過するときの発
熱に対する耐熱性が期待できない。また、Ｂｅは毒性を
有し、Ｃは耐酸化性が著しく悪く、Ｓｉは薄膜化が困難
であり機械的特性も脆弱である。これらのことから、現
在使用されているＴｉ箔は、必ずしも万能ではないが比
較的良好な材料であるともいえる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかし、Ｔｉ箔は、電
子透過性などに優れているものの、電子ビームが透過す
るときに発生する熱電子により加熱された状態ではクリ
ープ特性に劣り、チャンバー外部の大気や特殊な雰囲気
ガスとの反応による腐食損耗が顕著である。またＴｉ箔
はチャンバーの内外圧力差により変形や破損を生じ易
い。このため高出力の電子ビーム照射装置には、電子ビ
ームの透過窓の冷却機構の設置を通常行っているが長時
間の使用が困難である。また冷却によるエネルギー損失
が大きいという問題もある。
子透過性などに優れているものの、電子ビームが透過す
るときに発生する熱電子により加熱された状態ではクリ
ープ特性に劣り、チャンバー外部の大気や特殊な雰囲気
ガスとの反応による腐食損耗が顕著である。またＴｉ箔
はチャンバーの内外圧力差により変形や破損を生じ易
い。このため高出力の電子ビーム照射装置には、電子ビ
ームの透過窓の冷却機構の設置を通常行っているが長時
間の使用が困難である。また冷却によるエネルギー損失
が大きいという問題もある。
【００１１】すなわち、長時間の電子ビーム照射により
加熱されたＴｉ箔は大気や腐食性ガスである雰囲気ガス
と接触する部分に損耗が生じ、膜厚が薄くなる。薄くな
ったＴｉ箔がさらに高温に加熱されると、窓の内外圧力
差によってクリープが生じ、クリープ破壊によってＴｉ
箔が破れ、チャンバー内に大気やガスが侵入し電子ビー
ム発生装置が破損するなどの不具合が生じる。
加熱されたＴｉ箔は大気や腐食性ガスである雰囲気ガス
と接触する部分に損耗が生じ、膜厚が薄くなる。薄くな
ったＴｉ箔がさらに高温に加熱されると、窓の内外圧力
差によってクリープが生じ、クリープ破壊によってＴｉ
箔が破れ、チャンバー内に大気やガスが侵入し電子ビー
ム発生装置が破損するなどの不具合が生じる。
【００１２】本発明は、このような点を考慮してなされ
たものであり、電子ビームの透過性を損うことなく、耐
食性耐クリープ特性を改善することができる窓を有する
電子ビーム照射装置を提供することを目的とする。
たものであり、電子ビームの透過性を損うことなく、耐
食性耐クリープ特性を改善することができる窓を有する
電子ビーム照射装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、内部に電子ビーム発生装置を有するチャ
ンバーと、チャンバー内の電子ビームを外部に引き出す
窓とを備えた電子ビーム照射装置において、前記窓は電
子ビーム透過膜を有し、この電子ビーム透過膜はＴｉ−
Ａｌ系金属間化合物を含むことを特徴とする。
に、本発明は、内部に電子ビーム発生装置を有するチャ
ンバーと、チャンバー内の電子ビームを外部に引き出す
窓とを備えた電子ビーム照射装置において、前記窓は電
子ビーム透過膜を有し、この電子ビーム透過膜はＴｉ−
Ａｌ系金属間化合物を含むことを特徴とする。
【００１４】また、電子ビーム照射装置に用いる窓枠部
材は、前記電子ビーム透過膜の熱膨張係数と略等しい熱
膨張係数を有する材質からなることを特徴とする。
材は、前記電子ビーム透過膜の熱膨張係数と略等しい熱
膨張係数を有する材質からなることを特徴とする。
【００１５】また、電子ビーム透過膜の製造方法は、Ｔ
ｉあるいはＴｉを含む合金からなる箔にＡｌをコーティ
ングする工程と、コーティングされた箔を拡散熱処理す
る工程とを備えることを特徴とする。
ｉあるいはＴｉを含む合金からなる箔にＡｌをコーティ
ングする工程と、コーティングされた箔を拡散熱処理す
る工程とを備えることを特徴とする。
【００１６】
【作用】電子ビーム透過膜窓はＴｉ−Ａｌ系金属間化合
物を含むので、従来のＴｉ膜と比較して耐酸化性比、耐
クリープ特性比、寿命比を改善することができる。ま
た、電子ビームの透過性を十分に確保できることができ
る。
物を含むので、従来のＴｉ膜と比較して耐酸化性比、耐
クリープ特性比、寿命比を改善することができる。ま
た、電子ビームの透過性を十分に確保できることができ
る。
【００１７】
（第１実施例）以下、図面を参照して本発明の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１８】図１乃至図３は本発明の第１の実施例を示
す図である。このうち、図２（ａ）は図１３の窓７の部
分を示す拡大平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）Ｂ
−Ｂ線断面図、図３は窓を製造する状態を示す概略全体
図、図１は図３における製造の手順を示すフロー図であ
る。
す図である。このうち、図２（ａ）は図１３の窓７の部
分を示す拡大平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）Ｂ
−Ｂ線断面図、図３は窓を製造する状態を示す概略全体
図、図１は図３における製造の手順を示すフロー図であ
る。
【００１９】図２（ａ）および図２（ｂ）に示すよう
に、窓７は電子ビームが通過する電子ビーム透過膜７ａ
と、この電子ビーム透過膜７ａを囲う窓枠部材７ｂとを
有している。窓枠部材７ｂは外側窓枠１０と内側窓枠１
１とから構成される。このような窓７は次のような工程
で製造される。
に、窓７は電子ビームが通過する電子ビーム透過膜７ａ
と、この電子ビーム透過膜７ａを囲う窓枠部材７ｂとを
有している。窓枠部材７ｂは外側窓枠１０と内側窓枠１
１とから構成される。このような窓７は次のような工程
で製造される。
【００２０】まず、図２（ａ）および図２（ｂ）に示す
ように、電子ビーム透過膜７ａの基になるＴｉ箔を外側
窓枠１０と内側窓枠１１とで固定する。
ように、電子ビーム透過膜７ａの基になるＴｉ箔を外側
窓枠１０と内側窓枠１１とで固定する。
【００２１】この状態で固定されたＴｉ箔を図３に示す
ように、窓製造室１２内へ搬送する。次に、ＴｉとＡｌ
を有する蒸発源１３を電子銃１４により加熱し、Ｔｉと
Ａｌを蒸発させる。金属蒸気１５となったＴｉとＡｌは
窓製造室１２内の真空中で反応し、ＴｉＡｌまたはＴｉ
3 Ａｌとなる。
ように、窓製造室１２内へ搬送する。次に、ＴｉとＡｌ
を有する蒸発源１３を電子銃１４により加熱し、Ｔｉと
Ａｌを蒸発させる。金属蒸気１５となったＴｉとＡｌは
窓製造室１２内の真空中で反応し、ＴｉＡｌまたはＴｉ
3 Ａｌとなる。
【００２２】これらＴｉＡｌおよびＴｉ3 Ａｌは、窓材
料であるＴｉ箔の片面に蒸気１６となって付着しコーテ
ィングがおこなわれる。その後、拡散熱処理をおこなっ
たＴｉＡｌおよびＴｉ3 Ａｌからなる膜がＴｉ箔に完全
に密着する。同時に未反応状態で残っているＡｌ粒子な
どを反応させ、完全にＴｉＡｌまたはＴｉ3 Ａｌとす
る。
料であるＴｉ箔の片面に蒸気１６となって付着しコーテ
ィングがおこなわれる。その後、拡散熱処理をおこなっ
たＴｉＡｌおよびＴｉ3 Ａｌからなる膜がＴｉ箔に完全
に密着する。同時に未反応状態で残っているＡｌ粒子な
どを反応させ、完全にＴｉＡｌまたはＴｉ3 Ａｌとす
る。
【００２３】このように本実施例においては、電子ビー
ム透過膜７ａと窓枠部材７ｂとを個別に製作してそれら
を組み合わせるのではなく、窓７の電子ビーム透過膜７
ａと窓枠部材７ｂとが一体で製作され、このようにして
一体で製作された窓７を図１３に示すチャンバー１に設
けることにより、電子ビーム透過膜７ａと窓枠部材７ｂ
とを一体でチャンバー１から着脱させることができる。
ム透過膜７ａと窓枠部材７ｂとを個別に製作してそれら
を組み合わせるのではなく、窓７の電子ビーム透過膜７
ａと窓枠部材７ｂとが一体で製作され、このようにして
一体で製作された窓７を図１３に示すチャンバー１に設
けることにより、電子ビーム透過膜７ａと窓枠部材７ｂ
とを一体でチャンバー１から着脱させることができる。
【００２４】この結果、電子ビーム透過膜７ａを窓枠部
材７ｂに取り付ける工程を設ける必要がないので、電子
ビーム透過膜７ａは変形が生じにくく品質のばらつきも
少なく、低コストの窓７を製作することができる。
材７ｂに取り付ける工程を設ける必要がないので、電子
ビーム透過膜７ａは変形が生じにくく品質のばらつきも
少なく、低コストの窓７を製作することができる。
【００２５】次に、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物膜をＴｉ
箔の表面に形成した窓と、従来のＴｉ箔の窓とを比較検
討するために行った実験の実験結果を図５に示す。
箔の表面に形成した窓と、従来のＴｉ箔の窓とを比較検
討するために行った実験の実験結果を図５に示す。
【００２６】比較の基準となる従来例のＴｉ箔は３０μ
ｍとした。そして、電子ビーム照射装置は図１３に示す
ものを使用した。
ｍとした。そして、電子ビーム照射装置は図１３に示す
ものを使用した。
【００２７】本実施例の場合の検討は、２つの例につい
ておこなった。１つは、３０μｍの厚さを有するＴｉ箔
の大気側に接触する面に、Ｔｉ3 Ａｌを３μｍコーティ
ングしたものである。もう１つは、３０μｍの厚さのＴ
ｉ箔の大気と接触する面にＴｉＡｌを３μｍコーティン
グしたものである。そして、電子ビーム照射装置を１０
０ＫＷ出力により連続運転し、１００時間の間、電子ビ
ームを前記各材料からなる窓７を通して、大気中に配置
されたワーク８へ照射した。
ておこなった。１つは、３０μｍの厚さを有するＴｉ箔
の大気側に接触する面に、Ｔｉ3 Ａｌを３μｍコーティ
ングしたものである。もう１つは、３０μｍの厚さのＴ
ｉ箔の大気と接触する面にＴｉＡｌを３μｍコーティン
グしたものである。そして、電子ビーム照射装置を１０
０ＫＷ出力により連続運転し、１００時間の間、電子ビ
ームを前記各材料からなる窓７を通して、大気中に配置
されたワーク８へ照射した。
【００２８】この時の各窓材料の厚さ変化、窓材料のチ
ャンバー１内への垂れ込み変化量を測定し、この測定結
果から従来例との耐酸化性、耐クリープ特性、および時
間寿命について比較検討した。
ャンバー１内への垂れ込み変化量を測定し、この測定結
果から従来例との耐酸化性、耐クリープ特性、および時
間寿命について比較検討した。
【００２９】図５中の鎖線は従来例の値を示している。
図５からわかるように、耐酸化性、耐クリープ特性はい
ずれも１．５〜２．０倍程度に改善されている。また窓
材料として使用不可能となる時間寿命については、７〜
９倍程度に改善されている。
図５からわかるように、耐酸化性、耐クリープ特性はい
ずれも１．５〜２．０倍程度に改善されている。また窓
材料として使用不可能となる時間寿命については、７〜
９倍程度に改善されている。
【００３０】このように、本実施例によれば、従来と同
様にワークに電子ビームを照射でき、電子ビームの透過
性を損うことがなく、窓の耐酸化性すなわち耐食性、お
よび耐クリープ特性を改善することができる。しかも、
これらの改善により、窓材料としての寿命を大幅に延ば
すことができる。
様にワークに電子ビームを照射でき、電子ビームの透過
性を損うことがなく、窓の耐酸化性すなわち耐食性、お
よび耐クリープ特性を改善することができる。しかも、
これらの改善により、窓材料としての寿命を大幅に延ば
すことができる。
【００３１】（第２実施例）次に本発明の第２実施例を
図４により説明する。
図４により説明する。
【００３２】図４は、本実施例に係る窓７の製造手順を
示す図である。なお、第２の実施例は蒸発源としてＡｌ
のみ用いる点（図８参照）を除くと、第１の実施例と略
同様である。図４に示すように、電子銃１４（図８参
照）によりＡｌを加熱し蒸気にしてＴｉ箔表面にコーテ
ィングする。その後、拡散熱処理をおこないＡｌをＴｉ
箔のＴｉと反応させる。本実施例においてもＴｉ箔にＴ
ｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌの膜を形成させることができ
る。なお拡散熱処理によって生成されるＴｉＡｌの層と
Ｔｉ3 Ａｌの層が明確には区分されず混在している状態
は図６に示すように、まとめてＴｉ−Ａｌ系金属間化合
物の層を構成する。
示す図である。なお、第２の実施例は蒸発源としてＡｌ
のみ用いる点（図８参照）を除くと、第１の実施例と略
同様である。図４に示すように、電子銃１４（図８参
照）によりＡｌを加熱し蒸気にしてＴｉ箔表面にコーテ
ィングする。その後、拡散熱処理をおこないＡｌをＴｉ
箔のＴｉと反応させる。本実施例においてもＴｉ箔にＴ
ｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌの膜を形成させることができ
る。なお拡散熱処理によって生成されるＴｉＡｌの層と
Ｔｉ3 Ａｌの層が明確には区分されず混在している状態
は図６に示すように、まとめてＴｉ−Ａｌ系金属間化合
物の層を構成する。
【００３３】（第３実施例）次に本発明の第３実施例を
図７により説明する。
図７により説明する。
【００３４】図７は、本実施例に係る窓の製造手順を示
す図である。本実施例においては蒸発源としてＡｌとＴ
ｉの２つの金属を用いている（図３参照）。図７および
図３において、電子銃１４により加熱し、金属蒸気とな
ったＴｉとＡｌを窓製造室１２内の真空中で反応させ、
Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物としてＴｉ箔基材上へコーテ
ィングする。その後、拡散熱処理を行い、Ｔｉ−Ａｌ系
金属間化合物のコーティング層とＴｉ基材とを完全に密
着させる。同時に未反応状態で残っているＡｌ粒子など
をＴｉと反応させ、完全にＴｉ−Ａｌ系金属間化合物と
する。
す図である。本実施例においては蒸発源としてＡｌとＴ
ｉの２つの金属を用いている（図３参照）。図７および
図３において、電子銃１４により加熱し、金属蒸気とな
ったＴｉとＡｌを窓製造室１２内の真空中で反応させ、
Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物としてＴｉ箔基材上へコーテ
ィングする。その後、拡散熱処理を行い、Ｔｉ−Ａｌ系
金属間化合物のコーティング層とＴｉ基材とを完全に密
着させる。同時に未反応状態で残っているＡｌ粒子など
をＴｉと反応させ、完全にＴｉ−Ａｌ系金属間化合物と
する。
【００３５】（変形例）なお、第１乃至第３の実施例に
おいてはＴｉＡｌ3、ＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌの膜
はＴｉ箔の表面にのみ存在しているが、これに限らず、
Ａｌのコーティングの厚さを十分に厚くし、その後の拡
散熱処理を長時間おこない、窓の厚さ方向全体において
均一なＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌを形成することも可
能である。延性に乏しいものの、耐酸化性や耐クリープ
特性に優れるため、小型の電子ビーム透過窓の材料とし
て有用と考えられる。
おいてはＴｉＡｌ3、ＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌの膜
はＴｉ箔の表面にのみ存在しているが、これに限らず、
Ａｌのコーティングの厚さを十分に厚くし、その後の拡
散熱処理を長時間おこない、窓の厚さ方向全体において
均一なＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌを形成することも可
能である。延性に乏しいものの、耐酸化性や耐クリープ
特性に優れるため、小型の電子ビーム透過窓の材料とし
て有用と考えられる。
【００３６】また、第１乃至第３の実施例においてＴｉ
Ａｌ3 、ＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌ等のＴｉ−Ａｌ系
金属間化合物の膜を形成する面は、Ｔｉ箔の一方の面、
すなわちチャンバー内の雰囲気ガスに接する面のみ、あ
るいはチャンバー外部の大気に接する面のみとすること
もでき、両面に形成することもできる。これにより箔自
体の線膨脹係数の差に起因して生じる変形を低減するこ
とができる。
Ａｌ3 、ＴｉＡｌあるいはＴｉ3 Ａｌ等のＴｉ−Ａｌ系
金属間化合物の膜を形成する面は、Ｔｉ箔の一方の面、
すなわちチャンバー内の雰囲気ガスに接する面のみ、あ
るいはチャンバー外部の大気に接する面のみとすること
もでき、両面に形成することもできる。これにより箔自
体の線膨脹係数の差に起因して生じる変形を低減するこ
とができる。
【００３７】また、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物としてＴ
ｉＡｌ、Ｔｉ3 Ａｌのみならずこれらの合金を用いるこ
とも可能である。
ｉＡｌ、Ｔｉ3 Ａｌのみならずこれらの合金を用いるこ
とも可能である。
【００３８】さらに、ＴｉＡｌやＴｉ3 Ａｌの膜を形成
する方法として、前記実施例のように単にＴｉＡｌやＴ
ｉ3 Ａｌの蒸気が存在する窓製造室１２内にＴｉ箔を配
置するという方法だけでなく、加速機構を用いたイオン
プレーティング法や真空蒸着法などの他のＰＶＤ（物理
的蒸着法）やＣＶＤ法（化学的蒸着法）を用い、Ｔｉ箔
に直接ＴｉＡｌやＴｉ3 Ａｌの膜を形成することも可能
である。
する方法として、前記実施例のように単にＴｉＡｌやＴ
ｉ3 Ａｌの蒸気が存在する窓製造室１２内にＴｉ箔を配
置するという方法だけでなく、加速機構を用いたイオン
プレーティング法や真空蒸着法などの他のＰＶＤ（物理
的蒸着法）やＣＶＤ法（化学的蒸着法）を用い、Ｔｉ箔
に直接ＴｉＡｌやＴｉ3 Ａｌの膜を形成することも可能
である。
【００３９】（第４実施例）次に本発明の第４実施例を
図８および図９により説明する。
図８および図９により説明する。
【００４０】図８は電子ビーム透過膜を製造する工程に
おいてＡｌをコーティングする状態を示す概略図であ
る。また図９はＡｌのコーティング後に行う拡散熱処理
の状態を示す概略図である。
おいてＡｌをコーティングする状態を示す概略図であ
る。また図９はＡｌのコーティング後に行う拡散熱処理
の状態を示す概略図である。
【００４１】まず、図２（ａ）および図２（ｂ）に示し
た工程と同様に、電子ビーム透過膜７ａを形成するＴｉ
箔を窓枠部材７ｂで固定する。この窓枠部材７ｂは外側
窓枠１０と内側窓枠１１とから構成される。電子ビーム
透過膜７ａが十分な特性を発揮できるようにするために
は、Ｔｉ箔にたるみがないように窓枠部材１０、１１で
Ｔｉ箔を保持する必要がある。
た工程と同様に、電子ビーム透過膜７ａを形成するＴｉ
箔を窓枠部材７ｂで固定する。この窓枠部材７ｂは外側
窓枠１０と内側窓枠１１とから構成される。電子ビーム
透過膜７ａが十分な特性を発揮できるようにするために
は、Ｔｉ箔にたるみがないように窓枠部材１０、１１で
Ｔｉ箔を保持する必要がある。
【００４２】またコーティング工程の後工程である拡散
熱処理工程においては、Ｔｉ箔７や窓枠部材７ｂは加熱
冷却履歴を受ける。この場合、電子ビーム透過膜７ａの
材料であるＴｉ箔と窓枠部材７ｂとが大幅に異なる熱膨
張係数を有する場合、不都合が生じる恐れがある。すな
わち、窓枠部材７ｂの熱膨張係数が電子ビーム透過膜７
ａの熱膨張係数より小さい場合は、熱処理後に電子ビー
ム透過膜７ａにたるみが生じる。一方、窓枠部材７ｂの
熱膨張係数が電子ビーム透過膜７ａの熱膨張係数より大
きい場合は、熱処理後に電子ビーム透過膜７ａに引張応
力が残留応力として発生し、電子ビーム透過膜７ａに亀
裂が生じて破損する場合がある。
熱処理工程においては、Ｔｉ箔７や窓枠部材７ｂは加熱
冷却履歴を受ける。この場合、電子ビーム透過膜７ａの
材料であるＴｉ箔と窓枠部材７ｂとが大幅に異なる熱膨
張係数を有する場合、不都合が生じる恐れがある。すな
わち、窓枠部材７ｂの熱膨張係数が電子ビーム透過膜７
ａの熱膨張係数より小さい場合は、熱処理後に電子ビー
ム透過膜７ａにたるみが生じる。一方、窓枠部材７ｂの
熱膨張係数が電子ビーム透過膜７ａの熱膨張係数より大
きい場合は、熱処理後に電子ビーム透過膜７ａに引張応
力が残留応力として発生し、電子ビーム透過膜７ａに亀
裂が生じて破損する場合がある。
【００４３】このため本実施例においては、電子ビーム
透過膜７ａのＴｉ箔の熱膨張係数と略等しい熱膨張係数
を有するＴｉー６Ａｌー４Ｖ合金によって、窓枠部材７
ｂを製作し、電子ビーム透過膜７ａと窓枠部材７ｂとの
熱膨張係数のマッチングを図っている。
透過膜７ａのＴｉ箔の熱膨張係数と略等しい熱膨張係数
を有するＴｉー６Ａｌー４Ｖ合金によって、窓枠部材７
ｂを製作し、電子ビーム透過膜７ａと窓枠部材７ｂとの
熱膨張係数のマッチングを図っている。
【００４４】次に図８に示すように、電子ビーム透過膜
７ａと窓枠部材７ｂとの熱膨張係数のマッチングを図っ
た状態で、窓枠部材７ｂに固定保持したＴｉ箔をＡｌコ
ーティング用窓製造室１２内へ搬送する。次に窓製造室
１２内を真空ポンプ２を用いて真空にした後、Ａｌを入
れたるつぼ１３を電子銃１４により加熱し、Ａｌを蒸発
させる。金属蒸気１５となったＴｉはＴｉ箔の表面に蒸
着する。
７ａと窓枠部材７ｂとの熱膨張係数のマッチングを図っ
た状態で、窓枠部材７ｂに固定保持したＴｉ箔をＡｌコ
ーティング用窓製造室１２内へ搬送する。次に窓製造室
１２内を真空ポンプ２を用いて真空にした後、Ａｌを入
れたるつぼ１３を電子銃１４により加熱し、Ａｌを蒸発
させる。金属蒸気１５となったＴｉはＴｉ箔の表面に蒸
着する。
【００４５】その後図９に示すように、５００〜８００
℃の温度で拡散熱処理を実施する。これによりＴｉ箔の
中へＡｌが拡散し、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物が形成さ
れる。形成されたＴｉ−Ａｌ系金属間化合物は拡散熱処
理温度が高くなるにつれ、ＴｉＡｌ3 による単独の層
が、ＴｉＡｌ3 ＋ＴｉＡｌの２層やＴｉＡｌ3 ＋ＴｉＡ
ｌ＋Ｔｉ3 Ａｌの３層になる。このことはＸ線回折によ
る解析により確認されている。
℃の温度で拡散熱処理を実施する。これによりＴｉ箔の
中へＡｌが拡散し、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物が形成さ
れる。形成されたＴｉ−Ａｌ系金属間化合物は拡散熱処
理温度が高くなるにつれ、ＴｉＡｌ3 による単独の層
が、ＴｉＡｌ3 ＋ＴｉＡｌの２層やＴｉＡｌ3 ＋ＴｉＡ
ｌ＋Ｔｉ3 Ａｌの３層になる。このことはＸ線回折によ
る解析により確認されている。
【００４６】なお、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物のコーテ
ィングにおいて最も耐酸化性に優れているのはＴｉＡｌ
3 であるが、上記のいずれの場合も最も外側の表面には
ＴｉＡｌ3 が形成されるため耐酸化性については特に問
題はない。
ィングにおいて最も耐酸化性に優れているのはＴｉＡｌ
3 であるが、上記のいずれの場合も最も外側の表面には
ＴｉＡｌ3 が形成されるため耐酸化性については特に問
題はない。
【００４７】ところで、Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物はい
ずれも低い延性を有する。このため、高温における拡散
熱処理により厚膜コーティングがなされた場合には、被
膜強度が低下する恐れがある。そこで本実施例において
は延性が低くなるのを避けるため比較的低い温度で拡散
熱処理を行ってＴｉ箔の表面にＴｉＡｌ3 層を形成して
いる。このように比較的低い温度で拡散熱処理した電子
ビーム透過膜の特性について、従来のＴｉのみから形成
された電子ビーム透過膜の特性と比較する実験を行っ
た。まず透過率特性の実験について図１０および図１１
により説明する。
ずれも低い延性を有する。このため、高温における拡散
熱処理により厚膜コーティングがなされた場合には、被
膜強度が低下する恐れがある。そこで本実施例において
は延性が低くなるのを避けるため比較的低い温度で拡散
熱処理を行ってＴｉ箔の表面にＴｉＡｌ3 層を形成して
いる。このように比較的低い温度で拡散熱処理した電子
ビーム透過膜の特性について、従来のＴｉのみから形成
された電子ビーム透過膜の特性と比較する実験を行っ
た。まず透過率特性の実験について図１０および図１１
により説明する。
【００４８】この特性評価実験は、２０μｍの厚さのＴ
ｉ箔から構成される従来の電子ビーム透過膜７ａである
第１の試験試料と、２０μｍの厚さのＴｉ箔の表面に２
μｍのＴｉＡｌ3 層を形成して構成される電子ビーム透
過膜７ａである第２の試験試料との２つの電子ビーム透
過膜７ａについて行った。
ｉ箔から構成される従来の電子ビーム透過膜７ａである
第１の試験試料と、２０μｍの厚さのＴｉ箔の表面に２
μｍのＴｉＡｌ3 層を形成して構成される電子ビーム透
過膜７ａである第２の試験試料との２つの電子ビーム透
過膜７ａについて行った。
【００４９】図１０に、特性評価実験に用いた実験装置
の概略図を示す。図１０において、１５０ｋＶ、２ｍＡ
の電圧電流で駆動された電子銃１４から電子ビーム２０
が出射される。電子ビーム２０は上記第１および第２の
試験試料２１に照射されて、一部の電子ビームが試験試
料２１に吸収され、残りの電子ビームは試験試料２１を
透過してモリブデン（Ｍｏ）からなるターゲット２２に
吸収される。試験試料２１に吸収される電子ビームの強
度を示す電流をＩ０、ターゲット２２に吸収される電子
ビームの強度を示す電流をＩ１とし、電子銃の加速電圧
を種々に変えてＩ０およびＩ１を測定する。図１１に加
速電圧に対する透過率Ｉ１／（Ｉ０＋Ｉ１）の各々の試
験試料についての実験結果を示す。図１１から明らかな
ように、電子ビームの透過率は加速電圧が高いほど大き
くなり、また第１の試験試料と第２の試験試料とで透過
率の有意差がないことがわかった。
の概略図を示す。図１０において、１５０ｋＶ、２ｍＡ
の電圧電流で駆動された電子銃１４から電子ビーム２０
が出射される。電子ビーム２０は上記第１および第２の
試験試料２１に照射されて、一部の電子ビームが試験試
料２１に吸収され、残りの電子ビームは試験試料２１を
透過してモリブデン（Ｍｏ）からなるターゲット２２に
吸収される。試験試料２１に吸収される電子ビームの強
度を示す電流をＩ０、ターゲット２２に吸収される電子
ビームの強度を示す電流をＩ１とし、電子銃の加速電圧
を種々に変えてＩ０およびＩ１を測定する。図１１に加
速電圧に対する透過率Ｉ１／（Ｉ０＋Ｉ１）の各々の試
験試料についての実験結果を示す。図１１から明らかな
ように、電子ビームの透過率は加速電圧が高いほど大き
くなり、また第１の試験試料と第２の試験試料とで透過
率の有意差がないことがわかった。
【００５０】次に図１２により耐酸化性についての実験
について述べる。実験は、Ｔｉ箔のみから構成される電
子ビーム透過膜と、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形成さ
せて構成される電子ビーム透過膜７ａとを比較して行っ
た。これらの試験試料を８００℃の大気中に加熱し、重
量変化を測定した。実験結果を図１２に示す。図１２か
ら明らかなように、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形成さ
せて構成される電子ビーム透過膜７ａはＴｉ箔のみから
構成される電子ビーム透過膜に比べて１０倍以上の耐酸
化性があることがわかった。
について述べる。実験は、Ｔｉ箔のみから構成される電
子ビーム透過膜と、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形成さ
せて構成される電子ビーム透過膜７ａとを比較して行っ
た。これらの試験試料を８００℃の大気中に加熱し、重
量変化を測定した。実験結果を図１２に示す。図１２か
ら明らかなように、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形成さ
せて構成される電子ビーム透過膜７ａはＴｉ箔のみから
構成される電子ビーム透過膜に比べて１０倍以上の耐酸
化性があることがわかった。
【００５１】また、上記の２つの電子ビーム透過膜を用
いた窓を備える電子ビーム照射装置について、電子ビー
ム透過膜の酸化寿命特性の比較実験を行った。実験は、
１００ＫＷの加速電圧で電子ビームを連続照射して寿命
を比較した。この結果、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形
成させて構成される電子ビーム透過膜の方がＴｉ箔のみ
から構成される電子ビーム透過膜よりも５〜１０倍程度
に寿命が長くなることが明らかになった。
いた窓を備える電子ビーム照射装置について、電子ビー
ム透過膜の酸化寿命特性の比較実験を行った。実験は、
１００ＫＷの加速電圧で電子ビームを連続照射して寿命
を比較した。この結果、Ｔｉ箔の両面にＴｉＡｌ3 を形
成させて構成される電子ビーム透過膜の方がＴｉ箔のみ
から構成される電子ビーム透過膜よりも５〜１０倍程度
に寿命が長くなることが明らかになった。
【００５２】また、上記の２つの電子ビーム透過膜を用
いた窓を備える電子ビーム照射装置について、窓枠部材
に作用する圧力を２．５気圧にして、窓枠部材の垂れ込
みの変化量を比較することにより、耐クリープ特性につ
いて比較した。この測定結果によれば、Ｔｉ箔の両面に
ＴｉＡｌ3 を形成させて構成される電子ビーム透過膜の
方がＴｉ箔のみから構成される電子ビーム透過膜よりも
１．５〜２．０倍程度に耐クリープ特性が優れているこ
とが明らかになった。
いた窓を備える電子ビーム照射装置について、窓枠部材
に作用する圧力を２．５気圧にして、窓枠部材の垂れ込
みの変化量を比較することにより、耐クリープ特性につ
いて比較した。この測定結果によれば、Ｔｉ箔の両面に
ＴｉＡｌ3 を形成させて構成される電子ビーム透過膜の
方がＴｉ箔のみから構成される電子ビーム透過膜よりも
１．５〜２．０倍程度に耐クリープ特性が優れているこ
とが明らかになった。
【００５３】このように本実施例によれば、電子ビーム
の透過性を損なうことなく、窓の耐酸化性すなわち耐食
性、および耐クリープ性を改善することができ、電子ビ
ーム透過膜の寿命を大幅に延ばすことができる。
の透過性を損なうことなく、窓の耐酸化性すなわち耐食
性、および耐クリープ性を改善することができ、電子ビ
ーム透過膜の寿命を大幅に延ばすことができる。
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電子ビームの透過性を損うことなく耐食性、耐クリープ
特性を改善し、長時間の使用に際してもこれらの特性が
変化しないという優れた効果を有する窓を備えた電子ビ
ーム照射装置を提供することができる。
電子ビームの透過性を損うことなく耐食性、耐クリープ
特性を改善し、長時間の使用に際してもこれらの特性が
変化しないという優れた効果を有する窓を備えた電子ビ
ーム照射装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１の実施例に係る電子ビーム照射装
置の窓の製造手順を示すフロー図。
置の窓の製造手順を示すフロー図。
【図２】（ａ）は図１の製造手順によって製造される窓
を表わす平面図、（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ断面図。
を表わす平面図、（ｂ）は図２（ａ）のＢ−Ｂ断面図。
【図３】図１の製造をおこなう窓製造室の内部を表わす
概略全体断面図
概略全体断面図
【図４】本発明の第２の実施例に係る電子ビーム照射装
置の窓を製造する製造手順を示すフロー図。
置の窓を製造する製造手順を示すフロー図。
【図５】本発明の実施例により製造された電子ビーム照
射装置の窓の特性を従来例の特性と比較して表わす図。
射装置の窓の特性を従来例の特性と比較して表わす図。
【図６】第２の実施例に係る電子ビーム照射装置の窓を
製造する製造手順を示す他のフロー図。
製造する製造手順を示す他のフロー図。
【図７】本発明の第３の実施例に係る電子ビーム照射装
置の窓を製造する製造手順を示すフロー図。
置の窓を製造する製造手順を示すフロー図。
【図８】本発明の第４の実施例に係る電子ビーム照射装
置の窓を製造する窓製造室の内部を表わす概略全体断面
図
置の窓を製造する窓製造室の内部を表わす概略全体断面
図
【図９】本発明の第４の実施例に係る電子ビーム照射装
置の窓の製造における拡散熱処理をおこなう窓製造室の
内部を表わす概略全体断面図
置の窓の製造における拡散熱処理をおこなう窓製造室の
内部を表わす概略全体断面図
【図１０】本発明により製造された電子ビーム照射装置
の窓の透過特性を測定する実験装置を示す図。
の窓の透過特性を測定する実験装置を示す図。
【図１１】本発明により製造された電子ビーム照射装置
の窓の透過特性を従来例の透過特性と比較して表わす
図。
の窓の透過特性を従来例の透過特性と比較して表わす
図。
【図１２】本発明により製造された電子ビーム照射装置
の窓の耐酸化特性を従来例の耐酸化特性と比較して表わ
す図。
の窓の耐酸化特性を従来例の耐酸化特性と比較して表わ
す図。
【図１３】一般的な電子ビーム照射装置を示す概略全体
縦断面図。
縦断面図。
【図１４】図１３の電子ビーム照射装置の窓の材料につ
いておこなった調査結果を示す図。
いておこなった調査結果を示す図。
【図１５】電子ビームの一応用例である排ガスの誘導化
学反応によるＮＯｘ、ＳＯｘ固定回収システムの概略
図。
学反応によるＮＯｘ、ＳＯｘ固定回収システムの概略
図。
１ チャンバー
２ 真空ポンプ
３ フィラメント
４ カソード
５ アノード
６ 偏向コイル
９ 電子ビーム
７ 窓
７ａ 電子ビーム透過膜
７ｂ 窓枠部材
８ ワーク
Claims (5)
- 【請求項１】内部に電子ビーム発生装置を有するチャン
バーと、チャンバー内の電子ビームを外部に引き出す窓
とを備えた電子ビーム照射装置において、前記窓は電子
ビーム透過膜を有し、この電子ビーム透過膜はＴｉ−Ａ
ｌ系金属間化合物を含むことを特徴とする電子ビーム照
射装置。 - 【請求項２】前記窓は前記電子ビーム透過膜を囲う窓枠
部材を有し、前記電子ビーム透過膜と前記窓枠部材とは
一体でチャンバーに着脱可能であることを特徴とする請
求項１に記載の電子ビーム照射装置。 - 【請求項３】Ｔｉ−Ａｌ系金属間化合物を含むことを特
徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置に用いる
電子ビーム透過膜。 - 【請求項４】前記電子ビーム透過膜の熱膨張係数と略等
しい熱膨張係数を有する材質からなることを特徴とする
請求項２に記載の電子ビーム照射装置に用いる窓枠部
材。 - 【請求項５】請求項３に記載の電子ビーム透過膜の製造
方法において、ＴｉあるいはＴｉを含む合金からなる箔
にＡｌをコーティングする工程と、コーティングされた
箔を拡散熱処理する工程とを備えることを特徴とする電
子ビーム透過膜の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3202023A JPH052100A (ja) | 1990-10-12 | 1991-08-12 | 電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法 |
| EP91309340A EP0480732B1 (en) | 1990-10-12 | 1991-10-10 | Electron beam permeable window |
| DE69123689T DE69123689T2 (de) | 1990-10-12 | 1991-10-10 | Elektronenstrahl-durchlässiges Fenster |
| US07/774,970 US5210426A (en) | 1990-10-12 | 1991-10-15 | Electron beam irradiation device and method of manufacturing an electron beam permeable window |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-273774 | 1990-10-12 | ||
| JP27377490 | 1990-10-12 | ||
| JP3202023A JPH052100A (ja) | 1990-10-12 | 1991-08-12 | 電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH052100A true JPH052100A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=26513141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3202023A Pending JPH052100A (ja) | 1990-10-12 | 1991-08-12 | 電子ビーム照射装置および電子ビーム透過膜の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5210426A (ja) |
| EP (1) | EP0480732B1 (ja) |
| JP (1) | JPH052100A (ja) |
| DE (1) | DE69123689T2 (ja) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
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| DE10050810A1 (de) * | 2000-10-13 | 2002-04-18 | Philips Corp Intellectual Pty | Verfahren zur Herstellung eines elektronenstrahltransparenten Fensters sowie elektronenstrahltransparentes Fenster |
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| US20020135290A1 (en) | 2001-03-21 | 2002-09-26 | Advanced Electron Beams, Inc. | Electron beam emitter |
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| WO2017053053A1 (en) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Catalyst-free removal of nox and other contaminants from combustion exhausts using intense pulsed electron beams |
| US10573163B1 (en) | 2019-04-25 | 2020-02-25 | Capital One Services, Llc | Real-time ATM alert if user forgets card |
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-
1991
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|---|---|---|---|---|
| JP2016176943A (ja) * | 2010-12-02 | 2016-10-06 | テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニムＴｅｔｒａ Ｌａｖａｌ Ｈｏｌｄｉｎｇｓ ＆ Ｆｉｎａｎｃｅ Ｓ．Ａ． | 電子射出窓箔、電子ビーム発生器、電子射出窓箔を提供するための方法及び高性能電子ビームデバイスを提供するための方法 |
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