JPH052119B2 - - Google Patents
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- JPH052119B2 JPH052119B2 JP59273693A JP27369384A JPH052119B2 JP H052119 B2 JPH052119 B2 JP H052119B2 JP 59273693 A JP59273693 A JP 59273693A JP 27369384 A JP27369384 A JP 27369384A JP H052119 B2 JPH052119 B2 JP H052119B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- zone plate
- optical axis
- ray
- control signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、光軸とスリツトとの軸合せ機構をも
つフレネルゾーンプレート（以下ゾーンプレート
と記す）を、分散素子として用いたＸ線分光器に
関するものである。
つフレネルゾーンプレート（以下ゾーンプレート
と記す）を、分散素子として用いたＸ線分光器に
関するものである。
従来のゾーンプレートを用いたＸ線分光器とし
ては、第５図に示すようにＸ線発生光源から出射
されたＸ線が、反射型回折格子１によつて準単色
化されたのち、ゾーンプレート２により光軸上に
集光されるリニア分光器があつた（D.Rudolph
and G.Schmahl，“HIGH POWER ZONE
PLATE FOR Ａ SOFT Ｘ−RAY
MICROSCOPE”Annals of the New York
Academy of Science，342（1980）94）。上記分
光器にあつては、ゾーンプレートによつて集光さ
れる光軸上の位置（主焦点）とスリツトとの位置
合わせを行うのに、例えばスリツトを透過したＸ
線の強度をホトマルで測定し、その強度が最大に
なるように光軸に対して垂直方向にスリツトを動
かしていた。しかしシンクロトロン放射光のよう
な波長が連続した光源を用いる場合は、ゾーンプ
レート特有の色収差のため、焦点位置における集
光スポツトがぼけたものになり、そのため、従来
の方法のように単に強度を最大にするような調整
を行うのでは、ゾーンプレートの光軸とスリツト
との位置合わせが困難で、かつ不正確になるとい
う欠点があつた。
ては、第５図に示すようにＸ線発生光源から出射
されたＸ線が、反射型回折格子１によつて準単色
化されたのち、ゾーンプレート２により光軸上に
集光されるリニア分光器があつた（D.Rudolph
and G.Schmahl，“HIGH POWER ZONE
PLATE FOR Ａ SOFT Ｘ−RAY
MICROSCOPE”Annals of the New York
Academy of Science，342（1980）94）。上記分
光器にあつては、ゾーンプレートによつて集光さ
れる光軸上の位置（主焦点）とスリツトとの位置
合わせを行うのに、例えばスリツトを透過したＸ
線の強度をホトマルで測定し、その強度が最大に
なるように光軸に対して垂直方向にスリツトを動
かしていた。しかしシンクロトロン放射光のよう
な波長が連続した光源を用いる場合は、ゾーンプ
レート特有の色収差のため、焦点位置における集
光スポツトがぼけたものになり、そのため、従来
の方法のように単に強度を最大にするような調整
を行うのでは、ゾーンプレートの光軸とスリツト
との位置合わせが困難で、かつ不正確になるとい
う欠点があつた。
本発明は透過型回折格子と検出器とからなる位
置補正機構を有し、これによつて簡単かつ正確に
位置合わせができるゾーンプレートを、分散素子
として用いたＸ線分光器を得ることを目的とす
る。
置補正機構を有し、これによつて簡単かつ正確に
位置合わせができるゾーンプレートを、分散素子
として用いたＸ線分光器を得ることを目的とす
る。
ゾーンプレートは第６図に示すように光が透過
する領域と光が透過しない領域とが交互に繰返さ
れており、石英レンズが使えないＸ線、軟Ｘ線領
域において集光作用をもつ光学部品であり、第６
図ａに示す一次元ゾーンプレートと第６図ｂに示
す二次元ゾーンプレートとが知られている。本発
明によるＸ線分光器は、上記ゾーンプレートを利
用し、入射Ｘ線ビームの光軸上にそつて、所定の
分光特性を有するゾーンプレートと、該ゾーンプ
レートにより所定の波長のＸ線が集光される位置
に配置された第１スリツトと、該第１スリツトか
ら所定の間隔をおいて配置された第２スリツト
と、該第２スリツトと互いに平行な隙間を保つよ
うに配置された透過型回折格子と、上記各装置を
透過したＸ線の光軸と直交する面内での強度分布
を検出する検出装置と、光軸と直交する面内にお
いて上記ゾーンプレートの設定位置を所定の変位
量だけ変位させる制御信号を発生する制御信号発
生回路と、この制御信号によつて光軸と直交する
面内における上記ゾーンプレートの配置を変位さ
せる移動機構とを備えたことにより、光軸とスリ
ツトとの軸合わせ機構をもつようにしたものであ
る。
する領域と光が透過しない領域とが交互に繰返さ
れており、石英レンズが使えないＸ線、軟Ｘ線領
域において集光作用をもつ光学部品であり、第６
図ａに示す一次元ゾーンプレートと第６図ｂに示
す二次元ゾーンプレートとが知られている。本発
明によるＸ線分光器は、上記ゾーンプレートを利
用し、入射Ｘ線ビームの光軸上にそつて、所定の
分光特性を有するゾーンプレートと、該ゾーンプ
レートにより所定の波長のＸ線が集光される位置
に配置された第１スリツトと、該第１スリツトか
ら所定の間隔をおいて配置された第２スリツト
と、該第２スリツトと互いに平行な隙間を保つよ
うに配置された透過型回折格子と、上記各装置を
透過したＸ線の光軸と直交する面内での強度分布
を検出する検出装置と、光軸と直交する面内にお
いて上記ゾーンプレートの設定位置を所定の変位
量だけ変位させる制御信号を発生する制御信号発
生回路と、この制御信号によつて光軸と直交する
面内における上記ゾーンプレートの配置を変位さ
せる移動機構とを備えたことにより、光軸とスリ
ツトとの軸合わせ機構をもつようにしたものであ
る。
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明す
る。つぎに示す実施例においては一次元ゾーンプ
レートを用いた場合について説明するが、これを
二次元ゾーンプレートに置きかえることは基本的
動作原理を変更することなく可能である。第１図
は本発明によるＸ線分光器の一実施例を示す構成
の説明図、第２図は上記実施例においてスリツト
と光軸とが一致しない場合のＸ線検出装置面上で
観測されるパタン形状の説明図、第３図はスリツ
トが光軸上にない場合にパタンの非対称性が発生
する原因の説明図、第４図は本発明による他の実
施例を示す構成の説明図である。第１図に示すＸ
線分光器は、光源の光軸上に沿つて、ゾーンプレ
ート４、第１スリツト５、第２スリツト６、透過
型回折格子７、検出装置としてＸ線フイルム８を
配置しており、Ｘ線ビームL1はゾーンプレート
４に入射し所定の波長のＸ線が第１スリツト５に
集光される。第１スリツト５を出たＸ線L3のう
ち上記第１スリツトと直交する第２スリツト６を
通過したＸ線ビームL4は透過型回折格子７に入
射し、所定の回折角度θの方向に出射するビーム
L5となる。
る。つぎに示す実施例においては一次元ゾーンプ
レートを用いた場合について説明するが、これを
二次元ゾーンプレートに置きかえることは基本的
動作原理を変更することなく可能である。第１図
は本発明によるＸ線分光器の一実施例を示す構成
の説明図、第２図は上記実施例においてスリツト
と光軸とが一致しない場合のＸ線検出装置面上で
観測されるパタン形状の説明図、第３図はスリツ
トが光軸上にない場合にパタンの非対称性が発生
する原因の説明図、第４図は本発明による他の実
施例を示す構成の説明図である。第１図に示すＸ
線分光器は、光源の光軸上に沿つて、ゾーンプレ
ート４、第１スリツト５、第２スリツト６、透過
型回折格子７、検出装置としてＸ線フイルム８を
配置しており、Ｘ線ビームL1はゾーンプレート
４に入射し所定の波長のＸ線が第１スリツト５に
集光される。第１スリツト５を出たＸ線L3のう
ち上記第１スリツトと直交する第２スリツト６を
通過したＸ線ビームL4は透過型回折格子７に入
射し、所定の回折角度θの方向に出射するビーム
L5となる。
上記ゾーンプレート４のそれぞれの領域の中心
からの距離roはro 2＝fnλ＋n2λ2／４、ｎ＝１、
２、……で与えられる。（ｆ：焦点距離、λ：波
長、ｎ：ゾーン数）。上記式からわかるように近
似的にｆ∝１／λの関係が成立する。上記式は光
軸上の異なる点には、異なる波長が連続的に集光
されることを意味している。またゾーンプレート
の集光特性にはつぎに述べる特徴がある。すなわ
ち、光源から発したＸ線のうち、ある波長λ0のＸ
線がゾーンプレート４の領域から距離D1だけ離
れた位置に設けた第１スリツト５の位置に集光す
るとすると、λ0／（２＋１）、ｍ＝１、２、……
の波長のＸ線も第１スリツト５の位置に集光す
る。したがつて光源がシンクロトロン放射光のよ
うに連続波長の光を発する光源の場合は、第１ス
リツトの位置に波長λ0、λ0／３、……λ0／（2m
＋１）のＸ線も集光されて第１スリツト５を通過
し拡散ビームL3になる。ビームL3には、その他
にゾーンプレート４の非回折光（零次光）成分も
含まれる。この非回折光成分は入射ビームL1に
含まれるすべての波長成分を含み、第１スリツト
５の幅とほぼ同じ幅の平行ビームとして第２スリ
ツト６に入射する。上記第１スリツト５と第２ス
リツト６とは互いに直交して配置されているた
め、上記ビームL3のうち第２スリツト６を通過
した帯状のビームL4が透過型回折格子７に入射
する。そして透過型回折格子７によつて所定の回
折角度の方向に出射され、距離D4の位置に配置
したＸ線フイルム８を照射して第１図に示すよう
な像が形成される。上記像におけるλ0、λ0／３は
それぞれビームL4の波長成分λ0、λ0／３に対応
している。ゾーンプレート４における非回折光は
すべての波長成分を含むため、Ｘ線フイルム８上
にはＢに示すような像を形成し、さらに透過型回
折格子７による非回折光成分はＸ線フイルム８上
にＡのような像を形成する。このＡからビーム
L4の波長成分による像までの距離によつて、Ｘ
線発生光源から出射されたスペクトルがわかる。
第１図は光軸にスリツトの位置が合つた場合であ
る。なお第１図には第１スリツト５からのビーム
L3にゾーンプレート４のすべての次数の波長成
分が含まれる場合を示しているが、ゾーンプレー
ト４の前にフイルタや多層膜ミラーを設置するこ
とにより、特定の次数の波長成分のみがゾーンプ
レート４により集光され第１スリツト５から出射
するようにすることができる。
からの距離roはro 2＝fnλ＋n2λ2／４、ｎ＝１、
２、……で与えられる。（ｆ：焦点距離、λ：波
長、ｎ：ゾーン数）。上記式からわかるように近
似的にｆ∝１／λの関係が成立する。上記式は光
軸上の異なる点には、異なる波長が連続的に集光
されることを意味している。またゾーンプレート
の集光特性にはつぎに述べる特徴がある。すなわ
ち、光源から発したＸ線のうち、ある波長λ0のＸ
線がゾーンプレート４の領域から距離D1だけ離
れた位置に設けた第１スリツト５の位置に集光す
るとすると、λ0／（２＋１）、ｍ＝１、２、……
の波長のＸ線も第１スリツト５の位置に集光す
る。したがつて光源がシンクロトロン放射光のよ
うに連続波長の光を発する光源の場合は、第１ス
リツトの位置に波長λ0、λ0／３、……λ0／（2m
＋１）のＸ線も集光されて第１スリツト５を通過
し拡散ビームL3になる。ビームL3には、その他
にゾーンプレート４の非回折光（零次光）成分も
含まれる。この非回折光成分は入射ビームL1に
含まれるすべての波長成分を含み、第１スリツト
５の幅とほぼ同じ幅の平行ビームとして第２スリ
ツト６に入射する。上記第１スリツト５と第２ス
リツト６とは互いに直交して配置されているた
め、上記ビームL3のうち第２スリツト６を通過
した帯状のビームL4が透過型回折格子７に入射
する。そして透過型回折格子７によつて所定の回
折角度の方向に出射され、距離D4の位置に配置
したＸ線フイルム８を照射して第１図に示すよう
な像が形成される。上記像におけるλ0、λ0／３は
それぞれビームL4の波長成分λ0、λ0／３に対応
している。ゾーンプレート４における非回折光は
すべての波長成分を含むため、Ｘ線フイルム８上
にはＢに示すような像を形成し、さらに透過型回
折格子７による非回折光成分はＸ線フイルム８上
にＡのような像を形成する。このＡからビーム
L4の波長成分による像までの距離によつて、Ｘ
線発生光源から出射されたスペクトルがわかる。
第１図は光軸にスリツトの位置が合つた場合であ
る。なお第１図には第１スリツト５からのビーム
L3にゾーンプレート４のすべての次数の波長成
分が含まれる場合を示しているが、ゾーンプレー
ト４の前にフイルタや多層膜ミラーを設置するこ
とにより、特定の次数の波長成分のみがゾーンプ
レート４により集光され第１スリツト５から出射
するようにすることができる。
一方、ゾーンプレート４の光軸からスリツトが
ずれた場合には、Ｘ線フイルム上に得られるパタ
ンは第２図に示すようになる。この様子を第３図
を用いて定性的に説明する。スリツト５が光軸Ｃ
−C′とわずかにずれていたとする。透過型回折格
子７上においてこのスリツトの中心と等距離の点
からスリツト５の中心を通る直線をひき、その直
線が光軸Ｃ−C′と交わる位置をf1、f2とする。ゾ
ーンプレート４の集光特性からf1、f2の位置には
それぞれ対応する波長λ1、λ2が集光されている。
しかもλ1＞λ2の関係があるので、透過型回折格子
７によつて分散されたビームは、Ｘ線フイルム８
上の右半分（第３図では下側）には長波長が、左
半分（第３図では上側）には短波長が到達する。
またその波長が中心線Ｂに近ずく程右半面では長
く左半面では短くなることが理解される。もし、
スリツト５の軸が逆の方向にずれている場合は、
第２図の中心線Ｂに対して折返したような像にな
る。第２図からわかるように、軸ずれがある場合
は中心線Ｂから等距離の位置で測定した像の位置
は異なる。したがつて、この左右の像の位置が等
しくなる方向にゾーンプレート４を動かせばよ
い。スリツトが光軸に一致したときには第１図の
ように左右対称で中心線Ｂと直交する直線にな
る。
ずれた場合には、Ｘ線フイルム上に得られるパタ
ンは第２図に示すようになる。この様子を第３図
を用いて定性的に説明する。スリツト５が光軸Ｃ
−C′とわずかにずれていたとする。透過型回折格
子７上においてこのスリツトの中心と等距離の点
からスリツト５の中心を通る直線をひき、その直
線が光軸Ｃ−C′と交わる位置をf1、f2とする。ゾ
ーンプレート４の集光特性からf1、f2の位置には
それぞれ対応する波長λ1、λ2が集光されている。
しかもλ1＞λ2の関係があるので、透過型回折格子
７によつて分散されたビームは、Ｘ線フイルム８
上の右半分（第３図では下側）には長波長が、左
半分（第３図では上側）には短波長が到達する。
またその波長が中心線Ｂに近ずく程右半面では長
く左半面では短くなることが理解される。もし、
スリツト５の軸が逆の方向にずれている場合は、
第２図の中心線Ｂに対して折返したような像にな
る。第２図からわかるように、軸ずれがある場合
は中心線Ｂから等距離の位置で測定した像の位置
は異なる。したがつて、この左右の像の位置が等
しくなる方向にゾーンプレート４を動かせばよ
い。スリツトが光軸に一致したときには第１図の
ように左右対称で中心線Ｂと直交する直線にな
る。
第１図に示した実施例では、検出装置としてＸ
線フイルム８を用いたが、スリツトの軸合わせを
自動的に行うことも可能である。そのような実施
例を第４図に示す。すなわち第４図に示すように
複数の受光素子を受光面に並置したＸ線検出器１
０，１１を用いればよい。この場合は実時間で像
の位置を測定することが可能であるから、第２図
の中心線Ｂに対するスペクトルの非対称を検出器
１０，１１により検出し、これによつてゾーンプ
レート４を光軸上に戻すために垂直方向に移動さ
せる制御信号を制御信号発生回路１２により発生
させ、上記制御信号をゾーンプレート移動機構１
３に入力することによつて、絶えずゾーンプレー
トを光軸上に保持するような自動的軸合わせを実
現することができる。上記制御信号の発生方法と
しては種々考えられるが、例えば所定の次数の波
長に対して、中心線Ｂから等距離の位置でＸ線の
強度が最大になる位置を求める。いま、検出器ア
レイ１０では上から距離ｉの位置で、検出器アレ
イ１１では上から距離ｊの位置で最大になつたと
する。この場合制御信号としてｉ−ｊの値に比例
した電圧Vi-jを発生させ、Vi-jの大きさおよび符
号に応じてゾーンプレート４を光軸の方向に移動
させるようなフイードバツク信号を発生させれば
よい。
線フイルム８を用いたが、スリツトの軸合わせを
自動的に行うことも可能である。そのような実施
例を第４図に示す。すなわち第４図に示すように
複数の受光素子を受光面に並置したＸ線検出器１
０，１１を用いればよい。この場合は実時間で像
の位置を測定することが可能であるから、第２図
の中心線Ｂに対するスペクトルの非対称を検出器
１０，１１により検出し、これによつてゾーンプ
レート４を光軸上に戻すために垂直方向に移動さ
せる制御信号を制御信号発生回路１２により発生
させ、上記制御信号をゾーンプレート移動機構１
３に入力することによつて、絶えずゾーンプレー
トを光軸上に保持するような自動的軸合わせを実
現することができる。上記制御信号の発生方法と
しては種々考えられるが、例えば所定の次数の波
長に対して、中心線Ｂから等距離の位置でＸ線の
強度が最大になる位置を求める。いま、検出器ア
レイ１０では上から距離ｉの位置で、検出器アレ
イ１１では上から距離ｊの位置で最大になつたと
する。この場合制御信号としてｉ−ｊの値に比例
した電圧Vi-jを発生させ、Vi-jの大きさおよび符
号に応じてゾーンプレート４を光軸の方向に移動
させるようなフイードバツク信号を発生させれば
よい。
なお第４図にはゾーンプレート移動機構１３の
動きとして光軸に垂直方向の移動しか示していな
いが、もちろん光軸と直交する面内での回転、光
軸に対するあおりを補正する機能を付加すること
も可能である。
動きとして光軸に垂直方向の移動しか示していな
いが、もちろん光軸と直交する面内での回転、光
軸に対するあおりを補正する機能を付加すること
も可能である。
さらに上記方法によればスリツトと光軸とが一
致したときの像の位置から、上記スリツトの位置
に集光された波長が求められる。したがつて、つ
ぎに光軸方向にゾーンプレート４を動かすことに
よつて、今度は集光される波長を選択することが
できる。
致したときの像の位置から、上記スリツトの位置
に集光された波長が求められる。したがつて、つ
ぎに光軸方向にゾーンプレート４を動かすことに
よつて、今度は集光される波長を選択することが
できる。
上記のように本発明によるＸ線分光器は、入射
Ｘ線ビームの光軸上に沿つて、所定の分光特性を
有するゾーンプレートと、該ゾーンプレートによ
り所定の波長のＸ線が集光される位置に配置され
た第１スリツトと、該第１スリツトから所定の間
隔をおいて配置された第２スリツトと、該第２ス
リツトと互いに平行な隙間を保つように配置され
た透過型回折格子と、上記各装置を透過したＸ線
の光軸と直交する面内での強度分布を検出する検
出装置と、光軸と直交する面内において上記ゾー
ンプレートの設置位置を所定の変位量だけ変位さ
せる制御信号を発生する制御信号発生回路と、こ
の制御信号によつて、光軸と直交する面内におけ
る上記ゾーンプレートの配置を変位させる移動機
構とを備えたことにより、極めて簡単な装置構成
でゾーンプレートとスリツトとの軸合わせおよび
波長選択を容易に行うことができる。
Ｘ線ビームの光軸上に沿つて、所定の分光特性を
有するゾーンプレートと、該ゾーンプレートによ
り所定の波長のＸ線が集光される位置に配置され
た第１スリツトと、該第１スリツトから所定の間
隔をおいて配置された第２スリツトと、該第２ス
リツトと互いに平行な隙間を保つように配置され
た透過型回折格子と、上記各装置を透過したＸ線
の光軸と直交する面内での強度分布を検出する検
出装置と、光軸と直交する面内において上記ゾー
ンプレートの設置位置を所定の変位量だけ変位さ
せる制御信号を発生する制御信号発生回路と、こ
の制御信号によつて、光軸と直交する面内におけ
る上記ゾーンプレートの配置を変位させる移動機
構とを備えたことにより、極めて簡単な装置構成
でゾーンプレートとスリツトとの軸合わせおよび
波長選択を容易に行うことができる。
第１図は本発明によるＸ線分光器の一実施例を
示す構成の説明図、第２図は上記実施例において
スリツトと光軸とが一致しない場合のＸ線検出装
置面上で観測されるパタン形状の説明図、第３図
はスリツトが光軸上にない場合にパタンの非対称
性が発生する原因の説明図、第４図は本発明によ
る他の実施例を示す構成の説明図、第５図は従来
のＸ線分光器の構成を示す説明図、第６図はフレ
ネルゾーンプレートを示す正面図で、ａは一次元
フレネルゾーンプレート、ｂは二次元フレネルゾ
ーンプレートである。
示す構成の説明図、第２図は上記実施例において
スリツトと光軸とが一致しない場合のＸ線検出装
置面上で観測されるパタン形状の説明図、第３図
はスリツトが光軸上にない場合にパタンの非対称
性が発生する原因の説明図、第４図は本発明によ
る他の実施例を示す構成の説明図、第５図は従来
のＸ線分光器の構成を示す説明図、第６図はフレ
ネルゾーンプレートを示す正面図で、ａは一次元
フレネルゾーンプレート、ｂは二次元フレネルゾ
ーンプレートである。
Claims (1)
- １ 入射Ｘ線ビームの光軸上にそつて、所定の分
光特性を有するフレネルゾーンプレートと、該フ
レネルゾーンプレートにより所定の波長のＸ線が
集光される位置に配置された第１スリツトと、該
第１スリツトから所定の間隔をおいて配置された
第２スリツトと、該第２スリツトと互いに平行な
隙間を保つように配置された透過型回折格子と、
上記各装置を透過したＸ線の光軸と直交する面内
での強度分布を検出する検出装置と、光軸と直交
する面内において上記フレネルゾーンプレートの
設定位置を所定の変位量だけ変位させる制御信号
を発生する制御信号発生回路と、この制御信号に
よつて光軸と直交する面内における上記フレネル
ゾーンプレートの配置を変位させる移動機構とを
備えたＸ線分光器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59273693A JPS61153550A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | Ｘ線分光器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59273693A JPS61153550A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | Ｘ線分光器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153550A JPS61153550A (ja) | 1986-07-12 |
| JPH052119B2 true JPH052119B2 (ja) | 1993-01-11 |
Family
ID=17531235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59273693A Granted JPS61153550A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | Ｘ線分光器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153550A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010230481A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | 試料分析装置及び試料分析方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7191311B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2022-12-19 | 国立大学法人徳島大学 | 集光機能を有する分光素子を利用した分光装置 |
| CN110133709B (zh) * | 2019-06-06 | 2022-06-14 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 类δ响应软X射线能谱仪 |
| CN114295082B (zh) * | 2021-12-10 | 2024-01-26 | 散裂中子源科学中心 | 一种基于近场散斑的曲面波前与面形高精度检测方法 |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP59273693A patent/JPS61153550A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010230481A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | 試料分析装置及び試料分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61153550A (ja) | 1986-07-12 |
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