JPH0521913B2 - - Google Patents

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JPH0521913B2
JPH0521913B2 JP8462684A JP8462684A JPH0521913B2 JP H0521913 B2 JPH0521913 B2 JP H0521913B2 JP 8462684 A JP8462684 A JP 8462684A JP 8462684 A JP8462684 A JP 8462684A JP H0521913 B2 JPH0521913 B2 JP H0521913B2
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JP
Japan
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ring
group
reaction
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water
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JP8462684A
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JPS60226885A (ja
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Takeshi Hayano
Hiroo Matsumoto
Toshuki Yoshioka
Minoru Furukawa
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Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は抗菌薬として有用な一般式() (式中、R1は低級アルキル基を、Y1はイミダ
ゾリル基,イソオキサゾリル基,アミノチアジア
ゾリル基,ピロリジニル基又はオキソピロリジニ
ル基を表わす。Y2は2−アミノチアゾリル基を
表わす。nは0,1又は2を表わす。)で表わさ
れる化合物及びその塩に関する。 また、式()で表わされる化合物の塩として
はギ酸、メタンスルホン酸等の有機酸及び塩酸、
硫酸等の無機酸との塩、あるいはカルボン酸のナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩及び
マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類
金属塩が挙げられる。 本発明の一般式()で表わされる化合物は、
いずれも新規化合物であり、次に示す製造法A,
B又はCによつて製造することができる。 製造法A (式中、R1,Y1,Y2及びnは前記に同じであ
りR2は低級アルキル基を表わす。) 式()の化合物のセフエム環3位アシルオキ
シル基の置換ピリジニオ基への変換反応は、式
()の化合物又はその塩を沃化ナトリウム、チ
オシアン化カリウムの如き無機塩又はp−トルエ
ンスルホン酸ナトリウムの如き有機塩の存在下に
相当する式()の化合物と可及的少量の水又は
含水溶媒、例えば水とアセトニトリル、アセトン
又はジオキサン等の混液中で加熱することによつ
て目的とする式()の化合物を製造することが
できる。この反応は通常40〜100℃、好ましくは
60〜80℃で15分間〜8時間、好ましくは30分間〜
2時間行なわれ、必要ならば塩酸の如き無機酸で
PHを4〜8の範囲に調節して行えばよい。 製造法B (式中、R1及びnは前記に同じであり、Z2は
カルボキシル基の保護基を、X1及びX2は同じ又
は異なるハロゲン原子を、Y11は保護基を有する
こともあるY1を、Y21は保護基を有することもあ
るY2を表わし、Y1及びY2は前記に同じである。) 本製造法においてY1又はY2が置換基としてア
ミノ基を有するか、もしくは環構成原子として窒
素原子を有し、該窒素原子が水素原子と結合して
いる複素環である場合には、一般に該アミノ基及
び窒素原子をアミノ基の保護基で保護して反応を
行うことが望ましい。 アミノ基の保護基としては、ホルミル、トリチ
ル、第三級ブトキシカルボニル及びp−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル等があげられる。又、
前記のカルボキシル基の保護基としては、p−ニ
トロベンジル、第三級ブチル及びベンズヒドリル
等があげられる。 製造法Bは、前記化学反応式から明らかなよう
に置換反応、脱オキシド反応及び脱保護基反応よ
り構成され、以下に各反応を説明する。 置換反応 式()の化合物を式(V)の化合物とアセトン、
メチルエチルケトン、ジクロルメタン、テトラヒ
ドロフラン又はアセトニトリル等の反応に関与し
ない溶媒中もしくはそれらの混合溶媒中で反応さ
せることにより式()の化合物を製造すること
ができる。反応は通常0〜50℃、好ましくは10〜
30℃で3〜24時間行なわれる。 脱オキシド反応 式()の化合物をN,N−ジメチルホルムア
ミド又はN,N−ジメチルアセトアミド等の反応
に関与しない溶媒中三塩化燐又は三臭化燐等の脱
オキシ剤と反応させることにより式()の化合
物を製造することができる。反応は通常−70〜0
℃好ましくは−50〜−20℃で15分間〜3時間、好
ましくは30分間〜60分間行なわれる。 脱保護基反応 式()の化合物における保護基の脱離反応は
塩酸の如き無機酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸の如
き有機酸あるいはこれらの混合液中で進行し、目
的とする式()の化合物を製造することができ
る。反応は通常0〜50℃、好ましくは15〜30℃で
15分間〜3時間、好ましくは30分間〜60分間行な
われる。 製造法C (式中、R1,Y11,Y21およびnは前記に同
じ。) 本製造法は化学反応式から明らかなように縮合
反応、更に必要な場合には脱保護基反応より構成
される。以下に各反応を説明する。 縮合反応 式()の化合物と式()の化合物との縮合
反応は式()の化合物を五塩化燐、チオニルク
ロリドもしくはオキザリルクロリド等と処理する
か、又はN,N−ジメチルホルムアミドとオキシ
塩化燐等により調整されるビールスマイヤー試薬
と処理することにより得られる酸ハライドと、式
()の化合物とを酢酸エチル、アセトニトリル、
ジクロルメタン等の反応に関与しない溶媒中、
N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド
あるいはトリエチルアミン、炭酸水素ナトリウ
ム、プロピレンオキシド等の存在下反応させるこ
とにより式(X)の化合物を製造することができる。
反応は通常−50〜50℃、好ましくは−20〜30℃で
行なわれる。 脱保護基反応 このようにして製造された式(X)の化合物におけ
る保護基の脱離反応は塩酸の如き無機酸、ギ酸、
トリフルオロ酢酸の如き有機酸あるいはこれらの
混合液中で進行し、目的とする化合物(I)を製造す
ることができる。反応は通常0〜50℃好ましくは
15〜30℃で行なわれる。 原料の製造法 製造法Cにおける原料化合物()は以下のよ
うにして製造することができる。 即ち、7−アミノセフアロスポラン酸又はその
塩をジクロルメタン、アセトニトリル等の有機溶
媒中トリフロロメタンスルホン酸、トリクロロメ
タンスルホン酸等のハロスルホン酸の存在下、ト
リメチルシリルハライド、ヨウ化ナトリウムある
いはチオシアン化カリ等と反応させ次いで前記の
式(X)の化合物と反応させることにより式()の
化合物を製造することができる。 又、7−アシルアミノセフアロスポラン酸をア
セトニトリル等の有機溶媒と水の混液中式(X)の化
合物及びヨウ化ナトリウム、チオシアン化カリ等
の無機塩と加熱することにより7−アシルアミノ
−3−(置換ピリジニオメチル)−3−セフエム−
4−カルボキシレートを製造することができる。
この化合物をN,O−ビス(トリメチルシリルア
セトアミド)等のシリル化剤でエステル化し、次
いで五塩化燐等のイミノクロル化剤及び1,3−
ブタンジオール等のイミノエーテル化剤を順次反
応させ、7−アシル基を脱離して式()の化合
物を製造することも可能である。この場合、アシ
ル基としては通常のものが使用可能であるが、フ
エニルアセチル、チエニルアセチル、アミノアジ
ピル等が好適に使用される。 本発明の式(I)の化合物及びその中間体はオキシ
イミノ基を有し、これらの化合物には以下に示す
シン異性体及びアンチ異性体が存在する。一般に
シン異性体が優れた抗菌活性を示す。
【式】 〔発明の効果〕
本発明の化合物は広域抗菌スペクトルを示し緑
膿菌を含むグラム陰性菌及びグラム陽性菌に対し
て強い抗菌活性を示す。それらの結果をセフオタ
キシムを対照薬としてMIC値で示した。最小発
育阻止濃度(MIC、μg/ml) 〔接種菌量:106/ml、、培養条件:37℃、18時
間〕
〔実施例〕
実施例 1 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔4−
{(1H−イミダゾール−4−イル)メチルチオ}
ピリジニオ〕メチル−3−セフエム−4−カルボ
キシラート・三塩酸塩(シン異性体) a) ピリジン−4−チオール1.56gをアセトニ
トリル80mlに溶かし、氷冷下にトリエチルアミ
ン1.97mlを加える。ついで、4−クロロメチル
−1−トリチル−1H−イムダゾール4.08gを
アセトニトリル120mlに溶かした溶液を滴下し、
氷冷下に40分間撹拌する。溶媒を留去し、残渣
を水とクロロホルムで分配する。クロロホルム
層は水洗し、芒硝で乾燥したのち、溶媒を留去
する。得られる油状残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、クロロホルム溶出分
から融点170〜172℃の4−(1−トリチル−1H
−イミダゾール−4−イル)メチルチオピリジ
ン1.07gを得る。 NMRδCDCl3 ppn: 4.15(2H,s,メチレン基) 6.70(1H,s,イミダゾール環5位H) 7.00〜7.30(15H,m,トリチル基) 8.30(2H,d,ピリジン環2位および6位
H) b) 7β−〔2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−ブロモメチル−3−セフエム−4
−カルボン酸第三級ブチルエステル−1−オキ
シド790mgおよび4−(1−トリチル−1H−イ
ミダゾール−4−イル)メチルチオピリジン
1.08gをアセトン20mlとテトラヒドロフラン15
mlの混液に溶かし、氷冷下に30分間撹拌する。
ついで、室温で16時間撹拌し溶媒を留去したの
ち残渣をエーテルで処理して固化し、濾取す
る。これをN,N−ジメチルホルムアミド12ml
に溶かし、−50〜−60℃に冷却して三塩化燐
0.36mlを滴下し、同温度で1.5時間撹拌する。
反応液にクロロホルムを加えて、飽和食塩水で
洗い、芒硝で乾燥したのち溶媒を留去し、残渣
にエーテルを加えて不溶物を濾取する。 得られた粉末を氷冷下90%ギ酸15mlに溶か
し、同温度で30分間、ついで室温で3.5時間撹
拌する。不溶物を濾去し、ギ酸を留去し、得ら
れる残渣をアニソール2mlおよびトリフルオロ
酢酸2mlに溶かして氷冷下に1時間撹拌する。
溶媒を濃縮し、イソプロピルエーテルを加えて
析出物を濾取する。これを水に溶かして炭酸水
素ナトリウムでPHを6〜7に調整し、ダイヤイ
オンHP−20のカラムクロマトグラフイーに付
し、水−アセトン(90:10)の混液で溶出する
部分から得られる粗晶を逆相高速液体クロマト
グラフイーで精製し、水−メタノール(95:
5)を塩酸でPH3とした混液で展開すると、目
的とする表題化合物を得る。融点175℃より
徐々に分解。 NMR δD2O ppn: 3.30,3.75(各1H,d,セフエム環2位H) 4.09(3H,s,メトキシ基) 4.71(2H,s,メチレンチオ基) 5.30,5.51(各1H,d,セフエム環3位CH2) 5.35(1H,d,セフエム環6H) 7.18(1H,s,チアゾール環5位H) 7.60(1H,s,イミダゾール環5位H) 7.90,8.63(各2H,d,ピリジン環H) 8.85(1H,s,イミダゾール環2位H) 実施例 2 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔4−
(2−ピロリジノエチル)チオピリジニオ〕メチ
ル−3−セフエム−4−カルボキシラート・三塩
酸塩(シン異性体) a) 4−(2−ブロモエチル)チオピリジン
2.18gおよびピロリジン1.42gの混合物を室温
で2時間撹拌する。反応液に水および酢酸エチ
ルを加えて分液する。酢酸エチル層を水洗し、
芒硝で乾燥したのち溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフーに付し、クロ
ロホルム−メタノール(95:5)で溶出する画
分より油状の4−(2−ピロリジノエチル)チ
オピリジン0.88gを得る。 NMR δCDCl3 ppn: 1.80(4H,m,ピロリジン環3位および4位
H) 2.55(4H,m,ピロリジン環2位および5位
H) 2.80,3.10(各2H,m,エチレン基) 7.09および8.32(各2H,d−d,ピリジン環
H) b) 7β−〔2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−ブロモメチル−3−セフエム−4
−カルボン酸第三級ブチルエステル−1−オキ
シド0.79gおよび4−(2−ピロリジノエチル)
チオピリジン0.62gをアセトン5mlに溶かし、
室温で6時間撹拌する。反応液をエーテル100
mlに滴下し、析出物を濾取する。 得られた粉末880mgをN,N−ジメチルホル
ムアミド8mlに溶かし、−50〜−60℃に冷却し
て三塩化燐0.25mlを加え、同温度で1.5時間撹
拌する。反応液を氷水中に注ぎ、クロロホルム
で抽出する。抽出液は水洗し、乾燥したのち、
溶媒を留去する。残渣にエーテルを加え析出物
を濾取する。 上記粗晶を90%ギ酸14mlに溶かして、室温で
1時間撹拌する。反応液を濃縮乾固し、残渣を
エーテルで処理して析出物を濾取する。得られ
た粉末をトリフルオロ酢酸3mlとアニソール3
mlの混液に溶かし、室温で1時間撹拌する。反
応液を濃縮乾固し、残渣をエーテルで処理して
析出物を濾取する。これを水に溶かしてダイヤ
イオンHP−20のカラムクロマトグラフイーに
付し、水−エタノール(90:10)の混液で展開
する。得られた粗晶を逆相高速液体クロマトグ
ラフイーに付し、水−メタノール(90:10)を
塩酸でPH1.5〜2.0に調整した混液で展開すると
目的とする表題化合物を得る。融点150〜170℃
(分解)。 NMR δD2O ppn: 1.94〜2.30(4H,m,ピロリジン環3位およ
び4位H) 3.12〜3.40(3H,m,−SCH2基およびセフエ
ム環2位H) 3.60〜3.86(7H,m,−CH2N基,ピロリジン
環2位および5位Hおよびセフエム環2位
H) 4.07(3H,s,メトキシ基) 5.28,5.54(各1H,d,セフエム環3位CH2) 5.33(1H,d,セフエム環6位H) 5.89(1H,d,セフエム環7位H) 7.17(1H,s,チアゾール環5位H) 7.91,8.68(各2H,d,ピリジン環H) 実施例 3 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔4−
(2−オキソピロリジン−3−イル)チオピリジ
ニオ〕メチル−3−セフエム−4−カルボキシラ
ート(シン異性体) a) 4−メルカプトピリジン1.33g,3−クロ
ロ−2−ピロリドン1.2gおよびトリエチルア
ミン2mlをアセトニトリル30mlに溶かして室温
で24時間撹拌する。溶媒を留去し、残渣をクロ
ロホルムと水で分配する。クロロホルム層は水
洗し、芒硝で乾燥したのちシリカゲルカラムク
ロマトグラフイーに付し、クロロホルム−メタ
ノールの混液で溶出すると4−(2−オキソピ
ロリジン−3−イル)チオピリジン1.4gを得
る。 NMR δCDCl3 ppn: 2.20〜2.90(2H,m,ピロリジン環4位H) 3.43(2H,t,ピロリジン環5位H) 4.00(1H,t,ピロリジン環3位H) 7.26,8.38(各2H,d,ピリジン環H) b) 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3
−アセトキシメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸ナトリウム950mg、沃化ナトリウム3.0g
および4−(2−オキソピロリジン−3−イル)
チオピリジン1.4gをアセトニトリル−水
(3:1)の混液8mlに加えて75℃で2時間撹
拌する。冷後、反応液をアセトン中に注ぎ、析
出物を濾取する。得られた粉末を水に溶かし、
ダイヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフ
イーに付し、水−テトラヒドロフラン(95:
5)の混液で展開する。更に、逆相高速液体ク
ロマトグラフイーに付し、水−アセトニトリル
(88:12)の混液で展開すると目的とする表題
化合物を得る。融点160〜175℃(分解)。 NMR δD2O ppn: 2.30〜2.95(2H,m,ピロリジン環4位H) 3.21,3.65(各1H,d,セフエム環2位H) 3.55(2H,m,ピロリジン環5位H) 3.97(3H,s,メトキシ基) 4.70(1H,t,ピロリジン環3位H) 5.20,5.42(各1H,d,セフエム環3位CH2) 5.28(1H,d,セフエム環6位H) 5.90(1H,d,セフエム環7位H) 7.00(1H,s,チアゾール環5位H) 実施例 4 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔4−
{(イソオキサゾール−3−イル)メチルチオ}ピ
リジニオ〕メチル−3−セフエム−4−カルボキ
シラート(シン異性体) a) イソオキサゾール−3−カルボン酸エチル
10.3gをテトラヒドロフラン200mlに溶かし、
氷冷下に水素化ホウ素リチウム3.25gを加えて
同温度で1時間撹拌する。反応液に水を加えて
析出物を濾去し、テトラヒドロフランを留去し
たのち、エーテルで抽出する。抽出液は芒硝で
乾燥し、溶媒を留去する。得られた油状残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、
クロロホルム溶出分から3−ヒドロキシメチル
イソオキサゾール4.85gを無色油状物として得
る。 NMR δCDCl3 ppn: 4.70(2H,s,イソオキサゾール環3位
CH2) 6.35(1H,d,イソオキサゾール環4位H) 8.30(1H,d,イオキサゾール環5位H) b) 3−ヒドロキシメチルイソオキサゾール
240mgをピリジン2mlに溶かし、氷冷下にp−
トルエンスルホン酸クロリド690mgを加えて同
温度で1時間撹拌する。反応液を減圧乾固し、
残渣に水を加えてエーテルで抽出する。抽出液
は10%塩酸で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
たのち、溶媒を留去する。残渣はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム
で溶出・分離すると3−(p−トルエンスルホ
ニルオキシ)メチルイソオキサゾール285mgを
得る。融点66〜67℃。 NMR δCDCl3 ppn: 2.43(3H,s,メチル基) 5.10(2H,s,イソオキサゾール環3位
CH2) 6.35(1H,d,イソオキサゾール環4位H) 7.25,7.75(各2H,d,ベンゼン環H) 8.30(1H,d,イソオキサゾール環5位H) c) 4−メルカプトピリジン62mgをアセトニト
リル3mlに溶かし、これにトリエチルアミン60
mgを加える。3−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチルイソオキサゾール140mgをアセト
ニトリル2mlに溶かした溶液を上記溶液に加え
て室温で1.5時間撹拌する。溶媒を留去し、残
渣に水を加えてクロロホルムで抽出する。抽出
液は芒硝で乾燥後、溶媒を留去して得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付
し、クロロホルム溶出分から4−(イソオキサ
ゾール−3−イル)メチルチオピリジン90mgを
得る。融点56〜58℃。 NMR δCDCl3 ppn: 4.21(2H,s,イソオキサゾール環3位
CH2) 6.31(1H,d,イソオキサゾール環4位H) 7.15(2H,d,ピリジン環3位および5位
H) 8.30〜8.40(3H,m,ピリジン環2位および
6位,イソオキサゾール環5位H) d) 7β−〔2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−メトキシイミノアセトア
ミド〕−3−ブロモメチル−3−セフエム−4
−カルボン酸第三級ブチルエステル−1−オキ
シド1.58gおよび4−(イソオキサゾール−3
−イル)メチルチオピリジン764mgをアセトン
8mlに溶かし、室温で3時間、ついで40℃で3
時間撹拌する。溶媒を留去し、残渣に水を加え
てクロロホルムで抽出する。抽出液は芒硝で乾
燥し、溶媒を留去したのち、残渣をエーテルで
処理し、析出物を濾取する。 この粉末1.35gをN,N−ジメチルホルムア
ミド10mlに溶かし、−40〜−30℃に冷却して三
塩化燐0.9mlを滴下し、同温度で1時間撹拌す
る。反応液にクロロホルムを加えて水洗し、芒
硝で乾燥したのち溶媒を留去し、残渣をエーテ
ルで処理して析出晶を濾取する。 この粉末1.2gを90%ギ酸25mlに溶かして、
室温で2時間撹拌する。不溶物を濾去し、溶媒
を留去して得られる残渣をエーテルで固化し
て、析出晶を濾取する。これをアニソール4ml
とトリフルオロ酢酸8mlの混液に溶かして室温
で70分間撹拌する。反応液を減圧乾固し、残渣
とエーテルで固化して得られる粉末830mgを水
に溶かし、ダイヤイオンHP−20のカラムクロ
マトグラフイーに付し、水−アセトン(80:
20)で展開する。得られた粗晶を逆相高速液体
クロマトグラフイーに付し、水−メタノール
(80:20)で展開すると目的とする表題化合物
を得る。融点168℃より徐々に分解。 NMR δD2O ppn: 3.17,3.61(各1H,d,セフエム環2位H) 3.98(3H,s,メトキシ基) 4.62(2H,s,イソオキサゾール環3位
CH2) 5.17,5.37(各1H,d,セフエム環3位CH2) 5.30(1H,d,セフエム環6位H) 5.84(1H,d,セフエム環7位H) 6.62(1H,d,イソオキサゾール環4位H) 7.00(1H,s,チアゾール環5位H) 7.85(2H,d,ピリジン環3位および5位
H) 8.60(2H,d,ピリジン環2位および6位
H) 8.65(1H,d,イソオキサゾール環5位H) IR νKBr nax(cm-1):1770(β−ラクタムC=0) 実施例 5 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔4−
(2−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−5
−イル)チオピリジニオ〕メチル−3−セフエム
−4−カルボキシラート・三塩酸塩(シン異性
体) a) 4−クロロピリジン塩酸塩2.0g、2−ア
ミノ−5−メルカプト−1,栄 3,4−チアジアゾール2.25gおよびトリエチ
ルアミン4.55gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド20mlに加えて1時間還流する。反応液を減圧
乾固し、残渣に水を加えてクロロホルムで抽出
する。抽出液は茫然で乾燥し、クロロホルムを
留去したのち、残渣をエーテルで処理して析出
物を濾取すると融点179〜183℃(分解)の4−
(2−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−
5−イル)チオピリジン2.16gを得る。 NMR δDMSO-d6 ppn: 7.15(2H,d,ピリジン環3位および5位
H) 7.69(2H,s,アミノ基,D2O添加により消
失) 8.38(2H,d,ピリジン環2位および6位
H) b) 7β−〔2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3
−アセトキシメチル−3−セフエム−4−カル
ボン酸ナトリウム1.0g、沃化ナトリウム2.5g
および4−(2−アミノ−1,3,4−チアジ
アゾール−5−イル)チオピリジン0.88gを水
−アセトニトリル(1:3)の混液1mlに加え
て70〜80℃で1時間撹拌する。冷後、反応液を
アセトン中に注ぎ、析出物を濾取する。得られ
た粉末を水に溶かしてダイヤイオンHP−20の
カラムクロマトグラフイーに付し、水−メタノ
ール(80:20)の混液で展開して得られる粗晶
を、逆相高速液体クロマトグラフイーに付し、
水−メタノール(85:15)を塩酸でPH2に調整
した混液で展開すると、目的とする表題化合物
を得る。融点202℃より徐々に分解。 NMR δDMSO-d6 ppn: 3.44,3.61(各1H,d,セフエム環2位H) 3.92(3H,s,メトキシ基) 5.25(1H,d,セフエム環6位H) 5.49(2H,d,セフエム環3位CH2) 5.93(1H,d,セフエム環7位H) 7.98(2H,d,ピリジン環3位および5位
H) 8.88(2H,d,ピリジン環2位および6位
H)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は低級アルキル基を表わす。Y1は
    イミダゾリル基、イソオキサゾリル基、アミノチ
    アジアゾリル基、ピロリジニル基又はオキソピロ
    リジニル基を表わす。Y2は2−アミノチアゾリ
    ル基を表わす。nは0,1又は2を表わす。)で
    表わされる化合物及びその塩。
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