JPH05221531A - 粉体触媒連続供給装置及び触媒供給システム - Google Patents
粉体触媒連続供給装置及び触媒供給システムInfo
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- JPH05221531A JPH05221531A JP4028308A JP2830892A JPH05221531A JP H05221531 A JPH05221531 A JP H05221531A JP 4028308 A JP4028308 A JP 4028308A JP 2830892 A JP2830892 A JP 2830892A JP H05221531 A JPH05221531 A JP H05221531A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/0035—Periodical feeding or evacuation
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、均一なポリオレフィンの製造を可
能にする触媒連続供給装置及び触媒供給システムを提供
する。 【構成】 本発明の粉体触媒連続供給装置は、上部に触
媒導入口と底面から自然落下を利用して触媒を供給する
触媒供給口とを備えた触媒貯蔵手段と、触媒貯蔵手段内
に設けられ、触媒供給口に、実質的に連続して触媒を供
給する触媒供給手段と、触媒供給手段から前記触媒供給
口に供給される触媒を、加圧気体により触媒供給口から
強制的に触媒を排出させる強制排出手段とを備えたこと
を特徴とする。
能にする触媒連続供給装置及び触媒供給システムを提供
する。 【構成】 本発明の粉体触媒連続供給装置は、上部に触
媒導入口と底面から自然落下を利用して触媒を供給する
触媒供給口とを備えた触媒貯蔵手段と、触媒貯蔵手段内
に設けられ、触媒供給口に、実質的に連続して触媒を供
給する触媒供給手段と、触媒供給手段から前記触媒供給
口に供給される触媒を、加圧気体により触媒供給口から
強制的に触媒を排出させる強制排出手段とを備えたこと
を特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は粉体触媒供給装置及び触
媒供給システムに関し、特にオレフィン気相重合反応に
適した粉体触媒供給装置及び触媒供給システムに関す
る。
媒供給システムに関し、特にオレフィン気相重合反応に
適した粉体触媒供給装置及び触媒供給システムに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、オレフィン気相重合反応容器によ
って、ポリオレフィンを製造する装置においては、粉体
触媒を当該反応容器内に供給する必要がある。この粉体
触媒は連続的に供給されるのが望ましいが、現実には、
高圧下の気相重合反応容器に粉粒体を連続的にかつ定量
供給する装置は存在していない。特公昭４９−１７４２
６号、特開昭６０−２２７８２４号に開示される通り触
媒を計量管で計量し、不活性ガスをキャリアガスとして
使用して供給するバッチ計量供給方式が採用されている
のが一般的である。バッチ計量供給方式の一例を図５に
従って説明する。気相重合反応器１内へ粉体の触媒をオ
レフィンガス又は不活性ガスを搬送用ガスとして用い
て、触媒貯蔵ホッパ２から気相重合反応容器１へ供給
し、重合反応を起こさせてポリオレフィンを製造する。
そして、この触媒供給の方法では、オレフィンガスの触
媒貯蔵ホッパ２内への侵入による粉体の固化を防止する
ため、計量管３を利用したバッチ供給方式を採用してい
る。具体的には、バルブ４、５、６を閉じた状態でバル
ブ８を開き、ボリュームタンク７内に反応に寄与しない
不活性ガスを充填し、その後、バルブ８を閉じ、バルブ
４を開き、計量管３内に触媒貯蔵ホッパ２から触媒を注
入する。その後、バルブ４を閉じ、バルブ５、６を開い
て、触媒供給管９内に、計量管３内の触媒をボリューム
タンク７からの圧送気体により供給する。触媒供給管９
内に供給された触媒は、その中を流れているオレフィン
ガスにより同伴されて気相重合反応器１内に供給され
る。この動作を繰り返すことにより、オレフィンガスの
触媒貯蔵ホッパへの侵入を防ぎ、高圧下の気相重合反応
器への触媒の供給を可能にしていた。気相重合反応器１
内では、供給された触媒により、重合反応が促進されポ
リオレフィンが製造されていた。
って、ポリオレフィンを製造する装置においては、粉体
触媒を当該反応容器内に供給する必要がある。この粉体
触媒は連続的に供給されるのが望ましいが、現実には、
高圧下の気相重合反応容器に粉粒体を連続的にかつ定量
供給する装置は存在していない。特公昭４９−１７４２
６号、特開昭６０−２２７８２４号に開示される通り触
媒を計量管で計量し、不活性ガスをキャリアガスとして
使用して供給するバッチ計量供給方式が採用されている
のが一般的である。バッチ計量供給方式の一例を図５に
従って説明する。気相重合反応器１内へ粉体の触媒をオ
レフィンガス又は不活性ガスを搬送用ガスとして用い
て、触媒貯蔵ホッパ２から気相重合反応容器１へ供給
し、重合反応を起こさせてポリオレフィンを製造する。
そして、この触媒供給の方法では、オレフィンガスの触
媒貯蔵ホッパ２内への侵入による粉体の固化を防止する
ため、計量管３を利用したバッチ供給方式を採用してい
る。具体的には、バルブ４、５、６を閉じた状態でバル
ブ８を開き、ボリュームタンク７内に反応に寄与しない
不活性ガスを充填し、その後、バルブ８を閉じ、バルブ
４を開き、計量管３内に触媒貯蔵ホッパ２から触媒を注
入する。その後、バルブ４を閉じ、バルブ５、６を開い
て、触媒供給管９内に、計量管３内の触媒をボリューム
タンク７からの圧送気体により供給する。触媒供給管９
内に供給された触媒は、その中を流れているオレフィン
ガスにより同伴されて気相重合反応器１内に供給され
る。この動作を繰り返すことにより、オレフィンガスの
触媒貯蔵ホッパへの侵入を防ぎ、高圧下の気相重合反応
器への触媒の供給を可能にしていた。気相重合反応器１
内では、供給された触媒により、重合反応が促進されポ
リオレフィンが製造されていた。
【０００３】更に、特公昭５３ー８６６６号公報では回
転軸部材を有する計量手段からなる粒状固体を反応室に
噴射する装置を開示しているが、計量手段から反応室へ
は内径０．７６〜３．２ｍｍの毛細管で粒状固体を給送
しているため、大量の粒状固体を給送する場合、毛細管
内での閉塞の恐れがあり工業的規模の反応器に安定した
粒状固体の給送は困難である。
転軸部材を有する計量手段からなる粒状固体を反応室に
噴射する装置を開示しているが、計量手段から反応室へ
は内径０．７６〜３．２ｍｍの毛細管で粒状固体を給送
しているため、大量の粒状固体を給送する場合、毛細管
内での閉塞の恐れがあり工業的規模の反応器に安定した
粒状固体の給送は困難である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のシステムでは、
触媒貯蔵ホッパ２内へのオレフィンガスの侵入は防止さ
れ、触媒の重合による固化は防止されるが、触媒貯蔵ホ
ッパから触媒供給管９への触媒の供給が間欠的なものと
なる。そのため、気相重合反応器１内に触媒が間欠的に
供給され、気相重合反応器１内で触媒の均一分散が阻害
され、濃密な部分が形成され局部重合による塊化物の生
成及び反応器内混合不良しいては、反応器の閉塞の危険
性が高くなる。また、均一な製品の製造にも悪影響が生
じる。ここで、計量管の容量を減少させ間欠供給の周期
を短縮することも考えられるが、この場合、バルブの開
閉頻度が大となり、その装置寿命が著しく短くなり好ま
しくない。
触媒貯蔵ホッパ２内へのオレフィンガスの侵入は防止さ
れ、触媒の重合による固化は防止されるが、触媒貯蔵ホ
ッパから触媒供給管９への触媒の供給が間欠的なものと
なる。そのため、気相重合反応器１内に触媒が間欠的に
供給され、気相重合反応器１内で触媒の均一分散が阻害
され、濃密な部分が形成され局部重合による塊化物の生
成及び反応器内混合不良しいては、反応器の閉塞の危険
性が高くなる。また、均一な製品の製造にも悪影響が生
じる。ここで、計量管の容量を減少させ間欠供給の周期
を短縮することも考えられるが、この場合、バルブの開
閉頻度が大となり、その装置寿命が著しく短くなり好ま
しくない。
【０００５】本発明は、気相重合反応容器内への粉体触
媒供給の際、供給する不活性ガスの量を最小とし、実質
的に連続化することによって、当該反応容器内の触媒の
分散の不均一による塊化物の生成を防止し、更に均一な
品質のポリオレフィンを製造することを可能にする粉体
触媒供給装置及び触媒供給システムを提供することを目
的とする。
媒供給の際、供給する不活性ガスの量を最小とし、実質
的に連続化することによって、当該反応容器内の触媒の
分散の不均一による塊化物の生成を防止し、更に均一な
品質のポリオレフィンを製造することを可能にする粉体
触媒供給装置及び触媒供給システムを提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の粉体媒連続供給
装置では、上部に触媒導入口と底面から自然落下を利用
して触媒を供給する触媒供給口とを備えた触媒貯蔵手段
と、この触媒貯蔵手段内に設けられ、この触媒供給口に
実質的に連続して触媒を供給する触媒供給手段と、この
触媒供給手段から触媒供給口に供給される触媒を、加圧
気体により触媒供給口から強制的に触媒を排出させる強
制排出手段とを備えたことを特徴とする。 又、本発明
の触媒供給システムでは、上記粉体触媒連続供給装置
と、重合反応容器と、触媒供給口に接続される吸引口
と、気相重合反応容器に接続されるオレフィンガス排出
口と、オレフィンガスを導入する導入口とを備え、オレ
フィンガスを供給することにより、吸引口側に負圧を生
成し、粉体触媒連続供給装置の触媒供給口より触媒を吸
引し、気相重合反応容器に、オレフィンガスと共に供給
するエジェクタとを備えたことを特徴とする。
装置では、上部に触媒導入口と底面から自然落下を利用
して触媒を供給する触媒供給口とを備えた触媒貯蔵手段
と、この触媒貯蔵手段内に設けられ、この触媒供給口に
実質的に連続して触媒を供給する触媒供給手段と、この
触媒供給手段から触媒供給口に供給される触媒を、加圧
気体により触媒供給口から強制的に触媒を排出させる強
制排出手段とを備えたことを特徴とする。 又、本発明
の触媒供給システムでは、上記粉体触媒連続供給装置
と、重合反応容器と、触媒供給口に接続される吸引口
と、気相重合反応容器に接続されるオレフィンガス排出
口と、オレフィンガスを導入する導入口とを備え、オレ
フィンガスを供給することにより、吸引口側に負圧を生
成し、粉体触媒連続供給装置の触媒供給口より触媒を吸
引し、気相重合反応容器に、オレフィンガスと共に供給
するエジェクタとを備えたことを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明の粉体触媒連続供給装置は、上記の構成
により、重合反応用触媒貯蔵手段に設けた触媒供給口か
ら自然落下により供給される触媒が確実に排出され、気
相重合反応器へ実質的に連続して触媒が供給される。
により、重合反応用触媒貯蔵手段に設けた触媒供給口か
ら自然落下により供給される触媒が確実に排出され、気
相重合反応器へ実質的に連続して触媒が供給される。
【０００８】また、触媒供給口には気相重合反応器へ不
活性ガスを多量に供給することは、許容されないが、許
容可能な範囲内で、常時不活性ガスが流れている。従っ
て、触媒連続供給装置で計量された触媒は自重により自
然落下に加えて不活性ガスによって、強制的にエジェク
タの触媒吸引口へと排出せしめられる。この不活性ガス
による強制排出手段とエジェクタの効果によって使用す
る重合反応に寄与しない不活性ガスの量の減少が図られ
る。
活性ガスを多量に供給することは、許容されないが、許
容可能な範囲内で、常時不活性ガスが流れている。従っ
て、触媒連続供給装置で計量された触媒は自重により自
然落下に加えて不活性ガスによって、強制的にエジェク
タの触媒吸引口へと排出せしめられる。この不活性ガス
による強制排出手段とエジェクタの効果によって使用す
る重合反応に寄与しない不活性ガスの量の減少が図られ
る。
【０００９】また、本発明の触媒供給システムでは、触
媒供給装置の供給口にエジェクタによる吸引手段を装備
し、オレフィンガスを当該エジェクタを通して気相重合
反応器に供給することにより発生する吸引力で触媒を吸
引して、オレフィンガスに同伴させて気相重合反応器に
供給せしめる。
媒供給装置の供給口にエジェクタによる吸引手段を装備
し、オレフィンガスを当該エジェクタを通して気相重合
反応器に供給することにより発生する吸引力で触媒を吸
引して、オレフィンガスに同伴させて気相重合反応器に
供給せしめる。
【００１０】上記の不活性ガスの作用及びエジェクタの
作用によって触媒供給装置へのオレフィンガスの逆流は
エジェクタ〜気相重合反応器の配管が閉塞しなければ起
こらない。従って、触媒供給装置内での連合反応は防止
でき、重合体の生成による閉塞が避けられ安定した触媒
の供給が可能となる。
作用によって触媒供給装置へのオレフィンガスの逆流は
エジェクタ〜気相重合反応器の配管が閉塞しなければ起
こらない。従って、触媒供給装置内での連合反応は防止
でき、重合体の生成による閉塞が避けられ安定した触媒
の供給が可能となる。
【００１１】
【実施例】図１に、本実施例の触媒供給システムの概略
構成を示す。この触媒供給システムは、重合反応用の触
媒を貯蔵するホッパ１０と、ホッパ１０から触媒を受け
入れ、触媒を連続的に供給する触媒連続供給装置２０
と、気相重合反応容器３０と、重合反応用の材料となる
オレフィンガス又は不活性ガスを供給する供給源４０と
を備えている。ホッパ１０の供給口１０ａには、バルブ
１１が設けられており、バルブ１１を作動させることに
より、触媒連続供給装置２０への触媒の供給を調節でき
るようになっている。また、この触媒連続供給装置２０
内とホッパ１０内および触媒連続供給装置２０の吐出ラ
インの圧力差を調節するための均圧管１２が設けられ、
ホッパ１０からの触媒供給がスムーズに実施可能なよう
に構成してある。触媒連続供給装置２０は、モータ２１
を有し、このモータ２１の駆動軸２１ａは、ベルト２１
ｂを介してプーリー２１ｃにより触媒連続供給装置２０
内の回転円板２２を駆動するようになっている。原料ガ
ス供給源４０と気相重合反応容器３０とはエジェクタ５
０を介して接続され、このエジェクタ５０の吸引口５１
は、触媒連続供給装置２０の触媒供給口２３に遮断弁６
０を介して接続され、原料ガス供給口５２は原料ガス供
給源４０に流量調節装置４１を介して接続され、更に、
原料ガス排出口５３は気相重合反応容器３０に接続され
ている。このエジェクタ５０は、原料供給ガスの流量に
応じた負圧を吸引口５１に発生し、吸引口５１から吸引
された触媒は、排出口５３より原料ガスと共に気相重合
反応容器３０内に供給される。
構成を示す。この触媒供給システムは、重合反応用の触
媒を貯蔵するホッパ１０と、ホッパ１０から触媒を受け
入れ、触媒を連続的に供給する触媒連続供給装置２０
と、気相重合反応容器３０と、重合反応用の材料となる
オレフィンガス又は不活性ガスを供給する供給源４０と
を備えている。ホッパ１０の供給口１０ａには、バルブ
１１が設けられており、バルブ１１を作動させることに
より、触媒連続供給装置２０への触媒の供給を調節でき
るようになっている。また、この触媒連続供給装置２０
内とホッパ１０内および触媒連続供給装置２０の吐出ラ
インの圧力差を調節するための均圧管１２が設けられ、
ホッパ１０からの触媒供給がスムーズに実施可能なよう
に構成してある。触媒連続供給装置２０は、モータ２１
を有し、このモータ２１の駆動軸２１ａは、ベルト２１
ｂを介してプーリー２１ｃにより触媒連続供給装置２０
内の回転円板２２を駆動するようになっている。原料ガ
ス供給源４０と気相重合反応容器３０とはエジェクタ５
０を介して接続され、このエジェクタ５０の吸引口５１
は、触媒連続供給装置２０の触媒供給口２３に遮断弁６
０を介して接続され、原料ガス供給口５２は原料ガス供
給源４０に流量調節装置４１を介して接続され、更に、
原料ガス排出口５３は気相重合反応容器３０に接続され
ている。このエジェクタ５０は、原料供給ガスの流量に
応じた負圧を吸引口５１に発生し、吸引口５１から吸引
された触媒は、排出口５３より原料ガスと共に気相重合
反応容器３０内に供給される。
【００１２】一方触媒連続供給装置２０には、不活性ガ
ス、例えば窒素ガス等の供給源７０が流量調節装置７１
を介して接続されている。更に、エジェクタ５０の原料
ガス排出口５３と吸引口５１との間にはこれらの間の差
圧を測定するための差圧計５４が設けられており、原料
ガス供給口５２から入った原料ガスが吸引口５１に侵入
しないように監視することが出来る。
ス、例えば窒素ガス等の供給源７０が流量調節装置７１
を介して接続されている。更に、エジェクタ５０の原料
ガス排出口５３と吸引口５１との間にはこれらの間の差
圧を測定するための差圧計５４が設けられており、原料
ガス供給口５２から入った原料ガスが吸引口５１に侵入
しないように監視することが出来る。
【００１３】図２は、触媒連続供給装置２０の断面構造
を示す。触媒連続供給装置２０はベース部２３と、この
ベース部２３に固定される円筒状の周囲壁２４により構
成されている。このベース部２３には、モータ２１によ
り回転駆動される駆動軸２５が貫通する貫通穴２５ａが
設けられ、駆動軸２５は、貫通穴２５ａ内に設けられた
ベアリング及びシール部材２５ｂにより回転自在に支持
されている。この駆動軸２５の先端部には回転円板２２
が固定され、駆動軸２５により回転せしめられる。この
回転円板２２の上部には、先端が円錐形でその頂点が駆
動軸２５の回転中心の延長上にある円錐キャップ２６が
固定されている。このような円錐キャップ２６を設ける
ことにより、触媒連続供給装置２０の上部ホッパ１０よ
り供給された触媒が、回転円板２２の周辺にスムーズに
流れる。
を示す。触媒連続供給装置２０はベース部２３と、この
ベース部２３に固定される円筒状の周囲壁２４により構
成されている。このベース部２３には、モータ２１によ
り回転駆動される駆動軸２５が貫通する貫通穴２５ａが
設けられ、駆動軸２５は、貫通穴２５ａ内に設けられた
ベアリング及びシール部材２５ｂにより回転自在に支持
されている。この駆動軸２５の先端部には回転円板２２
が固定され、駆動軸２５により回転せしめられる。この
回転円板２２の上部には、先端が円錐形でその頂点が駆
動軸２５の回転中心の延長上にある円錐キャップ２６が
固定されている。このような円錐キャップ２６を設ける
ことにより、触媒連続供給装置２０の上部ホッパ１０よ
り供給された触媒が、回転円板２２の周辺にスムーズに
流れる。
【００１４】更にベース部２３の外周部には触媒供給貫
通穴２３ａが形成され、その触媒供給貫通穴２３ａのベ
ース部２３の下面には、接続パイプ及びフランジ２７が
接続されている。図３に示すように、回転円板２２の周
辺部には、円形で所定の大きさの計量貫通穴２８が同心
円上に等角で形成されている。この計量貫通穴２８の回
転中心からの位置は、回転円板回転中、この計量貫通穴
２８が、触媒供給貫通穴２３ａ上を正確に通過するよう
に選択されている。更に、この計量貫通穴２８の側面
は、図４に示すように、下に向かって外側に拡大してお
り、その傾斜角θは、安息角より僅かに大きくなるよう
に製作されている。θを安息角より僅かに大きくするこ
とにより粉粒体の滞留や閉塞を防止することが出来る。
また計量貫通穴を包含した回転円板の全面を導電性樹脂
でコーティング又は回転円板に弗素樹脂を含浸させるこ
とによって、すべり性の改善が図られる。この効果が前
述の安息角の効果に加えられることによって、いっそう
計量貫通穴内での粉粒体の滞留や閉塞が防止できる。
通穴２３ａが形成され、その触媒供給貫通穴２３ａのベ
ース部２３の下面には、接続パイプ及びフランジ２７が
接続されている。図３に示すように、回転円板２２の周
辺部には、円形で所定の大きさの計量貫通穴２８が同心
円上に等角で形成されている。この計量貫通穴２８の回
転中心からの位置は、回転円板回転中、この計量貫通穴
２８が、触媒供給貫通穴２３ａ上を正確に通過するよう
に選択されている。更に、この計量貫通穴２８の側面
は、図４に示すように、下に向かって外側に拡大してお
り、その傾斜角θは、安息角より僅かに大きくなるよう
に製作されている。θを安息角より僅かに大きくするこ
とにより粉粒体の滞留や閉塞を防止することが出来る。
また計量貫通穴を包含した回転円板の全面を導電性樹脂
でコーティング又は回転円板に弗素樹脂を含浸させるこ
とによって、すべり性の改善が図られる。この効果が前
述の安息角の効果に加えられることによって、いっそう
計量貫通穴内での粉粒体の滞留や閉塞が防止できる。
【００１５】かくして、触媒が連続的に計量貫通穴２８
より落下し実質的に連続した供給が実現できる。
より落下し実質的に連続した供給が実現できる。
【００１６】更に、この触媒連続供給装置２０の周囲壁
２４の一部には、図２に示す加圧ガス供給室２９が設け
られている。この加圧ガス供給室２９の下側面は、回転
円板２２の計量貫通穴２８の表面から僅か上方に位置
し、回転円板２２の回転によって運ばれてきた回転円板
上の触媒をその端辺でスリキルようになっており、実質
的に計量貫通穴２８内に存在する触媒のみが加圧ガス供
給室２９の下側に搬送される。この加圧ガス供給室２９
の底面部には、加圧ガス排出口２９ａが、また、この加
圧ガス供給室２９の一部をなす周囲壁２４には、加圧ガ
スを加圧ガス供給室２９内に導入するための加圧ガス供
給口２９ｂが設けられている。
２４の一部には、図２に示す加圧ガス供給室２９が設け
られている。この加圧ガス供給室２９の下側面は、回転
円板２２の計量貫通穴２８の表面から僅か上方に位置
し、回転円板２２の回転によって運ばれてきた回転円板
上の触媒をその端辺でスリキルようになっており、実質
的に計量貫通穴２８内に存在する触媒のみが加圧ガス供
給室２９の下側に搬送される。この加圧ガス供給室２９
の底面部には、加圧ガス排出口２９ａが、また、この加
圧ガス供給室２９の一部をなす周囲壁２４には、加圧ガ
スを加圧ガス供給室２９内に導入するための加圧ガス供
給口２９ｂが設けられている。
【００１７】次に、図１に基づいて上記実施例の触媒供
給システムの動作について説明する。
給システムの動作について説明する。
【００１８】バルブ１１を開くことにより、ホッパ１０
から所定量の触媒が触媒連続供給装置２０に供給され
る。均圧管１２により、ホッパ１０内と触媒連続供給装
置２０内及び触媒連続供給装置吐出側が均圧になってい
るため、供給はスムーズに行われる。触媒の供給が完了
すると、バルブ１１が閉じられる。そしてモータ２１が
駆動され、回転円板２２を回転させ、同時に流量調節装
置を調節し所定の量の不活性ガスを不活性ガス供給源７
０より、加圧ガス供給口２９ｂを介して、加圧ガス供給
室２９内に供給する。
から所定量の触媒が触媒連続供給装置２０に供給され
る。均圧管１２により、ホッパ１０内と触媒連続供給装
置２０内及び触媒連続供給装置吐出側が均圧になってい
るため、供給はスムーズに行われる。触媒の供給が完了
すると、バルブ１１が閉じられる。そしてモータ２１が
駆動され、回転円板２２を回転させ、同時に流量調節装
置を調節し所定の量の不活性ガスを不活性ガス供給源７
０より、加圧ガス供給口２９ｂを介して、加圧ガス供給
室２９内に供給する。
【００１９】触媒連続供給装置２０内では、ホッパ１０
から供給された触媒は、回転円板２２の周辺部に流れ
る。周辺部に流れた触媒は、計量貫通穴２８内に流れ込
み、回転円板２２の回転に伴って搬送される。図３の加
圧ガス供給室２９の側面２９ｄで、回転円板の計量貫通
穴２８の回転円板上面より上側に乗った触媒が、側面２
９ｄによりスリキられ、計量貫通穴２８内に存在する触
媒が加圧ガス供給室２９の底面側に入っていく。計量貫
通穴２８内に入って搬送された触媒は、この計量貫通穴
２８が、触媒供給貫通穴２３ａに重なると、この触媒供
給貫通穴２３ａより自然落下する。この自然落下では、
計量貫通穴２８の側面を、下に向かって外側に拡大さ
せ、その傾斜角θを、安息角より僅かに大きくなるよう
にしているため、この部分での粉粒体の滞留や閉塞をお
こす可能性が少なく、また、計量貫通穴を包含した回転
円板の全面を導電性樹脂でコーティング又は回転円板に
弗素樹脂を含浸させているため、粉粒体の自然落下がス
ムーズに行われる。更に、加圧ガス供給室２９の加圧ガ
ス排出口２９ａより噴出する加圧ガスにより更に確実に
落下せしめられる。また、このような加圧ガスを触媒供
給貫通穴２３ａに供給することにより、この貫通穴２３
ａから原料ガスが侵入せず、触媒連続供給装置２０内で
の触媒と原料ガスの接触を防止できる。
から供給された触媒は、回転円板２２の周辺部に流れ
る。周辺部に流れた触媒は、計量貫通穴２８内に流れ込
み、回転円板２２の回転に伴って搬送される。図３の加
圧ガス供給室２９の側面２９ｄで、回転円板の計量貫通
穴２８の回転円板上面より上側に乗った触媒が、側面２
９ｄによりスリキられ、計量貫通穴２８内に存在する触
媒が加圧ガス供給室２９の底面側に入っていく。計量貫
通穴２８内に入って搬送された触媒は、この計量貫通穴
２８が、触媒供給貫通穴２３ａに重なると、この触媒供
給貫通穴２３ａより自然落下する。この自然落下では、
計量貫通穴２８の側面を、下に向かって外側に拡大さ
せ、その傾斜角θを、安息角より僅かに大きくなるよう
にしているため、この部分での粉粒体の滞留や閉塞をお
こす可能性が少なく、また、計量貫通穴を包含した回転
円板の全面を導電性樹脂でコーティング又は回転円板に
弗素樹脂を含浸させているため、粉粒体の自然落下がス
ムーズに行われる。更に、加圧ガス供給室２９の加圧ガ
ス排出口２９ａより噴出する加圧ガスにより更に確実に
落下せしめられる。また、このような加圧ガスを触媒供
給貫通穴２３ａに供給することにより、この貫通穴２３
ａから原料ガスが侵入せず、触媒連続供給装置２０内で
の触媒と原料ガスの接触を防止できる。
【００２０】計量貫通穴２８は、回転円板２２上に等間
隔で形成されているので、間欠的であるが実質的に連続
供給に近い触媒の定量供給が実現できる。
隔で形成されているので、間欠的であるが実質的に連続
供給に近い触媒の定量供給が実現できる。
【００２１】この触媒供給貫通穴２３ａより供給された
触媒は、遮断弁６０を介して、エジェクタ５０に供給さ
れる。このエジェクタ５０は、原料ガス供給口５２から
の原料ガスの流量により吸引口５１に負圧が発生してお
り、この負圧により、触媒連続供給装置２０より供給さ
れた触媒が吸引され、原料ガスとともに原料ガス排出口
５３から排出され、気相重合反応容器３０内に供給され
る。このように、エジェクタを使用することによって、
従来、触媒の気相重合反応容器内へ供給に要していた不
活性ガスの量を抑制することができる。更に、負圧を利
用することにより、供給系内での原料ガスと触媒との接
触を防止しつつ触媒の実質的な連続供給が可能となる。
更に差圧計５４により吸引口５１と原料ガス排出口５３
との差圧を常に監視し、何らかの原因、例えば気相重合
反応容器３０内への原料ガス供給パイプの詰りにより吸
引口５１から原料ガスが逆流するような状態が生じたと
きは、直ちに遮断弁６０を閉じ、原料ガスの触媒連続供
給装置２０内への逆流を防止する。
触媒は、遮断弁６０を介して、エジェクタ５０に供給さ
れる。このエジェクタ５０は、原料ガス供給口５２から
の原料ガスの流量により吸引口５１に負圧が発生してお
り、この負圧により、触媒連続供給装置２０より供給さ
れた触媒が吸引され、原料ガスとともに原料ガス排出口
５３から排出され、気相重合反応容器３０内に供給され
る。このように、エジェクタを使用することによって、
従来、触媒の気相重合反応容器内へ供給に要していた不
活性ガスの量を抑制することができる。更に、負圧を利
用することにより、供給系内での原料ガスと触媒との接
触を防止しつつ触媒の実質的な連続供給が可能となる。
更に差圧計５４により吸引口５１と原料ガス排出口５３
との差圧を常に監視し、何らかの原因、例えば気相重合
反応容器３０内への原料ガス供給パイプの詰りにより吸
引口５１から原料ガスが逆流するような状態が生じたと
きは、直ちに遮断弁６０を閉じ、原料ガスの触媒連続供
給装置２０内への逆流を防止する。
【００２２】本実施例では計量貫通穴の形状はテーパ付
き貫通穴で述べたが、形状変更は自在である。計量貫通
穴の数を多くし、且つ間隔を小さくすれば実質的な触媒
の連続供給が可能となる。
き貫通穴で述べたが、形状変更は自在である。計量貫通
穴の数を多くし、且つ間隔を小さくすれば実質的な触媒
の連続供給が可能となる。
【００２３】また、回転円板の回転を可変速モータで行
うことによって、触媒供給量の連続的な変更も容易に行
うことができる。
うことによって、触媒供給量の連続的な変更も容易に行
うことができる。
【００２４】本実施例ではポリオレフィン製造に係る粉
体触媒連続供給装置及び触媒供給システムについて説明
したが、本実施例に限定されるものでなく加圧系への粉
粒体の連続定量供給装置として広く応用できる。
体触媒連続供給装置及び触媒供給システムについて説明
したが、本実施例に限定されるものでなく加圧系への粉
粒体の連続定量供給装置として広く応用できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の粉体触媒連続供給装置及び触媒
供給システムを採用することによって、気相重合反応容
器内の触媒の均一分散が図られ、塊化物の生成が防止さ
れるとともに均一で高品質なポリオレフィンの製造が可
能となる。
供給システムを採用することによって、気相重合反応容
器内の触媒の均一分散が図られ、塊化物の生成が防止さ
れるとともに均一で高品質なポリオレフィンの製造が可
能となる。
【図１】本発明に従う一実施例である触媒供給システム
の概要構成をしめす図である。
の概要構成をしめす図である。
【図２】図１に示す触媒供給システムの粉体触媒連続供
給装置の断面構造を示す図である。
給装置の断面構造を示す図である。
【図３】図２に示す触媒連続供給装置の回転円板の上面
図である。
図である。
【図４】図２に示す触媒連続供給装置の回転円板の計量
貫通穴の断面構造を示す図である。
貫通穴の断面構造を示す図である。
【図５】従来の触媒供給システムの概略構成を示す図で
ある。
ある。
１０…ホッパ ２０…触媒連続供給装置 ３０…気相重合反応容器 ４０…原料ガス供給源 ５０…エジェクタ ７０…不活性ガス供給源 ２２…回転円板 ２８…計量貫通穴 ２９…加圧ガス供給室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯野 芳雄 千葉県市原市姉崎海岸５の１ 住友化学工 業株式会社内 (72)発明者 田村 満 千葉県市原市姉崎海岸５の１ 住友化学工 業株式会社内 (72)発明者 深田 幸二 千葉県市原市姉崎海岸５の１ 住友化学工 業株式会社内 (72)発明者 秋元 祐 静岡県沼津市西椎路14番地 赤武エンジニ アリング株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 上部に触媒導入口と底面から自然落下を
利用して触媒を供給する触媒供給口とを備えた触媒貯蔵
手段と、 前記触媒貯蔵手段内に設けられ、前記触媒供給口に、実
質的に連続して触媒を供給する触媒供給手段と、 前記触媒供給手段から前記触媒供給口に供給される触媒
を、加圧気体により触媒供給口から強制的に触媒を排出
させる強制排出手段とを備えたことを特徴とする粉体触
媒連続供給装置。 - 【請求項２】 前記触媒供給手段が前記触媒貯蔵手段の
底面に垂直な軸の周りを回転する円板とこの円板を回転
数可変で回転させるモータとを有し、前記円板には前記
円板の回転中心から実質的に同心円周上に位置し、回転
中心に対し等角に位置する計量貫通穴を有しており、前
記計量貫通穴が、前記円板の回転に応じて、順次、前記
触媒貯蔵手段の触媒供給口上を通過する様に構成され、 前記触媒供給手段が、更に回転する前記円板の前記計量
貫通穴上に位置し、前記計量貫通穴が前記触媒供給口を
通過する前で、前記計量貫通穴上の過剰な触媒の量を制
限するスリキリ手段を有し、 前記計量貫通穴の鉛直方向に対する角度が安息角より大
きく、更に前記円板の表面が樹脂処理されていることを
特徴とする粉体触媒連続供給装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の粉体触媒連続供給装置
と、 気相重合反応容器との間にエジェクタを配設し、 前記エジェクタは、 前記触媒供給口に接続される吸引口と、前記気相重合反
応容器に接続される重合原料排出口と、重合原料となる
ガスを導入する導入口とを備え、重合原料となるガスを
供給することにより、前記吸引口側に負圧を生成し、前
記粉体触媒連続供給装置の前記触媒供給口より前記触媒
を吸引し、前記気相重合反応容器に、前記重合原料と共
に前記触媒を供給する触媒供給システム。 - 【請求項４】 請求項３記載の触媒供給システムにおい
て、前記エジェクタの前記吸引口と前記粉体触媒連続供
給装置の前記触媒供給口との間に遮断弁が設けられてい
る触媒供給システム。 - 【請求項５】 請求項４記載の触媒供給システムにおい
て、前記エジェクタの重合原料供給口と前記吸引口との
間の圧力差を監視する監視手段が設けられている触媒供
給システム。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4028308A JPH05221531A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 粉体触媒連続供給装置及び触媒供給システム |
| CA002085497A CA2085497C (en) | 1992-02-14 | 1993-02-12 | Continuous powder catalyst supply apparatus and catalyst supply system |
| US08/017,289 US5356599A (en) | 1992-02-14 | 1993-02-12 | Continuous powder catalyst supply apparatus and catalyst supply system |
| KR1019930001999A KR960016681B1 (ko) | 1992-02-14 | 1993-02-13 | 연속 분말상 촉매 공급장치 |
| SG1996007568A SG71669A1 (en) | 1992-02-14 | 1993-02-15 | Continuous powder catalyst supply apparatus and catalyst supply system |
| GB9302992A GB2264070B (en) | 1992-02-14 | 1993-02-15 | Continual powder catalyst supply apparatus and catalyst supply system |
| KR96030942A KR960016682B1 (en) | 1992-02-14 | 1996-07-29 | Catalyst supply apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4028308A JPH05221531A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 粉体触媒連続供給装置及び触媒供給システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221531A true JPH05221531A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=12244992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4028308A Pending JPH05221531A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 粉体触媒連続供給装置及び触媒供給システム |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5356599A (ja) |
| JP (1) | JPH05221531A (ja) |
| KR (1) | KR960016681B1 (ja) |
| CA (1) | CA2085497C (ja) |
| GB (1) | GB2264070B (ja) |
| SG (1) | SG71669A1 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002104659A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-10 | Akatake Engineering Kk | 粉体供給装置 |
| JP2002193453A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-10 | Nippon Alum Co Ltd | 粉粒体の定量供給装置 |
| JP2009502454A (ja) * | 2005-07-22 | 2009-01-29 | ケムヤ | 圧力制御システム |
| JP2010168213A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Alpha Corp | 物質供給計量装置、粒子加工装置、被覆装置及び被覆システム |
| JP2011063409A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Jeol Ltd | 粉末供給装置 |
| KR101246923B1 (ko) * | 2006-04-24 | 2013-03-25 | 고요 써모 시스템 가부시끼 가이샤 | 배출가스 처리유닛 |
| KR101426879B1 (ko) * | 2013-05-15 | 2014-08-06 | (주)대우건설 | 숏크리트 시공장비용 분말공급장치 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10052406A1 (de) | 2000-10-20 | 2002-05-23 | Bosch Gmbh Robert | Drucksensormodul |
| DE10105276A1 (de) * | 2001-02-02 | 2002-08-08 | Basell Polypropylen Gmbh | Verfahren zum Dosieren von Katalysatoren |
| US7674076B2 (en) * | 2006-07-14 | 2010-03-09 | F. W. Gartner Thermal Spraying, Ltd. | Feeder apparatus for controlled supply of feedstock |
| JP2010512993A (ja) * | 2006-12-15 | 2010-04-30 | ユニベーション・テクノロジーズ・エルエルシー | 改良された粒状固体注入装置 |
| CN102616568B (zh) * | 2012-04-13 | 2013-09-25 | 上海蓝科石化工程技术有限公司 | 催化裂化装置的催化剂无尘自动转剂系统 |
| US9505566B2 (en) * | 2013-04-02 | 2016-11-29 | National Research Council Of Canada | Powder feeder method and system |
| US9765436B2 (en) * | 2013-09-27 | 2017-09-19 | United Technologies Corporation | Cold spray powder feeders with in-situ powder blending |
| CA2857456C (en) * | 2014-07-22 | 2022-05-03 | Nova Chemicals Corporation | Improved control over particulate feed |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2574231A (en) * | 1947-10-03 | 1951-11-06 | Adamson Stephens Mfg Co | Apparatus having rotatable means for feeding aeratable powdered material from storageand dispensing such material |
| DE2062513B2 (de) * | 1970-12-18 | 1979-02-15 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Dosiervorrichtung zum Dosieren von Pulvern |
| US3779712A (en) * | 1971-11-26 | 1973-12-18 | Union Carbide Corp | Particulate solids injector apparatus |
| US4367988A (en) * | 1980-10-08 | 1983-01-11 | The Upjohn Company | Dust generator |
| DE3217406C2 (de) * | 1982-05-08 | 1986-06-05 | Pfister Gmbh, 8900 Augsburg | Vorrichtung zum kontinuierlichen gravimetrischen Dosieren von schüttfähigem Gut |
| DE3578160D1 (de) * | 1984-01-17 | 1990-07-19 | Sandoz Ag | Verfahren und vorrichtung zum foerdern von pulverfoermigem oder koernigem material. |
| FR2562077B1 (fr) * | 1984-03-30 | 1986-06-27 | Bp Chimie Sa | Dispositif et procede d'introduction d'une poudre a activite catalytique dans un reacteur de polymerisation a lit fluidise |
| DE3544014A1 (de) * | 1985-08-16 | 1987-02-19 | Avt Anlagen Verfahrenstech | Vorrichtung zum dosierten auftragen von schuettgut |
| US5209607A (en) * | 1989-08-24 | 1993-05-11 | Amoco Corporation | Powder feeder apparatus |
-
1992
- 1992-02-14 JP JP4028308A patent/JPH05221531A/ja active Pending
-
1993
- 1993-02-12 US US08/017,289 patent/US5356599A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-12 CA CA002085497A patent/CA2085497C/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-13 KR KR1019930001999A patent/KR960016681B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-15 SG SG1996007568A patent/SG71669A1/en unknown
- 1993-02-15 GB GB9302992A patent/GB2264070B/en not_active Expired - Lifetime
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| KR101426879B1 (ko) * | 2013-05-15 | 2014-08-06 | (주)대우건설 | 숏크리트 시공장비용 분말공급장치 |
Also Published As
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|---|---|
| CA2085497A1 (en) | 1993-08-15 |
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| US5356599A (en) | 1994-10-18 |
| GB2264070A (en) | 1993-08-18 |
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| GB2264070B (en) | 1996-06-26 |
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| CA2085497C (en) | 2003-06-03 |
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