JPH05218602A - Thin flexible circuit laminate using epoxy as base - Google Patents
Thin flexible circuit laminate using epoxy as baseInfo
- Publication number
- JPH05218602A JPH05218602A JP29340192A JP29340192A JPH05218602A JP H05218602 A JPH05218602 A JP H05218602A JP 29340192 A JP29340192 A JP 29340192A JP 29340192 A JP29340192 A JP 29340192A JP H05218602 A JPH05218602 A JP H05218602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit laminate
- web
- epoxy
- polyfunctional
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims abstract description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 19
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 18
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 12
- 229920002732 Polyanhydride Polymers 0.000 claims description 11
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 9
- FDZMLNCJBYFJBH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2,3-dibromophenoxy)methyl]oxirane Chemical compound BrC1=CC=CC(OCC2OC2)=C1Br FDZMLNCJBYFJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 claims description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011885 synergistic combination Substances 0.000 claims 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 abstract description 3
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 abstract 2
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 abstract 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 7
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- DYIZJUDNMOIZQO-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrabromo-2-[2-(4,5,6,7-tetrabromo-1,3-dioxoisoindol-2-yl)ethyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound O=C1C(C(=C(Br)C(Br)=C2Br)Br)=C2C(=O)N1CCN1C(=O)C2=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C2C1=O DYIZJUDNMOIZQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- WHHGLZMJPXIBIX-UHFFFAOYSA-N decabromodiphenyl ether Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1OC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br WHHGLZMJPXIBIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 4
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical group N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUFUSNFDFBVIQ-UHFFFAOYSA-N CCC[Si](OC)(OC)OCCC1CO1 Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCCC1CO1 GUUFUSNFDFBVIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- XQKQZOLAVMIQHZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromo-3-(3,3-dibromopropoxy)propane Chemical compound BrC(Br)CCOCCC(Br)Br XQKQZOLAVMIQHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACRQLFSHISNWRY-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentabromo-6-phenoxybenzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1OC1=CC=CC=C1 ACRQLFSHISNWRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOQUTYDTROZTID-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenyl)-[(4-tert-butylphenyl)-(oxiran-2-yl)methoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(C1OC1)OC(C=1C=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C1OC1 XOQUTYDTROZTID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219495 Betulaceae Species 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000001668 ameliorated effect Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-YPZZEJLDSA-N antimony-120 Chemical compound [120Sb] WATWJIUSRGPENY-YPZZEJLDSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006229 ethylene acrylic elastomer Polymers 0.000 description 1
- -1 flame retardant compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920003055 poly(ester-imide) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-yl)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCC1CO1 LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は一般にフレキシブル電子
プリント回路の製造に使用されるフレキシブル回路材料
に関する。本発明は特に、エポキシを含浸させた一重又
は二重クラッド型熱安定性ウェブからなるラミネートか
ら形成する薄い(2〜6ミル)フレキシブル回路材料に
関する。FIELD OF THE INVENTION This invention relates generally to flexible circuit materials used in the manufacture of flexible electronic printed circuits. The invention is particularly directed to thin (2-6 mil) flexible circuit materials formed from laminates of single or double clad heat stable webs impregnated with epoxy.
【0002】[0002]
【従来の技術】フレキシブル回路は公知であり、静的又
は動的回路の相互接続を必要とする無数の電子部品で使
用されている。回路をロールツーロール法で製造するた
めにフレキシブル回路を曲げなければならないとき、非
平面形状に設置するために回路を曲げねばならないと
き、又は回路が適用時に最小の屈曲操作(最小の移動)
を受けるか、回路を耐用年数中に数回だけ取り外して再
設置する必要がある場合には、静的フレックス回路が使
用されている。フレキシブル回路が連続運動を受けると
き及び使用中に大幅に移動するときには動的フレックス
回路が使用されている。動的フレキシブル回路の例は、
ディスクドライブの読取り/書込みヘッドをディスクド
ライブ論理演算装置と相互接続するために使用される回
路である。通常フレキシブル回路は、ポリイミド又はポ
リエステル材料(例えばDuPont製KAPTONポ
リイミド又はMYLARポリエステル)のフレキシブル
フィルムからなっており、このフィルムには、(接着剤
層によって又はスパッタリングのような公知の直接付着
技術を使用して)導電性材料(例えば銅箔)の被覆金属
板が付着されている。ポリイミドベースのフレキシブル
回路は意図される目的には十分適しているが、価格が比
較的高く、これは用途によっては、特に静的フレキシブ
ル回路を使用する用途には有効な価格ではあり得ない。
他方では、ポリエステルベースのフレキシブル回路材料
は高温で熱安定性がなく、はんだ付け又はリフローソル
ダリング作業に適さない。Flexible circuits are well known and are used in a myriad of electronic components that require interconnection of static or dynamic circuits. Minimal bending operation (minimum movement) when a flexible circuit must be bent to manufacture the circuit in a roll-to-roll process, when the circuit must be bent to install in a non-planar configuration, or when the circuit is applied
Static flex circuits are used when they need to be removed or re-installed only a few times during their useful life. Dynamic flex circuits are used when the flexible circuit undergoes continuous motion and moves significantly during use. An example of a dynamic flexible circuit is
Circuitry used to interconnect the read / write heads of a disk drive with a disk drive logic unit. The flexible circuit usually consists of a flexible film of polyimide or polyester material (eg KAPTON polyimide or MYLAR polyester from DuPont), which may be formed by adhesive layers or by using known direct deposition techniques such as sputtering. A coated metal plate of a conductive material (for example, copper foil) is attached. Although polyimide-based flexible circuits are well suited for their intended purpose, they are relatively expensive, which may not be an effective price for some applications, especially those using static flexible circuits.
On the other hand, polyester-based flexible circuit materials are not thermally stable at high temperatures and are not suitable for soldering or reflow soldering operations.
【0003】エポキシベースの回路材料はよく知られ、
エポキシ化学又は他の分野に依存している。これらの材
料は硬質(例えばFR−4)であっても、軟質であって
もよい。更には、このようなエポキシベースの回路材料
は、米国特許第4,997,702号に開示され、Ro
gers CorporationからBend/fl
exの商品名で市販されているような屈曲性(及び形状
保持)型であり得る。同特許第4,997,702号に
記載の回路材料は、片側又は両側が導電性シートに貼合
せられた強化繊維基板を含んでいる。基板は多官能価又
は一官能価のエポキシ及び無水物又は二酸を含浸させた
不織ウェブを含んでいる。エポキシ樹脂/硬化剤成分の
ガラス転移温度は約10〜60℃であり、特に約20〜
30℃である。基板の厚さは8〜60ミルである。同特
許第4,997,702号に記載の回路ラミネート材料
はZ方向への熱膨張率CTEを減ずるための20〜70
重量%の無機充填剤材料、及び/又はガラス繊維とポリ
マー繊維とのブレンドからなるウェブを含み得る。この
回路ラミネートは所望の多平面形状に曲げることができ
るという意味でフレキシブルであることが独特である。
しかしながら通常のフレキシブル材料とは対照的に、こ
の回路ラミネートは曲げた後も形状を保持する。Epoxy-based circuit materials are well known,
Rely on epoxy chemistry or other disciplines. These materials may be hard (eg FR-4) or soft. Further, such epoxy-based circuit materials are disclosed in US Pat. No. 4,997,702, Ro
Gers Corporation to Bend / fl
It may be a flexible (and shape-retaining) type such as that marketed under the trade name ex. The circuit material described in Japanese Patent No. 4,997,702 includes a reinforcing fiber substrate having one or both sides bonded to a conductive sheet. The substrate comprises a nonwoven web impregnated with a polyfunctional or monofunctional epoxy and an anhydride or diacid. The glass transition temperature of the epoxy resin / hardener component is about 10 to 60 ° C., especially about 20 to 60 ° C.
It is 30 ° C. The thickness of the substrate is 8-60 mils. The circuit laminate material described in the patent 4,997,702 is 20 to 70 for reducing the coefficient of thermal expansion CTE in the Z direction.
It may include a web of a weight percent of inorganic filler material and / or a blend of glass fibers and polymer fibers. This circuit laminate is unique in that it is flexible in the sense that it can be bent into the desired multiplanar shape.
However, in contrast to conventional flexible materials, this circuit laminate retains its shape after bending.
【0004】特許第4,997,702号に記載の屈曲
性形状保持型回路材料とは異なり、本明細書に開示する
発明は、曲げるか又は変形させたときに形状を保持しな
いエポキシベースのフレキシブル回路材料に関する。こ
のようなエポキシベースのフレキシブル回路材料の例は
多く知られている。例えばBarton等による米国特
許第4,035,694号は、ポリマー結合材料(例え
ば分枝鎖の酸末端ポリエステルとエポキシ化合物とのブ
レンド)を含浸させた不織ウェブを含む基板を備えた金
属クラッド型誘電シートに関する。Alderによる特
許第4,087,300号は同様に、エポキシ樹脂とイ
ソシアネート硬化剤とを使用するフレキシブル回路ラミ
ネートに関する。Yamaoka等による特許第4,3
53,954号は、銅箔上に被覆されたエポキシ樹脂か
らなるフレキシブル回路基板材料に関する。Yamao
ka等は基板にウェブも、他の強化材料も使用していな
い。特許第4,140,831号は、ポリ酸無水物を硬
化剤として使用してエポキシ樹脂を含浸させた(有機繊
維から製造した)不織ウェブからなるフレキシブル回路
材料に関する。米国特許第4,191,800号は同様
に、クロスマットで含浸されたエポキシ樹脂からなり、
片面又は両面上に金属被覆が施されたフレキシブル回路
材料に関する。米国特許第4,883,708号は強化
エポキシラミネート回路に関し、この回路は、エポキシ
樹脂がエポキシ/カルボキシル末端ニトリル又はブタジ
エン(CTBN)を含み、強化材が少なくとも2つの型
の繊維(ガラス繊維及びポリマー繊維を含む)から形成
されたウェブを含んでいることを特徴とする。米国特許
第4,913,955号は同様に、エポキシ成分がエポ
キシ/CTBN樹脂であり、強化材が中央のガラス織層
と両外側の不織繊維とからなることを特徴とするエポキ
シベースの回路ラミネートに関する。米国特許第4,8
82,216号は、エポキシ樹脂とポリヒアル(pol
yhial)化合物とアミンとからマトリックスを形成
することを特徴とするエポキシベースのフレキシブル回
路材料に関する。Unlike the flexible shape-retaining circuit material described in US Pat. No. 4,997,702, the invention disclosed herein is an epoxy-based flexible material that does not retain its shape when bent or deformed. Regarding circuit materials. Many examples of such epoxy-based flexible circuit materials are known. U.S. Pat. No. 4,035,694 to Barton et al., For example, is a metal-clad type with a substrate that includes a nonwoven web impregnated with a polymeric binder (eg, a blend of branched acid-terminated polyester and an epoxy compound). Regarding a dielectric sheet. Alder, US Pat. No. 4,087,300, likewise relates to a flexible circuit laminate using an epoxy resin and an isocyanate curing agent. Patent No. 4,3 by Yamaoka et al.
No. 53,954 relates to a flexible circuit board material made of an epoxy resin coated on a copper foil. Yamao
Ka et al. did not use a web or other reinforcing material for the substrate. U.S. Pat. No. 4,140,831 relates to a flexible circuit material consisting of a nonwoven web (made of organic fibers) impregnated with an epoxy resin using polyanhydride as a curing agent. U.S. Pat. No. 4,191,800 likewise consists of an epoxy resin impregnated with a cross mat,
The present invention relates to a flexible circuit material having a metal coating on one side or both sides. U.S. Pat. No. 4,883,708 relates to a reinforced epoxy laminate circuit in which the epoxy resin comprises epoxy / carboxyl terminated nitrile or butadiene (CTBN) and the reinforcement is at least two types of fiber (glass fiber and polymer. (Including fibers). U.S. Pat. No. 4,913,955 likewise has an epoxy-based circuit characterized in that the epoxy component is an epoxy / CTBN resin and the reinforcement consists of a central glass woven layer and non-woven fibers on both sides. Regarding laminates. US Patent No. 4,8
No. 82,216 is an epoxy resin and polyhyal (pol).
Yield) compound and amine to form a matrix.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ポリイミドベースのフ
レキシブル回路と比較すると、前述したエポキシベース
のフレキシブル回路材料は特に静的フレックス回路で
は、コストが低くなるという利点がある。エポキシベー
スのフレキシブル回路は更に、ポリエステルフィルムベ
ースの回路材料よりも熱安定性がある。しかしながら、
エポキシベースのフレキシブル回路に関して多くのこと
が知られているにもかかわらず、静的フレックス回路と
してのポリイミド又はポリエステルベースのフレックス
回路と少なくとも同様に良好である(か又はそれよりも
良い)電気物理的特性を示す、低コストで、熱安定性の
ある改善されたエポキシベースのフレックス回路が絶え
ず必要とされている。Compared to polyimide based flexible circuits, the epoxy based flexible circuit materials described above have the advantage of lower cost, especially in static flex circuits. Epoxy-based flexible circuits are also more heat stable than polyester film-based circuit materials. However,
Despite much known about epoxy-based flexible circuits, at least as good (or better) electro-physical as polyimide or polyester-based flex circuits as static flex circuits. There is a constant need for low cost, thermally stable and improved epoxy-based flex circuits that are characteristic.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】前述した従来技術の欠点
及び他の欠点は、本発明の新規なエポキシベースのフレ
キシブル回路ラミネートによって克服されるか又は改善
される。本発明に基づけば、一重及び二重クラッド型フ
レキシブル回路材料はエポキシを含浸させた熱安定性ウ
ェブを含み、このウェブは導電性シートに貼合せられて
いる。このフレキシブル回路ラミネートは難燃性であ
り、はんだ付け可能な熱安定性材料からなっている。エ
ポキシ樹脂成分は多官能価エポキシ樹脂(例えばフェノ
ールノボラック樹脂の多官能価グリシジルエーテル)と
ポリ酸無水物硬化剤とを含んでいる。基板の厚さは50
〜150ミクロン(2〜6ミル)であり、誘電材料のガ
ラス転移温度Tgは20〜50℃の広い温度範囲にわた
っている。材料はそのままで多様なフレキシブルプリン
ト回路部品で使用され得る。(織込み又は不織の)強化
ウェブは、回路製造中での回路の取り扱い及び回路上へ
の部品の装着に必要な誘電材料の機械強度を与える。SUMMARY OF THE INVENTION The aforementioned and other drawbacks of the prior art are overcome or ameliorated by the novel epoxy-based flexible circuit laminate of the present invention. In accordance with the present invention, single and double clad flexible circuit materials include epoxy impregnated heat stable webs that are laminated to a conductive sheet. This flexible circuit laminate is flame retardant and consists of a solderable, heat stable material. The epoxy resin component includes a polyfunctional epoxy resin (for example, a polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin) and a polyanhydride curing agent. The thickness of the substrate is 50
˜150 microns (2-6 mils) and the glass transition temperature Tg of the dielectric material is over a wide temperature range of 20-50 ° C. The material can be used as is in a variety of flexible printed circuit components. Reinforced webs (woven or non-woven) provide the mechanical strength of the dielectric material necessary for handling and mounting components on the circuit during circuit manufacture.
【0007】前述した従来技術はエポキシベースのフレ
キシブル回路ラミネートの多数の例を説明しているが、
これらの従来技術のいずれも、本発明のフレキシブル回
路ラミネートを特徴づける新たな要素の組み合わせを開
示してはいないと考えられる。即ち、いずれの従来技術
も、(a)(1)ガラス繊維又は高温ポリエステル繊維
からなる高温(熱安定性)の織ウェブ又は不織ウェブ
と、(2)20〜50℃の広範なTgを有する、ウェブ
含浸用の多官能価エポキシ/ポリ酸無水物硬化剤とを有
し、(3)全体の厚さが2〜6ミルのフレキシブル基板
と、(b)基板に貼合せられる少なくとも1つの導電性
材料(銅箔)層とからなる薄いフレキシブル回路ラミネ
ートを開示してはいない。While the above-mentioned prior art describes numerous examples of epoxy-based flexible circuit laminates,
None of these prior art is believed to disclose the new combination of elements that characterizes the flexible circuit laminate of the present invention. That is, all of the conventional techniques have (a) (1) a high temperature (heat stable) woven or non-woven web made of glass fiber or high temperature polyester fiber, and (2) a wide Tg of 20 to 50 ° C. , A flexible substrate having a multifunctional epoxy / polyanhydride curing agent for web impregnation, (3) a total thickness of 2 to 6 mils, and (b) at least one conductive material laminated to the substrate. It does not disclose a thin flexible circuit laminate consisting of a conductive material (copper foil) layer.
【0008】前述した如く、従来技術のエポキシベース
のフレキシブル回路ラミネートのいずれも、前述した全
ての特徴を兼ね備えていない。本発明ではこれらの特徴
を兼ね備えており、公知のエポキシベース及びポリイミ
ド又はポリエステルベースのフレックス回路と比べて利
点がある。本発明の重要な利点は、製造中に連続貼合せ
技術を使用することができることに派生してコストが低
く、また素材(例えば樹脂及びウェブ)のコストが比較
的低いことである。更には、フレキシブル回路ラミネー
トは、静的フレックス回路として適用される従来のポリ
イミド又はポリエステルフィルムベースのフレックス回
路と比較すると、(より低コストで)同様の又はそれ以
上の機械特性、熱特性及び電気特性を有する。As mentioned above, none of the prior art epoxy based flexible circuit laminates have all of the features described above. The present invention combines these features and has advantages over known epoxy-based and polyimide- or polyester-based flex circuits. An important advantage of the present invention is the low cost resulting from the ability to use continuous lamination techniques during manufacturing and the relatively low cost of the materials (eg resins and webs). Moreover, flexible circuit laminates have similar (or less costly) mechanical, thermal and electrical properties (at a lower cost) when compared to conventional polyimide or polyester film based flex circuits applied as static flex circuits. Have.
【0009】[0009]
【実施例】添付図面を参照して以下の詳細な説明を読め
ば、本発明の前記特徴及び他の特徴が当業者に理解され
よう。The above and other features of the present invention will be understood by those skilled in the art upon reading the following detailed description with reference to the accompanying drawings.
【0010】まず図1に本発明の薄いフレキシブル回路
ラミネート10を示す。回路ラミネート10は一重クラ
ッド形状であり、導電性材料シート14が貼合せられた
基板12を含んでいる。First, FIG. 1 shows a thin flexible circuit laminate 10 of the present invention. The circuit laminate 10 has a single clad shape and includes a substrate 12 to which a sheet of conductive material 14 is attached.
【0011】図2は、本発明の二重クラッド形状を示し
ていることを除けば、図1と同一である。従って、図2
の二重クラッドラミネート10’は基板12’の底側に
貼合せられた付加的導電性層16を含んでいる。図1の
回路ラミネート10と図2の回路ラミネート10’とが
連続貼合せ法で製造されるのが好ましい。この方法は、
導電性材料のロール(銅箔ロール)を(エポキシ及び他
の成分を含浸させたウェブからなる)基板12に連続的
に貼合せ、熱圧して、非常に薄いフレキシブル回路ラミ
ネートの完成ロール品を提供することからなる。FIG. 2 is the same as FIG. 1 except that it shows the double clad configuration of the present invention. Therefore, FIG.
Double clad laminate 10 'includes an additional conductive layer 16 laminated to the bottom side of substrate 12'. The circuit laminate 10 of FIG. 1 and the circuit laminate 10 ′ of FIG. 2 are preferably manufactured by a continuous laminating method. This method
A roll of conductive material (copper foil roll) is continuously laminated to a substrate 12 (comprising a web impregnated with epoxy and other components) and hot pressed to provide a finished roll of a very thin flexible circuit laminate. Consists of doing.
【0012】基板12は、繊維ウェブに含浸させるエポ
キシ/ポリ酸無水物マトリックスを含んでいる。マトリ
ックス系は、ガラス転移温度Tgが20〜50℃と幅広
いフレキシブル熱硬化性ポリマーを生成するようにポリ
酸無水物と架橋結合した多官能価エポキシ樹脂を含んで
いる。エポキシ樹脂がパラアミノフェノールのトリグリ
シジルエーテルと、フェノールノボラック樹脂の多官能
価グリシジルエーテルと、テトラブロモビスフェノール
Aのジグリシジルエーテルと、これらの混合物とを含ん
でいるのが好ましい。ポリ酸無水物硬化剤がポリアジピ
ン酸無水物(PADA)と、ポリアゼライン酸無水物
(PAPA)と、ポリセバシン酸無水物(PSPA)
と、ドデセニル琥珀酸無水物又はこれらの混合物を含ん
でいるのが好ましい。アゼライン酸を前述した任意のポ
リ酸無水物と組み合わせて使用してもよい。エポキシ樹
脂とポリ酸無水物硬化剤とのこのような特定の組み合わ
せによって、Tgの範囲が20〜50℃と広くなる。ポ
リマーマトリックスに対して40〜70重量%の量のエ
ポキシ樹脂成分が存在する。ポリマーマトリックスに対
して60〜30重量%の量のポリ酸無水物硬化剤成分が
存在する。これらの量は化学反応成分(即ちエポキシ樹
脂と硬化剤)の化学官能価で変動し得る。好ましい実施
例では、臭素化希釈剤(例えばジブロモフェニルグリシ
ジルエーテル)をエポキシ改質剤として使用する。従来
技術は通常構造改質剤(例えばカルボキシル末端ニトリ
ル若しくはブタジエン(CTBN)、ポリエステルジエ
ポキシド化合物又はエポキシとエチレン−アクリルエラ
ストマーとの組み合わせ)を使用して、材料に必要な可
撓性を与えているという点で、この特定マトリックスは
大半の他の従来技術のフレキシブルなエポキシベースの
系とは異なっている。Substrate 12 comprises an epoxy / polyanhydride matrix that impregnates the fibrous web. The matrix system comprises a polyfunctional epoxy resin crosslinked with a polyanhydride to produce a flexible thermosetting polymer with a glass transition temperature Tg of 20-50 ° C. It is preferred that the epoxy resin comprises a triglycidyl ether of para-aminophenol, a polyfunctional glycidyl ether of a phenol novolac resin, a diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, and mixtures thereof. Polyanhydride curing agents include polyadipic anhydride (PADA), polyazelaic anhydride (PAPA), and polysebacic anhydride (PSPA).
And dodecenyl succinic anhydride or mixtures thereof. Azelaic acid may be used in combination with any of the polyanhydrides mentioned above. This particular combination of epoxy resin and polyanhydride hardener broadens the Tg range to 20-50 ° C. The epoxy resin component is present in an amount of 40-70% by weight, based on the polymer matrix. The polyanhydride curing agent component is present in an amount of 60-30% by weight, based on the polymer matrix. These amounts can vary with the chemical functionality of the chemical reaction components (ie epoxy resin and hardener). In the preferred embodiment, a brominated diluent (eg, dibromophenyl glycidyl ether) is used as the epoxy modifier. The prior art typically uses structural modifiers such as carboxyl-terminated nitriles or butadiene (CTBN), polyester diepoxide compounds or a combination of epoxies and ethylene-acrylic elastomers to give the materials the required flexibility. In this respect, this particular matrix differs from most other prior art flexible epoxy based systems.
【0013】繊維強化材(図1の18及び図2の1
8’)はガラス繊維(E,S,Dガラス)又は高温ポリ
エステル繊維(Eastman Kodak製Kode
l)からなる熱安定性の織ウェブ又は不織ウェブを含ん
でいる。フレキシブル基板全体に対して約20〜45重
量%の量の繊維ウェブが存在する。(260℃を超える
と熱安定性を有する)このような熱安定性繊維強化材に
よって、本発明のフレキシブル回路ラミネートは処理中
の高温に、特にはんだ溶融温度に耐えることができる。
更には、ガラス又は高温ポリエステルのウェブ強化材を
使用すると、ポリエステルだけ又はポリイミドだけから
なる誘電フィルムに匹敵し得る又はそれよりも良好な比
較的大きい機械強度を備えた誘電基板12,12’が得
られる。Fiber reinforcement (18 in FIG. 1 and 1 in FIG. 2)
8 ') is glass fiber (E, S, D glass) or high temperature polyester fiber (Kode manufactured by Eastman Kodak)
l) a heat-stable woven or non-woven web. The fibrous web is present in an amount of about 20-45% by weight, based on the total flexible substrate. Such thermal stable fiber reinforcements (which have thermal stability above 260 ° C.) allow the flexible circuit laminates of the present invention to withstand high temperatures during processing, especially solder melting temperatures.
Furthermore, the use of glass or high temperature polyester web reinforcements results in dielectric substrates 12, 12 'with relatively high mechanical strength that is comparable to or better than dielectric films made of polyester or polyimide only. Be done.
【0014】本発明で使用するガラス繊維の織ウェブ及
び/又は不織ウェブの好ましい例を以下の表1に示す。Preferred examples of woven and / or non-woven glass fiber webs for use in the present invention are set forth in Table 1 below.
【0015】[0015]
【表1】 [Table 1]
【0016】1:貼合せ中に約6ミルに圧縮されてい
る。1: Compressed to about 6 mils during laminating.
【0017】高温ポリエステル不織ウェブの好ましい例
はEastman Kodak製Kodel型211シ
リーズ、6デニール繊維を含んでいる。Preferred examples of high temperature polyester nonwoven webs include Eastman Kodak Model 211 series, 6 denier fibers.
【0018】本発明の回路ラミネートの重要な特徴はラ
ミネートの相対的厚さに関する。エポキシ樹脂/硬化剤
と、高温繊維の織ウェブ又は不織ウェブと、貼合せ導電
性層とを組み合わせた厚さによって、フレキシブル回路
材料は必要な物理特性、電気特性及び低コスト性を示し
得る。従って、本発明の薄いフレキシブル材料の厚さは
2〜6ミル又は50〜150ミクロンである。An important feature of the circuit laminate of the present invention relates to the relative thickness of the laminate. Due to the combined thickness of the epoxy resin / curing agent, the woven or non-woven web of high temperature fibers, and the laminated conductive layer, the flexible circuit material may exhibit the required physical, electrical and cost advantages. Thus, the thin flexible material of the present invention has a thickness of 2-6 mils or 50-150 microns.
【0019】本発明で使用する難燃化合物は複合物の5
〜50重量%(好ましくは20〜30重量%)のエポキ
シ樹脂部を含んでいる臭素化有機化合物である。臭素化
充填剤は固体又は液体であり得る。デカブロモジフェニ
ルオキシド、テトラブロモビスフェノールAのペンタブ
ロモジフェニルオキシドビス(2,3,ジブロモプロピ
ルエーテル)、一官能価臭素化グリシジルエーテル、臭
素化イミド(例えばエチレンビステトラブロモフタルイ
ミド)及び臭素化二官能価エポキシ化合物はこのクラス
の難燃剤の典型的な例である。相乗アンチモン化合物も
充填剤として含まれているならば、難燃剤系はより効果
的である。相乗化合物(例えば三酸化アンチモン又は五
酸化アンチモン)の量は、臭素:アンチモンのモル比が
1:1〜5:1(好ましくは2:1〜3:1)となるよ
うに決定すべきである。The flame retardant compound used in the present invention is a compound of 5
It is a brominated organic compound containing an epoxy resin part of ˜50 wt% (preferably 20-30 wt%). The brominated filler can be solid or liquid. Decabromodiphenyl oxide, pentabromodiphenyl oxide bis (2,3, dibromopropyl ether) of tetrabromobisphenol A, monofunctional brominated glycidyl ether, brominated imide (eg ethylene bistetrabromophthalimide) and brominated difunctional Epoxy compounds are typical examples of this class of flame retardants. The flame retardant system is more effective if a synergistic antimony compound is also included as a filler. The amount of synergistic compound (eg, antimony trioxide or antimony pentoxide) should be determined such that the bromine: antimony molar ratio is from 1: 1 to 5: 1 (preferably 2: 1 to 3: 1). ..
【0020】標準燃焼試験によって測定されるような残
燼作用を最小限に抑えるか又は排除するために、基板マ
トリックスに更に硼酸亜鉛を加えることが好ましい。更
には、マトリックスと強化ウェブとの結合を強化するた
めに、適切な結合剤(例えばシラン(グリシジル−プロ
ピル−トリメトキシ−シラン))を少量使用してもよ
い。Further zinc borate is preferably added to the substrate matrix in order to minimize or eliminate the afterburning effect as measured by the standard burn test. In addition, small amounts of suitable binders (eg silane (glycidyl-propyl-trimethoxy-silane)) may be used to strengthen the bond between the matrix and the reinforcing web.
【0021】(連続貼合せ法を実施できるように好まし
くはロール形状で)任意の適切な導電性材料を本発明に
基づいて使用してもよい。通常導電性材料は銅(1/2
〜3オンス)を含んでおり、1/2又は1オンスの銅箔
が好ましい導電性材料14,14’,16である。Any suitable electrically conductive material (preferably in roll form so that the continuous laminating process can be carried out) may be used in accordance with the present invention. Normally conductive material is copper (1/2
.About.3 ounces) and 1/2 or 1 ounce copper foil is the preferred conductive material 14,14 ', 16.
【0022】以下の非制限的な実施例1〜8で、本発明
の新規な、エポキシベースの薄いフレキシブル回路ラミ
ネートを更に説明する。全ての実施例は反応速度を増す
ために触媒/促進剤を含んでいた。しかしながら、この
ような触媒/促進剤は本発明の回路材料複合物の製造に
は必要ない。The following non-limiting Examples 1-8 further illustrate the novel, epoxy-based thin flexible circuit laminates of the present invention. All examples included a catalyst / promoter to increase the reaction rate. However, such catalysts / promoters are not required for the production of the circuit material composites of this invention.
【0023】実施例1 165gのポリアジピン酸無水物(PADA)と、20
8gのパラアミノフェノールのトリグリシジルエーテル
と、150gのジブロモフェニルグリシジルエーテルと
の混合物を最初にブレンドした。一旦均質な混合物が得
られると、75gのデカブロモジフェニルオキシドと1
30gの三酸化アンチモンとをエポキシと無水物との混
合物に加えて撹拌した。 Example 1 165 g of polyadipic anhydride (PADA), 20
A mixture of 8 g of triglycidyl ether of para-aminophenol and 150 g of dibromophenylglycidyl ether was first blended. Once a homogeneous mixture was obtained, 75 g of decabromodiphenyl oxide and 1
30 g of antimony trioxide was added to the mixture of epoxy and anhydride and stirred.
【0024】2つのロール塗布器を使用して全てがガラ
ス繊維の不織ウェブ(Freudenberg製型T1
790)にホット樹脂混合物を含浸させてラミネートを
形成した。次いで含浸させたウェブを90℃でB段階に
置き、次いで1oz/sqftの電着銅に貼合せた。1
00〜500psi、200℃で貼合せた。得られた複
合物は25重量%のガラス繊維を含み、厚さは約4ミル
であった。A non-woven web of glass fiber (Freudenberg type T1) using two roll applicators.
790) was impregnated with the hot resin mixture to form a laminate. The impregnated web was then placed in stage B at 90 ° C and then laminated to 1 oz / sqft of electrodeposited copper. 1
Lamination was performed at 200 to 500 ° C. at 00 to 500 psi. The resulting composite contained 25% by weight glass fiber and had a thickness of about 4 mils.
【0025】実施例1と同一の方法を使用して、以下の
実施例2〜8を実施した。1oz/sq ftの銅を貼
合せ、基板の厚さは2〜6ミルで変動した。Using the same method as Example 1, the following Examples 2-8 were carried out. 1 oz / sq ft of copper was laminated and the substrate thickness varied from 2 to 6 mils.
【0026】実施例2 材料 重量部 ポリアゼライン酸無水物(PAPA) 770 フェノールノボラック樹脂の多官能価グリシジルエーテル (平均官能価=2.2) 800 テトラブロモビスフェノールAのジグリシジルエーテル 300 ジブロモフェニルグリシジルエーテル 431 三酸化アンチモン 333 硼酸亜鉛 6 ポリエステルの不織布(Kodel) 680実施例3 材料 重量部 アゼライン酸 170 フェノールノボラック樹脂の多官能価グリシジルエーテル (平均官能価=3.6) 360 ジブロモフェニルグリシジルエーテル 320 三酸化アンチモン 120 エチレン−ビス−テトラブロモフタルイミド 33 グリシジル−プロピル−トリメトキシ−シラン 4 硼酸亜鉛 2 ガラス繊維の織布(BGS1610) 441実施例4 (好ましい実施例) 材料 重量部 PAPA 112 フェノールノボラック樹脂の多官能価グリシジルエーテル (平均官能価=3.6) 166 ジブロモフェニルグリシジルエーテル 62 三酸化アンチモン 57 エチレン−ビス−テトラブロモ−フタルイミド 16 グリシドキシ−プロピル−トリメトキシ−シラン 2 硼酸亜鉛 1 ガラス繊維の不織布(Vilene)(EPM4025) 103実施例5 材料 重量部 ポリセバシン酸無水物(PSPA) 206 ビスフェノールAのジグリシジルエーテル 250 ジブロモフェニルグリシジルエーテル 110 三酸化アンチモン 95 デカブロモジフェニルオキシド 47 ポリエステルの不織布(Kodel) 303実施例6 材料 重量部 PAPA 209 結合ビスフェノール単位の多官能価グリシジルエーテル (平均官能価=8.0) 373 ジブロモフェニルグリシジルエーテル 117 デカブロモジフェニルオキシド 58 三酸化アンチモン 205 グリシジルプロピルトリメトキシシラン 4 ガラス繊維の織布強化材 (Clark−Schwebel1080) 240実施例7 材料 重量部 ドデセニル琥珀酸無水物 266 フェノールノボラック樹脂の多官能価グリシジルエーテル (平均官能価=3.6) 178 三酸化アンチモン 80 デカブロモジフェニルオキシド 35 ポリエステルの不織布(Kodel) 185実施例8 材料 重量部 PAPA 123 臭素化フェノールノボラック樹脂の 多官能価ジグリシジルエーテル 372 p−t−ブチルフェニルグリシジルエーテル 80 エチレン−ビス−テトラブロモ−フタルイミド 21 硼酸亜鉛 3 三酸化アンチモン 55 ガラス繊維の不織布(BGF1610) 284 好ましい実施例を図示、説明したが、本発明の範囲を逸
脱することなく本発明に種々の変更を加えてもよい。従
って、本発明は例示的で非制限的である。 Example 2 Material parts by weight Polyazelaic anhydride (PAPA) 770 Polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin (average functionality = 2.2) 800 Diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A 300 Dibromophenylglycidyl ether 431 Antimony trioxide 333 Non-woven fabric of zinc borate 6 polyester (Model) 680 Example 3 Material parts by weight Azelaic acid 170 Polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin (average functionality = 3.6) 360 Dibromophenylglycidyl ether 320 Trioxide Antimony 120 ethylene-bis-tetrabromophthalimide 33 glycidyl-propyl-trimethoxy-silane 4 zinc borate 2 glass fiber woven fabric (BGS1610) 441 Example 4 (good) Preferred Example) Material Parts by Weight PAPA 112 Polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin (average functionality = 3.6) 166 Dibromophenyl glycidyl ether 62 Antimony trioxide 57 Ethylene-bis-tetrabromo-phthalimide 16 Glycidoxy-propyl- Trimethoxy-silane 2 Zinc borate 1 Non-woven fabric of glass fiber (Vilene) (EPM4025) 103 Example 5 Material parts by weight Polysebacic anhydride (PSPA) 206 Diglycidyl ether of bisphenol A 250 Dibromophenylglycidyl ether 110 Antimony trioxide 95 Decabromo polyfunctional Gurishijirue of diphenyl oxide 47 polyester nonwoven (Kodel) 303 example 6 material parts PAPA 209 coupled bisphenol units Le (average functionality = 8.0) 373 dibromophenyl glycidyl ether 117 decabromodiphenyl oxide 58 antimony trioxide 205 glycidylpropyltrimethoxysilane 4 woven reinforcement glass fiber (Clark-Schwebel1080) 240 Example 7 material parts Dodecenyl succinic anhydride 266 Polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin (Average functionality = 3.6) 178 Antimony trioxide 80 Decabromodiphenyl oxide 35 Polyester nonwoven fabric (Kodel) 185 Example 8 Material parts by weight PAPA 123 Bromine -Functionalized diglycidyl ether of modified phenol novolac resin 372 p-t-butylphenyl glycidyl ether 80 ethylene-bis-tetrabromo-phthalimide 21 zinc borate 3 Antimony trioxide 55 Glass fiber nonwoven (BGF1610) 284 Although a preferred embodiment has been shown and described, various modifications may be made to the invention without departing from the scope of the invention. Therefore, the present invention is exemplary and not limiting.
【図1】本発明の一重クラッドフレキシブル回路の横断
面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a single clad flexible circuit of the present invention.
【図2】本発明の二重クラッドフレキシブル回路の横断
面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a double clad flexible circuit of the present invention.
10,10’ 回路ラミネート 12,12’ 基板 14,14’,16 導電性層 18,18’ 繊維強化材 10, 10 'Circuit laminate 12, 12' Substrate 14, 14 ', 16 Conductive layer 18, 18' Fiber reinforcement
Claims (10)
とから本質的になる群の中から選択した少なくとも1種
の材料からなり、約260℃を超えた状態で熱安定性を
有する織繊維又は不織繊維のウェブと、 (2)多官能価エポキシとポリ酸無水物とから本質的に
なり、20〜50℃の広範なガラス転移温度を有するウ
ェブ含浸用ポリマーマトリックスとを含み、 (3)厚さが2〜6ミルのフレキシブル基板と、 (b)フレキシブル基板に貼合せられる少なくとも1つ
の導電性材料層とからなるエポキシベースのフレキシブ
ル回路ラミネート。1. A woven fabric comprising (a) (1) at least one material selected from the group consisting essentially of glass fibers and polymer fibers, and having thermal stability above about 260 ° C. A web of fibers or non-woven fibers and (2) a polymer matrix for web impregnation consisting essentially of a polyfunctional epoxy and a polyanhydride having a broad glass transition temperature of 20-50 ° C. 3) An epoxy-based flexible circuit laminate comprising a flexible substrate having a thickness of 2-6 mils and (b) at least one layer of conductive material laminated to the flexible substrate.
無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水
物及びドデセニル琥珀酸無水物からなる群の中から選択
することを特徴とする請求項1に記載の回路ラミネー
ト。2. The polyfunctional anhydride is selected from the group consisting of polyadipic anhydride, polyazelaic anhydride, polysebacic anhydride and dodecenyl succinic anhydride. The circuit laminate described in.
ェノールのトリグリシジルエーテル、フェノールノボラ
ック樹脂の多官能価グリシジルエーテル、テトラブロモ
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェノ
ールAのジグリシジルエーテル及び結合ビスフェノール
単位の多官能価グリシジルエーテルからなる群の中から
選択した少なくとも1種の多官能価エポキシ樹脂である
ことを特徴とする請求項1に記載の回路ラミネート。3. The polyfunctional epoxy is composed of triglycidyl ether of para-aminophenol, polyfunctional glycidyl ether of phenol novolac resin, diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, diglycidyl ether of bisphenol A and bound bisphenol units. The circuit laminate according to claim 1, which is at least one polyfunctional epoxy resin selected from the group consisting of functional glycidyl ethers.
ェノールのトリグリシジルエーテル、フェノールノボラ
ック樹脂の多官能価グリシジルエーテル、テトラブロモ
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、ビスフェノ
ールAのジグリシジルエーテル及び結合ビスフェノール
単位の多官能価グリシジルエーテルからなる群の中から
選択した少なくとも1種の多官能価エポキシ樹脂である
ことを特徴とする請求項2に記載の回路ラミネート。4. The polyfunctional epoxy comprises a triglycidyl ether of paraaminophenol, a polyfunctional glycidyl ether of a phenol novolac resin, a diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A, a diglycidyl ether of bisphenol A and a bound bisphenol unit. The circuit laminate according to claim 2, wherein the circuit laminate is at least one polyfunctional epoxy resin selected from the group consisting of functional glycidyl ethers.
重量%のウェブが存在し、ポリマーマトリックスに対し
て約40〜70重量%の多官能価エポキシが存在し、ポ
リマーマトリックスに対して約60〜30重量%のポリ
酸無水物が存在することを特徴とする請求項1に記載の
回路ラミネート。5. The flexible substrate is approximately 20 to 45.
Wt% web present, about 40-70 wt% polyfunctional epoxy present on polymer matrix, and about 60-30 wt% polyanhydride present on polymer matrix. The circuit laminate according to claim 1.
を強化するシラン添加剤を含んでいることを特徴とする
請求項1に記載の回路ラミネート。6. The circuit laminate of claim 1 including a silane additive that enhances the bond between the polymer matrix and the web.
化合物とを相乗的に組み合わせたものを含んでいること
を特徴とする請求項1に記載の回路ラミネート。7. The circuit laminate of claim 1 including a synergistic combination of antimony and a brominated compound for flame retardancy.
する請求項1に記載の回路ラミネート。8. The circuit laminate of claim 1 including a brominated diluent.
リシジルエーテルを含んでいることを特徴とする請求項
8に記載の回路ラミネート。9. The circuit laminate of claim 8 wherein the brominated diluent comprises dibromophenyl glycidyl ether.
る請求項1に記載の回路ラミネート。10. The circuit laminate of claim 1 including zinc borate.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US78450191A | 1991-10-30 | 1991-10-30 | |
| US784501 | 2001-02-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05218602A true JPH05218602A (en) | 1993-08-27 |
Family
ID=25132642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29340192A Pending JPH05218602A (en) | 1991-10-30 | 1992-10-30 | Thin flexible circuit laminate using epoxy as base |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05218602A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005229025A (en) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Hitachi Chem Co Ltd | Wiring-board material, and manufacturing method thereof |
-
1992
- 1992-10-30 JP JP29340192A patent/JPH05218602A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005229025A (en) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Hitachi Chem Co Ltd | Wiring-board material, and manufacturing method thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4997702A (en) | Shape retaining flexible electrical circuit | |
| US5160783A (en) | Epoxy resin-impregnated glass cloth sheet having adhesive layer | |
| JPS6251972B2 (en) | ||
| JP2006245453A (en) | Method of connecting flexible printed circuit board to other circuit board | |
| JP5272509B2 (en) | Prepreg, metal foil-clad laminate and printed wiring board | |
| JP2006216758A (en) | Connection method of printed circuit board | |
| JPH0468021A (en) | Epoxy resin composition and copper clad laminate | |
| JPH05218602A (en) | Thin flexible circuit laminate using epoxy as base | |
| JP2007005640A (en) | Circuit board interconnection method | |
| JP2004241647A (en) | Long laminate for printed wiring board and method for producing the same | |
| JP2734345B2 (en) | Method for producing glass fiber nonwoven fabric for laminate and method for producing laminate | |
| JP3343443B2 (en) | Resin composition and prepreg | |
| JPH08283436A (en) | Prepreg and copper clad laminate | |
| JP3514172B2 (en) | Flexible printed wiring board | |
| JPH0552873B2 (en) | ||
| JPH09143247A (en) | Resin composition for laminate, prepreg and laminate | |
| JPH0685439A (en) | Flexible printed circuit board | |
| JPH0552872B2 (en) | ||
| CA2004131C (en) | A high performance epoxy based coverlay and bond ply adhesive with heat activated cure mechanism | |
| JPH0250148B2 (en) | ||
| JPH01158050A (en) | Epoxy resign laminated board | |
| JP2935329B2 (en) | Manufacturing method of metal foil clad laminate | |
| JPS61183374A (en) | Adhesive composition for flexible printed circuit board | |
| JP2720707B2 (en) | Method for producing resin composition for laminate | |
| JPH05286074A (en) | Copper-clad laminate |