JPH0521824A - 光電変換素子 - Google Patents
光電変換素子Info
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- JPH0521824A JPH0521824A JP3198572A JP19857291A JPH0521824A JP H0521824 A JPH0521824 A JP H0521824A JP 3198572 A JP3198572 A JP 3198572A JP 19857291 A JP19857291 A JP 19857291A JP H0521824 A JPH0521824 A JP H0521824A
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- H10K30/50—Photovoltaic [PV] devices
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
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- C08G2261/141—Side-chains having aliphatic units
- C08G2261/1412—Saturated aliphatic units
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- H10K85/621—Aromatic anhydride or imide compounds, e.g. perylene tetra-carboxylic dianhydride or perylene tetracarboxylic di-imide
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
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- Electromagnetism (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光電変換素子の電気的短絡をなくし、フィル
ファクターが大きく、電極の酸化による素子の劣化が起
こらない光電変換効率の高い有機光電変換素子を提供す
る。 【構成】 2つの電極間に共役系重合体層と電子受容性
化合物層を介在させ、具体的には電極に溶解性共役系重
合体層を塗布法により作成した後、この層上に電子受容
性化合物層を形成し、さらにこの上に電極を積層するこ
とにより得られる。溶解性共役系重合体層としては、ポ
リアルキルチオフェン、ポリアルキルピロール、ポリア
ルキルアニリン等が用いられる。電子受容性化合物層と
しては、ペリレン系顔料等が用いられる。 【効果】 溶解性共役系重合体層は電解重合法のような
複雑な方法を用いることなく塗布法により容易に形成す
ることができ、フィルファクターが大きい有機光電変換
素子を作成することができる。
ファクターが大きく、電極の酸化による素子の劣化が起
こらない光電変換効率の高い有機光電変換素子を提供す
る。 【構成】 2つの電極間に共役系重合体層と電子受容性
化合物層を介在させ、具体的には電極に溶解性共役系重
合体層を塗布法により作成した後、この層上に電子受容
性化合物層を形成し、さらにこの上に電極を積層するこ
とにより得られる。溶解性共役系重合体層としては、ポ
リアルキルチオフェン、ポリアルキルピロール、ポリア
ルキルアニリン等が用いられる。電子受容性化合物層と
しては、ペリレン系顔料等が用いられる。 【効果】 溶解性共役系重合体層は電解重合法のような
複雑な方法を用いることなく塗布法により容易に形成す
ることができ、フィルファクターが大きい有機光電変換
素子を作成することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は共役系重合体と電子受容
性化合物を2つの電極間に形成させることによる新規な
光電変換素子に関するものである。このような光電変換
素子は、例えば、太陽電池、光センサー、電子写真感光
層等に利用することができる。
性化合物を2つの電極間に形成させることによる新規な
光電変換素子に関するものである。このような光電変換
素子は、例えば、太陽電池、光センサー、電子写真感光
層等に利用することができる。
【0002】
【従来の技術】従来、無機半導体を利用した光電変換素
子を作製する試みは多くなされ、一部実用化されてい
る。しかしながら無機半導体を用いた太陽電池の作製費
は高く、安価な光電変換素子を作製する方法が望まれて
いた。安価な光電変換素子を作製する試みとして、有機
半導体を用いる光電変換素子を作製する試みがなされて
いる。有機の光電変換素子としては現在のところ一般的
に次のように分類することができる。p型の有機半導体
と仕事関数の小さい金属を接合させることにより作製し
たショットキー型光電変換素子、n型の無機半導体とp
型の有機半導体を接合させることにより作製したヘテロ
接合型光電変換素子、p型の有機半導体と電子受容性有
機化合物からなるヘテロ接合型光電変換素子などであ
る。ショットキー型光電変換素子については数多くの論
文や総説(例えば、D.L.Morel,Appl.P
hys.Lett.,32,495(1978).南
信次 繊維と工業、繊維学会誌 458(1983)、
有機電子材料(応用物理学会編、斉藤、雀部、筒井共
著、オーム社)96ページ(1990年発行))に報告
されている。一般にショットキー接合を形成させるには
仕事関数の小さいアルミニウムや銀などの金属を使用し
なければならず、金属の酸化による素子の劣化などの欠
点を有する。また作製した光電変換素子のフイルファク
ターが小さく効率の良い太陽電池を作製するには現在の
ところ不向きである。
子を作製する試みは多くなされ、一部実用化されてい
る。しかしながら無機半導体を用いた太陽電池の作製費
は高く、安価な光電変換素子を作製する方法が望まれて
いた。安価な光電変換素子を作製する試みとして、有機
半導体を用いる光電変換素子を作製する試みがなされて
いる。有機の光電変換素子としては現在のところ一般的
に次のように分類することができる。p型の有機半導体
と仕事関数の小さい金属を接合させることにより作製し
たショットキー型光電変換素子、n型の無機半導体とp
型の有機半導体を接合させることにより作製したヘテロ
接合型光電変換素子、p型の有機半導体と電子受容性有
機化合物からなるヘテロ接合型光電変換素子などであ
る。ショットキー型光電変換素子については数多くの論
文や総説(例えば、D.L.Morel,Appl.P
hys.Lett.,32,495(1978).南
信次 繊維と工業、繊維学会誌 458(1983)、
有機電子材料(応用物理学会編、斉藤、雀部、筒井共
著、オーム社)96ページ(1990年発行))に報告
されている。一般にショットキー接合を形成させるには
仕事関数の小さいアルミニウムや銀などの金属を使用し
なければならず、金属の酸化による素子の劣化などの欠
点を有する。また作製した光電変換素子のフイルファク
ターが小さく効率の良い太陽電池を作製するには現在の
ところ不向きである。
【0003】n型の無機半導体とp型の有機半導体を接
合させることにより作製したヘテロ接合型光電変換素子
は、ショットキー型と比較するとフィルファクターの向
上は見られたが、十分な効率のよい太陽電池を作製する
ことはできていない。p型の有機半導体と電子受容性有
機化合物からなる光電変換素子については、C.W.T
ang,Appl.Phys.Lett.,48,18
3(1986)や特開昭62ー4871号公報、また斉
藤ら、日本化学会誌、No.9、962(1990)に
報告されている。この光電変換素子は模擬太陽光あるい
はそれに近い強度の光にて,シリコン太陽電池と同様な
大きなフィルファクターと約1%の光電変換効率を示
す。しかしこれらの素子は超薄膜のため電気的な短絡の
発生する確率が高く、また真空中で2つの有機化合物を
蒸着しなければならず,光電変換素子を作製するのが複
雑であった。
合させることにより作製したヘテロ接合型光電変換素子
は、ショットキー型と比較するとフィルファクターの向
上は見られたが、十分な効率のよい太陽電池を作製する
ことはできていない。p型の有機半導体と電子受容性有
機化合物からなる光電変換素子については、C.W.T
ang,Appl.Phys.Lett.,48,18
3(1986)や特開昭62ー4871号公報、また斉
藤ら、日本化学会誌、No.9、962(1990)に
報告されている。この光電変換素子は模擬太陽光あるい
はそれに近い強度の光にて,シリコン太陽電池と同様な
大きなフィルファクターと約1%の光電変換効率を示
す。しかしこれらの素子は超薄膜のため電気的な短絡の
発生する確率が高く、また真空中で2つの有機化合物を
蒸着しなければならず,光電変換素子を作製するのが複
雑であった。
【0004】また近年、導電性高分子の研究が盛んに行
われるようになり、電解重合法で作製したポリー3ーメ
チルチオフェンとアルミニウムの接合によるショットキ
ー型光電変換素子なども報告されている(S.Glen
isら ThinSolid Films,111,9
3(1984))。しかし、大きなフイルファクターと
高い光電変換効率を有する光電変換素子は作製されてい
ない。また、ヘテロ接合素子として、小門らは(高分子
論文集、Vol.47、No11、903ページ、19
90年)結晶シリコンとポリー3ーメチルチオフェンの
ヘテロ接合を作製しているが、フィルファクターが小さ
く、経時変化が激しい。また、上原らは(高分子論文
集、Vol.47、No11、909ページ、1990
年)ポリー3ーメチルチオフェンとフェノサフラニンの
ヘテロ接合を作製し、光電変換素子の作製を行っている
が大きなフイルフェクターを有する素子は作製出来てい
ない。
われるようになり、電解重合法で作製したポリー3ーメ
チルチオフェンとアルミニウムの接合によるショットキ
ー型光電変換素子なども報告されている(S.Glen
isら ThinSolid Films,111,9
3(1984))。しかし、大きなフイルファクターと
高い光電変換効率を有する光電変換素子は作製されてい
ない。また、ヘテロ接合素子として、小門らは(高分子
論文集、Vol.47、No11、903ページ、19
90年)結晶シリコンとポリー3ーメチルチオフェンの
ヘテロ接合を作製しているが、フィルファクターが小さ
く、経時変化が激しい。また、上原らは(高分子論文
集、Vol.47、No11、909ページ、1990
年)ポリー3ーメチルチオフェンとフェノサフラニンの
ヘテロ接合を作製し、光電変換素子の作製を行っている
が大きなフイルフェクターを有する素子は作製出来てい
ない。
【0005】従来、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポ
リピロールなどの共役系高分子化合物がたとえば電解重
合などの方法で合成され、これらの共役系の重合体は各
種用途に利用することが期待できるが一般に溶剤に不溶
であるため、芳香環に置換基を導入することで溶剤に可
溶化することが行われている(例えば、吉野ら、「導電
性高分子の基礎と応用」、アイピーシー、1988)。
しかし、これら共役系高分子化合物と電子受容性化合物
を用いた光電変換素子は報告されていない。
リピロールなどの共役系高分子化合物がたとえば電解重
合などの方法で合成され、これらの共役系の重合体は各
種用途に利用することが期待できるが一般に溶剤に不溶
であるため、芳香環に置換基を導入することで溶剤に可
溶化することが行われている(例えば、吉野ら、「導電
性高分子の基礎と応用」、アイピーシー、1988)。
しかし、これら共役系高分子化合物と電子受容性化合物
を用いた光電変換素子は報告されていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ショットキー接合型光
電変換素子は(1)フイルファクターが小さい、(2)
電極の酸化により素子が劣化する、などの欠点がある。
また、ヘテロ接合型の光電変換素子の場合、フィルファ
クターは大きくなるが、作製時に電気的な短絡が生じや
すく安定した光電変換素子は作製できない。また、2つ
の有機化合物を真空中で別々に蒸着しなければならず作
製法が複雑であった。そこで、フィルファクターが大き
く、作製時に電気的な短絡の生じ難い変換効率のよい光
電変換素子が望まれていた。
電変換素子は(1)フイルファクターが小さい、(2)
電極の酸化により素子が劣化する、などの欠点がある。
また、ヘテロ接合型の光電変換素子の場合、フィルファ
クターは大きくなるが、作製時に電気的な短絡が生じや
すく安定した光電変換素子は作製できない。また、2つ
の有機化合物を真空中で別々に蒸着しなければならず作
製法が複雑であった。そこで、フィルファクターが大き
く、作製時に電気的な短絡の生じ難い変換効率のよい光
電変換素子が望まれていた。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題を
解決し、フィルファクターが大きく、電極の酸化による
素子の劣化がなく、電気的な短絡が生じ難くく、作製法
が複雑でなく、光電変換効率の高い光電変換素子の作製
について鋭意検討した結果、下記の発明に至った。本発
明は、共役系重合体層と電子受容性有機化合物層とを2
つの電極間に積層した光電変換素子であって、該共役系
重合体が一般式化1で表されるモノマー成分を含有する
ことを特徴とし、ヘテロ接合を形成したことを特徴とす
る光電変換素子である。化1においてXはイオウ原子、
セレン原子、窒素原子、または酸素原子のいずれかの原
子であり、Xが窒素原子の場合には水素原子、アルキル
基(またはアリール基の置換基を有する。R1及びR2は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、またはアミノ基から選ばれる置換基であ
り、R1とR2とが結合して環を形成していてもよい。
解決し、フィルファクターが大きく、電極の酸化による
素子の劣化がなく、電気的な短絡が生じ難くく、作製法
が複雑でなく、光電変換効率の高い光電変換素子の作製
について鋭意検討した結果、下記の発明に至った。本発
明は、共役系重合体層と電子受容性有機化合物層とを2
つの電極間に積層した光電変換素子であって、該共役系
重合体が一般式化1で表されるモノマー成分を含有する
ことを特徴とし、ヘテロ接合を形成したことを特徴とす
る光電変換素子である。化1においてXはイオウ原子、
セレン原子、窒素原子、または酸素原子のいずれかの原
子であり、Xが窒素原子の場合には水素原子、アルキル
基(またはアリール基の置換基を有する。R1及びR2は
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、またはアミノ基から選ばれる置換基であ
り、R1とR2とが結合して環を形成していてもよい。
【0008】以下、本発明の光電変換素子について添付
図面に従い説明する。図1は本発明の光電変換素子の断
面図と平面図である。1は基板、2は導電層(第1電
極)、3は導電層(第2電極)、4は共役系重合体層、
5は電子受容性有機化合物層、6は導電層(第3電極)
を各々表す。1は本発明光電変換素子の支持体となる基
板で、スライドガラス、石英板、プラスチックフイル
ム、透明な合成樹脂板等を用いることができる。導電層
である2としては、アルミニウム、鉛、亜鉛、タンタ
ル、ニッケル、チタン、コバルト、ニオブ、銅、金、
銀、白金、パラジウム等の半透明の金属や酸化スズ、イ
ンジウム及び/またはスズの金属酸化物等が使用でき
る。導電層の作製には通常、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、プラズマCVD法、プラズマ重合法、電解重合
法、塗布法などにより行われるがこの限りではない。ま
た、異種物質を積層してもかまわない。
図面に従い説明する。図1は本発明の光電変換素子の断
面図と平面図である。1は基板、2は導電層(第1電
極)、3は導電層(第2電極)、4は共役系重合体層、
5は電子受容性有機化合物層、6は導電層(第3電極)
を各々表す。1は本発明光電変換素子の支持体となる基
板で、スライドガラス、石英板、プラスチックフイル
ム、透明な合成樹脂板等を用いることができる。導電層
である2としては、アルミニウム、鉛、亜鉛、タンタ
ル、ニッケル、チタン、コバルト、ニオブ、銅、金、
銀、白金、パラジウム等の半透明の金属や酸化スズ、イ
ンジウム及び/またはスズの金属酸化物等が使用でき
る。導電層の作製には通常、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、プラズマCVD法、プラズマ重合法、電解重合
法、塗布法などにより行われるがこの限りではない。ま
た、異種物質を積層してもかまわない。
【0009】4は共役系重合体層で一般式化1で示され
るモノマー成分を含む重合体である。式中、Xはイオウ
原子、セレン原子、窒素原子、または酸素原子のいずれ
かの原子であり、Xが窒素原子の場合には水素原子、又
はアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基等)のいずれかの置換基を有す
る。R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
(例えばヘキシル基、ドデシル基等)、アリール基(例
えばフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基等)またはアミノ基から選ばれる置換基
であり、R1とR2とが結合して、環(例えば5〜7員
環)を形成していてもよい。
るモノマー成分を含む重合体である。式中、Xはイオウ
原子、セレン原子、窒素原子、または酸素原子のいずれ
かの原子であり、Xが窒素原子の場合には水素原子、又
はアルキル基(例えばメチル基、エチル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基等)のいずれかの置換基を有す
る。R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基
(例えばヘキシル基、ドデシル基等)、アリール基(例
えばフェニル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基等)またはアミノ基から選ばれる置換基
であり、R1とR2とが結合して、環(例えば5〜7員
環)を形成していてもよい。
【0010】共役系重合体層の形成には、スピンコート
法、キャスト法、水面展開法、真空蒸着法等が用いられ
るが、スピンコート法が好ましい。共役系重合体層の膜
厚は1nmから0.1mm、好ましくは10nm〜50
0nmがよい。また、共役系重合体はドーピングするこ
とによってエネルギーレベルを変えることができるた
め、以下のようなドーパントを共役系重合体層にドーピ
ングしてもよい。ドーピング可能なドーパントとして
は、塩素、臭素、ヨウ素、ICl、ICl3、IBr、
PF3、AsF3、SbF3、AgClO4、AgBF4、
BF3、BCl3、BBr2、FSO2OOSO2F、H2S
O4、HClO4、(NO2)(SbF6)、(NO2)
(BF4)、SO3、HNO3、FSO3H、CF3SO3H
等、また高分子電解質(例えばポリスチレンスルホン酸
塩、ポリー1ーアクリルアミドー2ーメチルー1ープロ
パンスルホン酸(PAMPS)、ポリビニルスルホン酸
ナトリウム等)、スルホン化金属フタロシアニン、フタ
ロシアニンーカルボン酸誘導体等が挙げられる。
法、キャスト法、水面展開法、真空蒸着法等が用いられ
るが、スピンコート法が好ましい。共役系重合体層の膜
厚は1nmから0.1mm、好ましくは10nm〜50
0nmがよい。また、共役系重合体はドーピングするこ
とによってエネルギーレベルを変えることができるた
め、以下のようなドーパントを共役系重合体層にドーピ
ングしてもよい。ドーピング可能なドーパントとして
は、塩素、臭素、ヨウ素、ICl、ICl3、IBr、
PF3、AsF3、SbF3、AgClO4、AgBF4、
BF3、BCl3、BBr2、FSO2OOSO2F、H2S
O4、HClO4、(NO2)(SbF6)、(NO2)
(BF4)、SO3、HNO3、FSO3H、CF3SO3H
等、また高分子電解質(例えばポリスチレンスルホン酸
塩、ポリー1ーアクリルアミドー2ーメチルー1ープロ
パンスルホン酸(PAMPS)、ポリビニルスルホン酸
ナトリウム等)、スルホン化金属フタロシアニン、フタ
ロシアニンーカルボン酸誘導体等が挙げられる。
【0011】ドーピングの方法は、ドーパントの種類に
よって各種方法を使用することができる。例えば2層の
導電性層からなる基板を電極として、この電極をドーパ
ント原子を含む塩を溶解した溶液中に入れ、対電極との
間に電流を流すことによりドーピングすることができ
る。また、気体や蒸気圧の高い化合物を共役系重合体に
触れさせることでドーピングをすることができる。ドー
プ後は素子の電気特性が不安定になりがちであるが、熱
処理、プラズマ処理などにて安定化させることができ
る。
よって各種方法を使用することができる。例えば2層の
導電性層からなる基板を電極として、この電極をドーパ
ント原子を含む塩を溶解した溶液中に入れ、対電極との
間に電流を流すことによりドーピングすることができ
る。また、気体や蒸気圧の高い化合物を共役系重合体に
触れさせることでドーピングをすることができる。ドー
プ後は素子の電気特性が不安定になりがちであるが、熱
処理、プラズマ処理などにて安定化させることができ
る。
【0012】本発明の共役系高分子の具体例としては以
下の化合物が挙げられるが、これらに限定されない。本
発明の共役系高分子の具体例としてポリアルキルチオフ
ェン類、ポリアルキルピロール類、及びポリアルキルア
ニリン類を挙げることができる。ポリアルキルチオフェ
ン類としては、ポリー3ーメチルチオフェン、ポリー
3,4ージメチルチオフェン、ポリー3ーエチルチオフ
ェン、ポリー3,4ージエチルチオフェン、ポリ−3−
プロピルチオフェン、ポリー3,4ープロピルチオフェ
ン、ポリー3ーブチルチオフェン、ポリー3、4ーブチ
ルポリチオフェン、ポリー3ーペンチルチオフェン、ポ
リ−3−ヘキシルチオフェン、ポリ−3−ヘプチルチオ
フェン、ポリ−3−オクチルチオフェン、ポリ−3−ノ
ニルチオフェン、ポリ−3−デシルチオフェン、ポリ−
3−ドデシルチオフェン、ポリ−3−ラウリルチオフェ
ン等、あるいはこれらのポリマーのモノマー成分の任意
の組合せからなる共重合体あるいは多元重合体が挙げら
れる。
下の化合物が挙げられるが、これらに限定されない。本
発明の共役系高分子の具体例としてポリアルキルチオフ
ェン類、ポリアルキルピロール類、及びポリアルキルア
ニリン類を挙げることができる。ポリアルキルチオフェ
ン類としては、ポリー3ーメチルチオフェン、ポリー
3,4ージメチルチオフェン、ポリー3ーエチルチオフ
ェン、ポリー3,4ージエチルチオフェン、ポリ−3−
プロピルチオフェン、ポリー3,4ープロピルチオフェ
ン、ポリー3ーブチルチオフェン、ポリー3、4ーブチ
ルポリチオフェン、ポリー3ーペンチルチオフェン、ポ
リ−3−ヘキシルチオフェン、ポリ−3−ヘプチルチオ
フェン、ポリ−3−オクチルチオフェン、ポリ−3−ノ
ニルチオフェン、ポリ−3−デシルチオフェン、ポリ−
3−ドデシルチオフェン、ポリ−3−ラウリルチオフェ
ン等、あるいはこれらのポリマーのモノマー成分の任意
の組合せからなる共重合体あるいは多元重合体が挙げら
れる。
【0013】ポリアルキルピロール類としては、ポリピ
ロール、ポリー3ーメチルピロール、ポリー3、4ージ
メチルピロール、ポリー3ーエチルピロール、ポリー
3、4ージエチルピロール、ポリ−3−プロピルピロー
ル、ポリ−3−ヘキシルピロール、ポリ−3−ヘプチル
ピロール、ポリ−3−オクチルピロール、ポリ−3−ノ
ニルピロール、ポリ−3−デシルピロール、ポリ−3−
ドデシルピロール、ポリ−3−ラウリルピロール等、あ
るいはこれらのポリマーのモノマー成分の任意の組合せ
からなる共重合体あるいは多元重合体が挙げられる。
ロール、ポリー3ーメチルピロール、ポリー3、4ージ
メチルピロール、ポリー3ーエチルピロール、ポリー
3、4ージエチルピロール、ポリ−3−プロピルピロー
ル、ポリ−3−ヘキシルピロール、ポリ−3−ヘプチル
ピロール、ポリ−3−オクチルピロール、ポリ−3−ノ
ニルピロール、ポリ−3−デシルピロール、ポリ−3−
ドデシルピロール、ポリ−3−ラウリルピロール等、あ
るいはこれらのポリマーのモノマー成分の任意の組合せ
からなる共重合体あるいは多元重合体が挙げられる。
【0014】ポリアルキルアニリン類としてはポリ−N
−プロピルアニリン、ポリ−N−ヘキシルアニリン、ポ
リ−N−ヘプチルアニリン、ポリ−N−オクチルアニリ
ン、ポリ−N−ノニルアニリン、ポリ−N−デシルアニ
リン、ポリ−N−ドデシルアニリン、ポリ−N−ラウリ
ルアニリン等、あるいはこれらのポリマーのモノマー成
分の任意の組合せからなる共重合体あるいは多元重合体
が挙げられる。溶解性共役系高分子としてはこのような
ポリアルキルチオフェン類、ポリアルキルピロール類、
ポリアルキルアニリン類、その他溶解性共役系高分子を
使用できるが特にポリアルキルチオフェン類は分子量が
大きく膜の製膜性が良いので好ましく用いられる。
−プロピルアニリン、ポリ−N−ヘキシルアニリン、ポ
リ−N−ヘプチルアニリン、ポリ−N−オクチルアニリ
ン、ポリ−N−ノニルアニリン、ポリ−N−デシルアニ
リン、ポリ−N−ドデシルアニリン、ポリ−N−ラウリ
ルアニリン等、あるいはこれらのポリマーのモノマー成
分の任意の組合せからなる共重合体あるいは多元重合体
が挙げられる。溶解性共役系高分子としてはこのような
ポリアルキルチオフェン類、ポリアルキルピロール類、
ポリアルキルアニリン類、その他溶解性共役系高分子を
使用できるが特にポリアルキルチオフェン類は分子量が
大きく膜の製膜性が良いので好ましく用いられる。
【0015】このような共役系重合体の薄膜の形成法と
しては次のようなものが挙げられる。(1)化学酸化重
合により重合物を合成し、その重合物が有機溶媒に可溶
ならば、スピンコート法、水面展開法、キャスト法等に
より薄膜を形成する方法。(2)化学酸化重合により重
合物を合成し、その重合物が有機溶媒に可溶でないなら
ば、適当な樹脂(例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ア
ルキド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メ
ラニン樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル
ー酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルー酢酸ビニルー無水
マレイン酸共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリ
ル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体等の高分子
材料、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
等のセルロース類が挙げられ、それぞれ単独あるいは数
種類組み合わせて用いることができる)に分散して、ス
ピンコート法やキャスト法により薄膜を形成する方法。
(3)導電性基板上に重合触媒を含有した樹脂薄膜を形
成し、これを、共役系重合体になりえるモノマー成分の
溶液、または蒸気にさらす方法。(4)電解酸化重合に
より電極上に直接薄膜を作製する方法。
しては次のようなものが挙げられる。(1)化学酸化重
合により重合物を合成し、その重合物が有機溶媒に可溶
ならば、スピンコート法、水面展開法、キャスト法等に
より薄膜を形成する方法。(2)化学酸化重合により重
合物を合成し、その重合物が有機溶媒に可溶でないなら
ば、適当な樹脂(例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、ア
ルキド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メ
ラニン樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル
ー酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルー酢酸ビニルー無水
マレイン酸共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリ
ル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体等の高分子
材料、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
等のセルロース類が挙げられ、それぞれ単独あるいは数
種類組み合わせて用いることができる)に分散して、ス
ピンコート法やキャスト法により薄膜を形成する方法。
(3)導電性基板上に重合触媒を含有した樹脂薄膜を形
成し、これを、共役系重合体になりえるモノマー成分の
溶液、または蒸気にさらす方法。(4)電解酸化重合に
より電極上に直接薄膜を作製する方法。
【0016】5は電子受容性有機化合物からなる薄膜で
ある。電子受容性有機化合物の具体例を挙げるとアミノ
基及びその誘導体を置換基とするペリレン酸無水物、ペ
リレン酸イミド等のペリレン系化合物、アンサンスロン
系化合物、アゾ系化合物等があるが、この限りではな
い。膜の作製法としては、真空蒸着法、プラズマCVD
法、プラズマ重合法、スピンコート法、水面展開法等が
利用できるがこの限りではない。膜厚は5nm〜0.1
mm、が好ましく、より好ましくは10nm〜1000
nmである。
ある。電子受容性有機化合物の具体例を挙げるとアミノ
基及びその誘導体を置換基とするペリレン酸無水物、ペ
リレン酸イミド等のペリレン系化合物、アンサンスロン
系化合物、アゾ系化合物等があるが、この限りではな
い。膜の作製法としては、真空蒸着法、プラズマCVD
法、プラズマ重合法、スピンコート法、水面展開法等が
利用できるがこの限りではない。膜厚は5nm〜0.1
mm、が好ましく、より好ましくは10nm〜1000
nmである。
【0017】6は5の電子受容性有機化合物とオーミッ
ク接触する導電性物質がよい。例えば、アルミニウム、
銀等である。なおこれらの構造は用途に応じていろいろ
と応用変化させることができる。
ク接触する導電性物質がよい。例えば、アルミニウム、
銀等である。なおこれらの構造は用途に応じていろいろ
と応用変化させることができる。
【0018】
【実施例】次に本発明を実施例により、さらに詳細に説
明するが本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。
明するが本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。
【0019】実施例1〜5
(A)共役系重合体の作製(ポリ−3−ドデシルチオフ
ェンの合成) 第二塩化鉄0.04モル(6.5g)を乾燥窒素中で採
取し、これをクロロホルム100mlに投入して、第2
塩化鉄のクロロホルム懸濁液を得た。この懸濁液中に乾
燥窒素雰囲気化で、滴下ロートにより3−ドデシルチオ
フェン0.01モル(2.5g)を滴下した。この懸濁
液を一昼夜攪拌した後、大量の水に投入しクロロホルム
により抽出した。抽出液を乾燥することによりポリ−3
−ドデシルチオフェンを2.0g得た。
ェンの合成) 第二塩化鉄0.04モル(6.5g)を乾燥窒素中で採
取し、これをクロロホルム100mlに投入して、第2
塩化鉄のクロロホルム懸濁液を得た。この懸濁液中に乾
燥窒素雰囲気化で、滴下ロートにより3−ドデシルチオ
フェン0.01モル(2.5g)を滴下した。この懸濁
液を一昼夜攪拌した後、大量の水に投入しクロロホルム
により抽出した。抽出液を乾燥することによりポリ−3
−ドデシルチオフェンを2.0g得た。
【0020】(B)薄膜及び光電変換素子の作製
以下に図面に基き詳細に説明する。図1(A)に光電変
換素子の断面図、図1(B)にその平面図を示した。ガ
ラス基板(1)、第1電極(2)、第2電極(3)、共
役系重合体層(4)、電子受容性化合物層(5)、第3
電極(6)の5層からなっている。第1電極(2)にク
ロム、第2電極(3)に金、第3電極(6)にアルミニ
ウムを用いた。共役系重合体層(4)は、ポリー3ード
デシルチオフェン0.1gを50mlのクロロホルムに
溶解し、スピンコート法により導電性電極上に作製し、
自然乾燥する。膜厚は約30nmである。電子受容性化
合物として表1に示した5種の化合物を用い、電子受容
性化合物層(5)は、1x10-5torr以下にて真空蒸着
することにより作製した。膜厚は約100nmである。
この薄膜上に、マスクを介してアルミニウムを1x10
-5torr以下にて約25nmの膜厚で真空蒸着し、アルミ
ニウム面上に導電ペーストにてリード線を取り付けて本
発明の光電変換素子を作製した。
換素子の断面図、図1(B)にその平面図を示した。ガ
ラス基板(1)、第1電極(2)、第2電極(3)、共
役系重合体層(4)、電子受容性化合物層(5)、第3
電極(6)の5層からなっている。第1電極(2)にク
ロム、第2電極(3)に金、第3電極(6)にアルミニ
ウムを用いた。共役系重合体層(4)は、ポリー3ード
デシルチオフェン0.1gを50mlのクロロホルムに
溶解し、スピンコート法により導電性電極上に作製し、
自然乾燥する。膜厚は約30nmである。電子受容性化
合物として表1に示した5種の化合物を用い、電子受容
性化合物層(5)は、1x10-5torr以下にて真空蒸着
することにより作製した。膜厚は約100nmである。
この薄膜上に、マスクを介してアルミニウムを1x10
-5torr以下にて約25nmの膜厚で真空蒸着し、アルミ
ニウム面上に導電ペーストにてリード線を取り付けて本
発明の光電変換素子を作製した。
【0021】(C)光電変換効率の測定
作製した光電変換素子に第3電極(6)側からフイルタ
ーによって赤外光をカットした0.1mW/cm2の白色光を
照射し、光電変換効率を測定した。光電変換効率の測定
には、ポテンショスタットおよびポテンシャルスキャナ
ーを用い、X−Yレコーダーで記録した。測定はすべて
空気中、室温で行った。結果を表1に示した。
ーによって赤外光をカットした0.1mW/cm2の白色光を
照射し、光電変換効率を測定した。光電変換効率の測定
には、ポテンショスタットおよびポテンシャルスキャナ
ーを用い、X−Yレコーダーで記録した。測定はすべて
空気中、室温で行った。結果を表1に示した。
【0022】(D)整流性の測定
(C)と同様に作製した光電変換素子を暗状態下で暗状
態下で電流電圧特性を測定した。その結果、素子はすべ
て遮光状態において、金電極に正電圧を印加したとき順
方向となる整流性が見られた。±2Vでの整流比を表1
の中にまとめた。印加電圧の範囲は±2Vである。
態下で電流電圧特性を測定した。その結果、素子はすべ
て遮光状態において、金電極に正電圧を印加したとき順
方向となる整流性が見られた。±2Vでの整流比を表1
の中にまとめた。印加電圧の範囲は±2Vである。
【0023】
【表1】
【0024】
【化2】
【0025】
【化3】
【0026】
【化4】
【0027】
【化5】
【0028】
【化6】
【0029】
【比較例】ショットキー型有機光電変換素子を作成し比
較例とした。以下に図面に基づき詳細に説明する。図2
(A)に光電変換素子の断面図、図2(B)にその平面
図を示した。基板(1)と第1電極(2)、第2電極
(3)、銅フタロシアニン膜(8)、第3電極(6)の
4層からなっている。第1電極(2)にクロム、第2電
極(3)に金、第3電極(6)にアルミニウムの蒸着膜
を用い、アルミニウム側から、白色光を照射した。銅フ
タロシアニン層は真空蒸着法により作成した。光電変換
効率は実施例と同様に測定した。短絡光電流10nA/cm2、
解放端電圧1.3V、フィルファクター0.25、変換効率0.05
%であった。
較例とした。以下に図面に基づき詳細に説明する。図2
(A)に光電変換素子の断面図、図2(B)にその平面
図を示した。基板(1)と第1電極(2)、第2電極
(3)、銅フタロシアニン膜(8)、第3電極(6)の
4層からなっている。第1電極(2)にクロム、第2電
極(3)に金、第3電極(6)にアルミニウムの蒸着膜
を用い、アルミニウム側から、白色光を照射した。銅フ
タロシアニン層は真空蒸着法により作成した。光電変換
効率は実施例と同様に測定した。短絡光電流10nA/cm2、
解放端電圧1.3V、フィルファクター0.25、変換効率0.05
%であった。
【0030】
【発明の効果】本発明は共役系重合体層と電子受容性化
合物層を2つの電極間に形成させることによる新規な光
電変換素子に関するものである。この光電変換素子は、
短絡する確率が従来の作製法より減少し、また安定した
ヘテロ接合を形成し、大きなフィルファクターと大きな
短絡光電流を示し、高い光電変換効率を示す。これらは
太陽電池、光センサー、電子写真感光体、光記録材料、
印刷刷版等に利用することができる。
合物層を2つの電極間に形成させることによる新規な光
電変換素子に関するものである。この光電変換素子は、
短絡する確率が従来の作製法より減少し、また安定した
ヘテロ接合を形成し、大きなフィルファクターと大きな
短絡光電流を示し、高い光電変換効率を示す。これらは
太陽電池、光センサー、電子写真感光体、光記録材料、
印刷刷版等に利用することができる。
【図1】本発明による光電変換素子の概略図。
【図2】比較例としての光電変換素子の概略図
1 ガラス基板
2 第1電極
3 第2電極
4 共役系重合体層
5 電子受容性化合物層
6 第3電極
7 リード線
8 銅フタロシアニン層
Claims (4)
- 【請求項1】 共役系重合体層と電子受容性有機化合物
層とを2つの電極間に積層した光電変換素子であって、
該共役系重合体が下記一般式化1で示されるモノマー成
分を含むことを特徴とする光電変換素子。 【化1】 (化1中Xはイオウ原子、セレン原子、窒素原子、また
は酸素原子のいずれかの原子であり、Xが窒素原子の場
合には水素原子、アルキル基またはアリール基の置換基
を有する。R1及びR2は水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基またはアミノ基から
選ばれる置換基であり、R1とR2とが結合して環を形成
していてもよい。) - 【請求項2】 化1におけるR1、R2がアルキル鎖であ
ることを特徴とする請求項1記載の光電変換素子。 - 【請求項3】 共役系重合体がポリアルキルチオフェン
類である請求項1記載の光電変換素子。 - 【請求項4】 共役系重合体層が塗布法にて作製された
ものであることを特徴とする請求項1記載の光電変換素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3198572A JPH0521824A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 光電変換素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3198572A JPH0521824A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 光電変換素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521824A true JPH0521824A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=16393415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3198572A Pending JPH0521824A (ja) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | 光電変換素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521824A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0828184A1 (en) * | 1996-09-04 | 1998-03-11 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically conductive polymer blend |
| EP0831365A1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive polymer blend |
| WO2002005354A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Solid photo-electric converting element, process for producing the same, solar cell employing solid photo-electric converting element, and power supply |
| WO2002052654A1 (en) * | 2000-12-26 | 2002-07-04 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Solar cell |
| JP2005223038A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 光電変換素子およびその製造方法 |
| US7932347B2 (en) * | 2005-09-08 | 2011-04-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Polymer comprising unit comprising fluorocyclopentane ring fused with aromatic ring and organic thin film and organic thin film element both comprising the same |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP3198572A patent/JPH0521824A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0828184A1 (en) * | 1996-09-04 | 1998-03-11 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically conductive polymer blend |
| EP0831365A1 (en) * | 1996-09-19 | 1998-03-25 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive polymer blend |
| WO2002005354A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Solid photo-electric converting element, process for producing the same, solar cell employing solid photo-electric converting element, and power supply |
| WO2002052654A1 (en) * | 2000-12-26 | 2002-07-04 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Solar cell |
| JP2005223038A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 光電変換素子およびその製造方法 |
| US7932347B2 (en) * | 2005-09-08 | 2011-04-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Polymer comprising unit comprising fluorocyclopentane ring fused with aromatic ring and organic thin film and organic thin film element both comprising the same |
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